JPH02270885A - ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法 - Google Patents
ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法Info
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- JPH02270885A JPH02270885A JP7076590A JP7076590A JPH02270885A JP H02270885 A JPH02270885 A JP H02270885A JP 7076590 A JP7076590 A JP 7076590A JP 7076590 A JP7076590 A JP 7076590A JP H02270885 A JPH02270885 A JP H02270885A
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- Japan
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- hexamethyldisiloxane
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- acid clay
- recovered
- activated carbon
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、不快臭を有するヘキサメチルジシロキサンの
脱臭方法に関するものであり、特には医薬品製造工業等
において、シリル化剤として用いられたトリメチルクロ
ロシランやヘキサメチルジシラザンが最終的にヘキサメ
チルジシロキサンとして回収されるが、この不快臭を存
するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のないヘキサ
メチルジシロキサンを得るという、ヘキサメチルジシロ
キサンの脱臭方法に関するものである。
脱臭方法に関するものであり、特には医薬品製造工業等
において、シリル化剤として用いられたトリメチルクロ
ロシランやヘキサメチルジシラザンが最終的にヘキサメ
チルジシロキサンとして回収されるが、この不快臭を存
するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のないヘキサ
メチルジシロキサンを得るという、ヘキサメチルジシロ
キサンの脱臭方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、医薬品、例えば、ペニシリンやセファロスポリン
等の抗生物質の製造工業等でシリル化剤として広範囲に
使用されているトリメチルクロロシランやヘキサメチル
ジシラザンより副生し、回収されるヘキサメチルジシロ
キサンには、トリメチルシリル基による保護反応が低沸
点の有機溶剤の存在下で行なわれるため、不純物として
このを機溶剤やトリメチルシラノール、トリメチルメト
キシシラン等が多量に含まれている。
等の抗生物質の製造工業等でシリル化剤として広範囲に
使用されているトリメチルクロロシランやヘキサメチル
ジシラザンより副生し、回収されるヘキサメチルジシロ
キサンには、トリメチルシリル基による保護反応が低沸
点の有機溶剤の存在下で行なわれるため、不純物として
このを機溶剤やトリメチルシラノール、トリメチルメト
キシシラン等が多量に含まれている。
医薬品メーカーにとってはヘキサメチルジシロキサンは
もはやシリル化剤としての役目を果さないため、その回
収には積極的でなく、回収したとしても回収された不快
臭を有するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のない
ヘキサメチルジシロキサンを得ることは技術的に困難で
あるために、有機溶剤の大部分を蒸留によって回収する
ことを主目的とし、残りは産業廃棄物として焼却されて
いた。また、ヘキサメチルジシロキサンを回収しても独
特の不快臭を存するため、その用途に制限があった。
もはやシリル化剤としての役目を果さないため、その回
収には積極的でなく、回収したとしても回収された不快
臭を有するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のない
ヘキサメチルジシロキサンを得ることは技術的に困難で
あるために、有機溶剤の大部分を蒸留によって回収する
ことを主目的とし、残りは産業廃棄物として焼却されて
いた。また、ヘキサメチルジシロキサンを回収しても独
特の不快臭を存するため、その用途に制限があった。
[発明が解決しようとする問題点コ
本発明は、シリル化反応液から回収されるなどした不快
臭を有するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のない
ヘキサメチルジシロキサンを得る方法を提供することを
目的とするものである。
臭を有するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のない
ヘキサメチルジシロキサンを得る方法を提供することを
目的とするものである。
すなわち、この不快臭を有するヘキサメチルジシロキサ
ンの蒸留だけで不快臭のないヘキサメチルジシロキサン
を得るのは困難であったが、本発明者らは比較的簡単な
操作を加えることにより、高純度の不快臭のないヘキサ
メチルジシロキサンが高収率で得られることを見出して
本発明を完成したものであり、これによってシリコーン
ゴム製造時の可塑剤、シリコーン化合物の製造原料、無
機物の撥水処理剤、化粧品の成分等への回収へキサメチ
ルジシロキサンの活用を可能にしようとするものである
。
ンの蒸留だけで不快臭のないヘキサメチルジシロキサン
を得るのは困難であったが、本発明者らは比較的簡単な
操作を加えることにより、高純度の不快臭のないヘキサ
メチルジシロキサンが高収率で得られることを見出して
本発明を完成したものであり、これによってシリコーン
ゴム製造時の可塑剤、シリコーン化合物の製造原料、無
機物の撥水処理剤、化粧品の成分等への回収へキサメチ
ルジシロキサンの活用を可能にしようとするものである
。
[問題点を解決するための手段とその作用コすなわち、
本発明は、 不快臭ををするヘキサメチルジシロキサンを酸性白土で
加熱処理後、さらに活性炭に接触させることを特徴とす
る、ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法に関する。
本発明は、 不快臭ををするヘキサメチルジシロキサンを酸性白土で
加熱処理後、さらに活性炭に接触させることを特徴とす
る、ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法に関する。
本発明における脱臭方法の対象となるヘキサジメチルシ
ロキサンは、主として医薬品等の活性水素原子を有する
化合物のシリル化反応の副生物として回収された不快臭
を有するヘキサメチルジシロキサンである。この回収さ
れたベキサメチルジシロキサンが不快臭を存するのは、
水洗や水洗後の蒸留によっても除去できない微量の不純
物が残存しているからである。
ロキサンは、主として医薬品等の活性水素原子を有する
化合物のシリル化反応の副生物として回収された不快臭
を有するヘキサメチルジシロキサンである。この回収さ
れたベキサメチルジシロキサンが不快臭を存するのは、
水洗や水洗後の蒸留によっても除去できない微量の不純
物が残存しているからである。
この不快臭を有するヘキサメチルジシロキサンの酸性白
土による加熱処理の条件は、ヘキサメチルジシロキサン
に対し、0.01 重M%から10重量%の間で酸性
白土を加え、50℃からヘキサメチルジシロキサンの沸
点である98℃の間で加熱することにより異臭源である
、微量の不純物をヘキサメチルジシロキサンより遊離さ
せることができる。このとき反応容器中に不活性ガス、
例えば窒素ガスを流通させることも可能であり、この場
合臭いの一部は、不活性ガスにより処理反応容器より糸
外に随伴除去される。
土による加熱処理の条件は、ヘキサメチルジシロキサン
に対し、0.01 重M%から10重量%の間で酸性
白土を加え、50℃からヘキサメチルジシロキサンの沸
点である98℃の間で加熱することにより異臭源である
、微量の不純物をヘキサメチルジシロキサンより遊離さ
せることができる。このとき反応容器中に不活性ガス、
例えば窒素ガスを流通させることも可能であり、この場
合臭いの一部は、不活性ガスにより処理反応容器より糸
外に随伴除去される。
酸性白土で加〃i処理されたヘキサメチルジシロキサン
は、次に活性炭に接触させることによって遊離された微
量の異臭性化合物を完全に吸着除去することができる。
は、次に活性炭に接触させることによって遊離された微
量の異臭性化合物を完全に吸着除去することができる。
ここで用いられる活性炭は、特に制限はなく粒状でも微
粉末状でもよい。活性炭に接触させる方法としては、ヘ
キサメチルジシロキサンに対し、o、oi 重量%か
ら5Mm%の活性炭を添加し、室温から100℃の間で
混合してからろ過という方法や、活性炭を充填したカラ
ムをこの温度範囲に保ちながら、連続的にヘキサメチル
ジシロキサンをカラムに通すという方法が挙げられる。
粉末状でもよい。活性炭に接触させる方法としては、ヘ
キサメチルジシロキサンに対し、o、oi 重量%か
ら5Mm%の活性炭を添加し、室温から100℃の間で
混合してからろ過という方法や、活性炭を充填したカラ
ムをこの温度範囲に保ちながら、連続的にヘキサメチル
ジシロキサンをカラムに通すという方法が挙げられる。
後者の方法は、ヘキサメチルジシロキサンに含まれる活
性炭の除去が、簡単なろ過、例えば、ガラス繊維、プラ
スチック繊維よりなるカートリッジタイプのろ過機で可
能である点でより好ましい。
性炭の除去が、簡単なろ過、例えば、ガラス繊維、プラ
スチック繊維よりなるカートリッジタイプのろ過機で可
能である点でより好ましい。
このようにして得られた、ヘキサメチルジシロキサンは
高純度であり、無色透明の外観と、トリメチルクロロシ
ランより加水分解法で得られるヘキサメチルジシロキサ
ンに特をな爽やかな臭いを存しており、後者の用途と同
様シリコーンゴム製造時の可塑剤、シリコーン化合物の
製造原料、無機物の撥水処理剤、化粧品の成分としての
を効活用が可能である。
高純度であり、無色透明の外観と、トリメチルクロロシ
ランより加水分解法で得られるヘキサメチルジシロキサ
ンに特をな爽やかな臭いを存しており、後者の用途と同
様シリコーンゴム製造時の可塑剤、シリコーン化合物の
製造原料、無機物の撥水処理剤、化粧品の成分としての
を効活用が可能である。
[実施例コ
次に、本発明を実施例をあげて説明する。参考例、実施
例中に%とあるのはいずれも重量%を表わす。
例中に%とあるのはいずれも重量%を表わす。
参考例1
シリル化剤として使用後、ヘキサメチルジシロキサンを
56.3%含む廃液として回収され、そのほかに不純
物としてジクロロメタン 19゜2%、トリメチルメト
キシシラン 11.7%、トリメチルシラノール 12
.2%およびその他0.6%を含む溶液1000gに、
澗塩m2gとイオン交換水を加え、室温で2時間混合し
、その後1500mQのイオン交換水で3回、この溶液
を中性になるまで洗浄した。890gの油層部が回収さ
れ、このものは、ジクロロメタン10.0%およびヘキ
サメチルジシロキサン90.0%を含んでいた。ガラス
ラシヒリングが充填された、長さ30cflのガラス分
溜カラムをつけた、29の蒸留容器にこの液を仕込み、
大気圧下で蒸留し、沸点99℃の留出液を620g得た
。これは、ガスクロマトグラフィーによる測定値で99
.83%の純度を持つヘキサメチルジシロキサンであっ
たが、特許の不快臭を示した。
56.3%含む廃液として回収され、そのほかに不純
物としてジクロロメタン 19゜2%、トリメチルメト
キシシラン 11.7%、トリメチルシラノール 12
.2%およびその他0.6%を含む溶液1000gに、
澗塩m2gとイオン交換水を加え、室温で2時間混合し
、その後1500mQのイオン交換水で3回、この溶液
を中性になるまで洗浄した。890gの油層部が回収さ
れ、このものは、ジクロロメタン10.0%およびヘキ
サメチルジシロキサン90.0%を含んでいた。ガラス
ラシヒリングが充填された、長さ30cflのガラス分
溜カラムをつけた、29の蒸留容器にこの液を仕込み、
大気圧下で蒸留し、沸点99℃の留出液を620g得た
。これは、ガスクロマトグラフィーによる測定値で99
.83%の純度を持つヘキサメチルジシロキサンであっ
たが、特許の不快臭を示した。
実施例1
参考例1の蒸留後の不快臭を存するヘキサメチルジシロ
キサンの300gと、酸性白土(日本活性白土社製に−
500)3gを500艷のフラスコに入れ、90〜10
0℃の間で8時間撹拌した。室温まで冷却後粉末状のヤ
シ殻活性炭(関東化学社製)5gを添加し、室温で3時
間混合後、液をガラスフィルターでろ過した。
キサンの300gと、酸性白土(日本活性白土社製に−
500)3gを500艷のフラスコに入れ、90〜10
0℃の間で8時間撹拌した。室温まで冷却後粉末状のヤ
シ殻活性炭(関東化学社製)5gを添加し、室温で3時
間混合後、液をガラスフィルターでろ過した。
無色透明の固有の爽やかな臭いをもっヘキサメチルジシ
ロキサンが仕込んだ量に対して定量的に得られた。
ロキサンが仕込んだ量に対して定量的に得られた。
比較例1
一方、参考例1の蒸留後の不快臭を有するヘキサメチル
ジシロキサンを、酸性白土による加熱処理を省略して、
直接ヤシ殻活性炭による処理のみを上記の条件で実施し
たが、得られたベキサメチルジシロキサンの不快臭は全
く除かれていなかった。
ジシロキサンを、酸性白土による加熱処理を省略して、
直接ヤシ殻活性炭による処理のみを上記の条件で実施し
たが、得られたベキサメチルジシロキサンの不快臭は全
く除かれていなかった。
参考例2
2m’の反応釜に、ヘキサメチルジシロキサン85%を
含み、不純物として 1,4−ジオキサン10%、ジメ
チルアニリン1%、トリメチルイソブトキシシラン1%
およびその他3%を含む、シリル化剤の廃液として回収
されたベキサメチルジシロキサン溶液1200kg、a
塩酸15 kr、水道水300 kgを仕込み、2時間
攪拌し、その後静置し、分離後、下層部の酸性水を除去
し、上層液を2009の水道水で繰り返し、中性になる
まで洗浄した。ついで1−の30cm径、6m長の充填
カラムを持つ蒸留釜に移し、ヘキサメチルジシロキサン
を蒸留した。蒸留還流比として、5: 1から10:
1で留出させ、沸点99°Cの留分て、純度99.0%
以上のヘキサメチルジシロキサンを連続的に1ゴの処理
釜に留出させた。
含み、不純物として 1,4−ジオキサン10%、ジメ
チルアニリン1%、トリメチルイソブトキシシラン1%
およびその他3%を含む、シリル化剤の廃液として回収
されたベキサメチルジシロキサン溶液1200kg、a
塩酸15 kr、水道水300 kgを仕込み、2時間
攪拌し、その後静置し、分離後、下層部の酸性水を除去
し、上層液を2009の水道水で繰り返し、中性になる
まで洗浄した。ついで1−の30cm径、6m長の充填
カラムを持つ蒸留釜に移し、ヘキサメチルジシロキサン
を蒸留した。蒸留還流比として、5: 1から10:
1で留出させ、沸点99°Cの留分て、純度99.0%
以上のヘキサメチルジシロキサンを連続的に1ゴの処理
釜に留出させた。
実施例2
参考例2の不快臭を存する留出液に対し、酸性白土(日
本活性白土社製に−500)を1%添加し、混合しなが
ら80〜90℃に加温した。
本活性白土社製に−500)を1%添加し、混合しなが
ら80〜90℃に加温した。
この時釜の低部より、1wn”/hrの速度で窒素ガス
を液中に流通させた。約9時間この状態に保った。
を液中に流通させた。約9時間この状態に保った。
冷却後、ヘキサメチルジシロキサンから酸性白土を連続
的にろ別し、続いて活性炭としてシランコールGL8/
48 (シランケミカル社製粒状活性炭)が12kg充
填された10ctn径で長さ2mのカラムに連続的に通
した。次に、1ミクロンのポリプロピレン製カートリッ
ジタイプのフィルター装置でろ過することによって、不
快臭のない精製されたヘキサメチルジシロキサン950
kgが得られた。
的にろ別し、続いて活性炭としてシランコールGL8/
48 (シランケミカル社製粒状活性炭)が12kg充
填された10ctn径で長さ2mのカラムに連続的に通
した。次に、1ミクロンのポリプロピレン製カートリッ
ジタイプのフィルター装置でろ過することによって、不
快臭のない精製されたヘキサメチルジシロキサン950
kgが得られた。
[発明の効果]
本発明によれば、水洗や蒸留をしても不快臭を有するヘ
キサメチルジシロキサンから高純度の不快臭のないヘキ
サメチルジシロキサンを高収率で容易に得ることができ
る。換言すれば、不快臭を有するヘキサメチルジシロキ
サンを容易に脱臭することができる。
キサメチルジシロキサンから高純度の不快臭のないヘキ
サメチルジシロキサンを高収率で容易に得ることができ
る。換言すれば、不快臭を有するヘキサメチルジシロキ
サンを容易に脱臭することができる。
Claims (1)
- 不快臭を有するヘキサメチルジシロキサンを酸性白土で
加熱処理後、さらに活性炭に接触させることを特徴とす
る、ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7076590A JPH02270885A (ja) | 1987-02-03 | 1990-03-20 | ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62023325A JPS63190891A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | ヘキサメチルジシロキサンの精製方法 |
| JP7076590A JPH02270885A (ja) | 1987-02-03 | 1990-03-20 | ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62023325A Division JPS63190891A (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | ヘキサメチルジシロキサンの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02270885A true JPH02270885A (ja) | 1990-11-05 |
| JPH0428715B2 JPH0428715B2 (ja) | 1992-05-15 |
Family
ID=26360667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7076590A Granted JPH02270885A (ja) | 1987-02-03 | 1990-03-20 | ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02270885A (ja) |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP7076590A patent/JPH02270885A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0428715B2 (ja) | 1992-05-15 |
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