JPH02270885A - ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法 - Google Patents

ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法

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JPH02270885A
JPH02270885A JP7076590A JP7076590A JPH02270885A JP H02270885 A JPH02270885 A JP H02270885A JP 7076590 A JP7076590 A JP 7076590A JP 7076590 A JP7076590 A JP 7076590A JP H02270885 A JPH02270885 A JP H02270885A
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JP
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hexamethyldisiloxane
unpleasant odor
acid clay
recovered
activated carbon
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Takeshi Imai
猛 今井
Masahiko Suzuki
正彦 鈴木
Ikuzo Takahashi
高橋 育三
Shuzo Toida
戸井田 修三
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DuPont Toray Specialty Materials KK
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、不快臭を有するヘキサメチルジシロキサンの
脱臭方法に関するものであり、特には医薬品製造工業等
において、シリル化剤として用いられたトリメチルクロ
ロシランやヘキサメチルジシラザンが最終的にヘキサメ
チルジシロキサンとして回収されるが、この不快臭を存
するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のないヘキサ
メチルジシロキサンを得るという、ヘキサメチルジシロ
キサンの脱臭方法に関するものである。
[従来の技術] 従来、医薬品、例えば、ペニシリンやセファロスポリン
等の抗生物質の製造工業等でシリル化剤として広範囲に
使用されているトリメチルクロロシランやヘキサメチル
ジシラザンより副生し、回収されるヘキサメチルジシロ
キサンには、トリメチルシリル基による保護反応が低沸
点の有機溶剤の存在下で行なわれるため、不純物として
このを機溶剤やトリメチルシラノール、トリメチルメト
キシシラン等が多量に含まれている。
医薬品メーカーにとってはヘキサメチルジシロキサンは
もはやシリル化剤としての役目を果さないため、その回
収には積極的でなく、回収したとしても回収された不快
臭を有するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のない
ヘキサメチルジシロキサンを得ることは技術的に困難で
あるために、有機溶剤の大部分を蒸留によって回収する
ことを主目的とし、残りは産業廃棄物として焼却されて
いた。また、ヘキサメチルジシロキサンを回収しても独
特の不快臭を存するため、その用途に制限があった。
[発明が解決しようとする問題点コ 本発明は、シリル化反応液から回収されるなどした不快
臭を有するヘキサメチルジシロキサンから不快臭のない
ヘキサメチルジシロキサンを得る方法を提供することを
目的とするものである。
すなわち、この不快臭を有するヘキサメチルジシロキサ
ンの蒸留だけで不快臭のないヘキサメチルジシロキサン
を得るのは困難であったが、本発明者らは比較的簡単な
操作を加えることにより、高純度の不快臭のないヘキサ
メチルジシロキサンが高収率で得られることを見出して
本発明を完成したものであり、これによってシリコーン
ゴム製造時の可塑剤、シリコーン化合物の製造原料、無
機物の撥水処理剤、化粧品の成分等への回収へキサメチ
ルジシロキサンの活用を可能にしようとするものである
[問題点を解決するための手段とその作用コすなわち、
本発明は、 不快臭ををするヘキサメチルジシロキサンを酸性白土で
加熱処理後、さらに活性炭に接触させることを特徴とす
る、ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法に関する。
本発明における脱臭方法の対象となるヘキサジメチルシ
ロキサンは、主として医薬品等の活性水素原子を有する
化合物のシリル化反応の副生物として回収された不快臭
を有するヘキサメチルジシロキサンである。この回収さ
れたベキサメチルジシロキサンが不快臭を存するのは、
水洗や水洗後の蒸留によっても除去できない微量の不純
物が残存しているからである。
この不快臭を有するヘキサメチルジシロキサンの酸性白
土による加熱処理の条件は、ヘキサメチルジシロキサン
に対し、0.01  重M%から10重量%の間で酸性
白土を加え、50℃からヘキサメチルジシロキサンの沸
点である98℃の間で加熱することにより異臭源である
、微量の不純物をヘキサメチルジシロキサンより遊離さ
せることができる。このとき反応容器中に不活性ガス、
例えば窒素ガスを流通させることも可能であり、この場
合臭いの一部は、不活性ガスにより処理反応容器より糸
外に随伴除去される。
酸性白土で加〃i処理されたヘキサメチルジシロキサン
は、次に活性炭に接触させることによって遊離された微
量の異臭性化合物を完全に吸着除去することができる。
ここで用いられる活性炭は、特に制限はなく粒状でも微
粉末状でもよい。活性炭に接触させる方法としては、ヘ
キサメチルジシロキサンに対し、o、oi  重量%か
ら5Mm%の活性炭を添加し、室温から100℃の間で
混合してからろ過という方法や、活性炭を充填したカラ
ムをこの温度範囲に保ちながら、連続的にヘキサメチル
ジシロキサンをカラムに通すという方法が挙げられる。
後者の方法は、ヘキサメチルジシロキサンに含まれる活
性炭の除去が、簡単なろ過、例えば、ガラス繊維、プラ
スチック繊維よりなるカートリッジタイプのろ過機で可
能である点でより好ましい。
このようにして得られた、ヘキサメチルジシロキサンは
高純度であり、無色透明の外観と、トリメチルクロロシ
ランより加水分解法で得られるヘキサメチルジシロキサ
ンに特をな爽やかな臭いを存しており、後者の用途と同
様シリコーンゴム製造時の可塑剤、シリコーン化合物の
製造原料、無機物の撥水処理剤、化粧品の成分としての
を効活用が可能である。
[実施例コ 次に、本発明を実施例をあげて説明する。参考例、実施
例中に%とあるのはいずれも重量%を表わす。
参考例1 シリル化剤として使用後、ヘキサメチルジシロキサンを
 56.3%含む廃液として回収され、そのほかに不純
物としてジクロロメタン 19゜2%、トリメチルメト
キシシラン 11.7%、トリメチルシラノール 12
.2%およびその他0.6%を含む溶液1000gに、
澗塩m2gとイオン交換水を加え、室温で2時間混合し
、その後1500mQのイオン交換水で3回、この溶液
を中性になるまで洗浄した。890gの油層部が回収さ
れ、このものは、ジクロロメタン10.0%およびヘキ
サメチルジシロキサン90.0%を含んでいた。ガラス
ラシヒリングが充填された、長さ30cflのガラス分
溜カラムをつけた、29の蒸留容器にこの液を仕込み、
大気圧下で蒸留し、沸点99℃の留出液を620g得た
。これは、ガスクロマトグラフィーによる測定値で99
.83%の純度を持つヘキサメチルジシロキサンであっ
たが、特許の不快臭を示した。
実施例1 参考例1の蒸留後の不快臭を存するヘキサメチルジシロ
キサンの300gと、酸性白土(日本活性白土社製に−
500)3gを500艷のフラスコに入れ、90〜10
0℃の間で8時間撹拌した。室温まで冷却後粉末状のヤ
シ殻活性炭(関東化学社製)5gを添加し、室温で3時
間混合後、液をガラスフィルターでろ過した。
無色透明の固有の爽やかな臭いをもっヘキサメチルジシ
ロキサンが仕込んだ量に対して定量的に得られた。
比較例1 一方、参考例1の蒸留後の不快臭を有するヘキサメチル
ジシロキサンを、酸性白土による加熱処理を省略して、
直接ヤシ殻活性炭による処理のみを上記の条件で実施し
たが、得られたベキサメチルジシロキサンの不快臭は全
く除かれていなかった。
参考例2 2m’の反応釜に、ヘキサメチルジシロキサン85%を
含み、不純物として 1,4−ジオキサン10%、ジメ
チルアニリン1%、トリメチルイソブトキシシラン1%
およびその他3%を含む、シリル化剤の廃液として回収
されたベキサメチルジシロキサン溶液1200kg、a
塩酸15 kr、水道水300 kgを仕込み、2時間
攪拌し、その後静置し、分離後、下層部の酸性水を除去
し、上層液を2009の水道水で繰り返し、中性になる
まで洗浄した。ついで1−の30cm径、6m長の充填
カラムを持つ蒸留釜に移し、ヘキサメチルジシロキサン
を蒸留した。蒸留還流比として、5: 1から10: 
1で留出させ、沸点99°Cの留分て、純度99.0%
以上のヘキサメチルジシロキサンを連続的に1ゴの処理
釜に留出させた。
実施例2 参考例2の不快臭を存する留出液に対し、酸性白土(日
本活性白土社製に−500)を1%添加し、混合しなが
ら80〜90℃に加温した。
この時釜の低部より、1wn”/hrの速度で窒素ガス
を液中に流通させた。約9時間この状態に保った。
冷却後、ヘキサメチルジシロキサンから酸性白土を連続
的にろ別し、続いて活性炭としてシランコールGL8/
48 (シランケミカル社製粒状活性炭)が12kg充
填された10ctn径で長さ2mのカラムに連続的に通
した。次に、1ミクロンのポリプロピレン製カートリッ
ジタイプのフィルター装置でろ過することによって、不
快臭のない精製されたヘキサメチルジシロキサン950
 kgが得られた。
[発明の効果] 本発明によれば、水洗や蒸留をしても不快臭を有するヘ
キサメチルジシロキサンから高純度の不快臭のないヘキ
サメチルジシロキサンを高収率で容易に得ることができ
る。換言すれば、不快臭を有するヘキサメチルジシロキ
サンを容易に脱臭することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 不快臭を有するヘキサメチルジシロキサンを酸性白土で
    加熱処理後、さらに活性炭に接触させることを特徴とす
    る、ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法。
JP7076590A 1987-02-03 1990-03-20 ヘキサメチルジシロキサンの脱臭方法 Granted JPH02270885A (ja)

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