JPH0227317B2 - - Google Patents

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JPH0227317B2
JPH0227317B2 JP59115479A JP11547984A JPH0227317B2 JP H0227317 B2 JPH0227317 B2 JP H0227317B2 JP 59115479 A JP59115479 A JP 59115479A JP 11547984 A JP11547984 A JP 11547984A JP H0227317 B2 JPH0227317 B2 JP H0227317B2
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JP
Japan
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whiskers
silica
sic
recovered
carbon black
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Junzo Harada
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/005Growth of whiskers or needles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/36Carbides

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Metallurgy (AREA)
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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は炭化ケイ素(SiC)ウイスカーの製造
方法に関し、更に詳しくは、新規なケイ素源を用
い、細くて形状の揃つたSiCウイスカーを製造す
る方法に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] SiCウイスカーは、比強度、比弾性率、耐熱
性、化学安定性などの特性が優れているので、金
属若しくはプラスチツクの複合強化材としてその
有用性が注目されている。
SiCウイスカーの製造方法としては、従来から
各種の方法が開発されている。例えば、ケイ素源
に籾殻灰を用い炭材に造粒カーボンブラツクを用
いる方法(特開昭58―45198号参照)、各種のケイ
素源及び炭材からアルカリ金属のハロゲン化物の
存在下で製造する方法(特開昭58―125697号参
照)、鉄、ニツケル、コバルトの水溶性化合物を
含有するシリカゲルとフアーネスカーボンブラツ
クとから製造する方法(特開昭58―145700号参
照)、屑ガラスの粉砕物であるカレツトをケイ素
源とし、フアーネスカーボンブラツクを炭材とす
る方法(特開昭58―172297号参照)などが知られ
ている。
しかしながら、現在までのところ、地熱熱水か
ら回収したシリカをケイ素源とするSiCウイスカ
ーの製造方法は知られていない。
[発明の目的] 本発明は、ケイ素源が新規であるSiCウイスカ
ーの製造方法の提供を目的とする。
[発明の概要] 本発明者は、SiCウイスカーのケイ素源に関し
種々の物質につき調査したところ、地熱熱水から
回収したシリカとカーボンブラツクとから製造し
たSiCウイスカーは、例えば石英、無水ケイ酸の
ような他のケイ素源とカーボンブラツクとから製
造したウイスカーに比べ、その径が細くしかも形
状が全体として揃つているとの事実を見出し、本
発明方法を開発するに到つた。
すなわち、本発明のSiCウイスカーの製造方法
は、ケイ素源とカーボンブラツクとを混合し、得
られた混合物を不活性雰囲気中で加熱処理する炭
化ケイ素ウイスカーの製造方法において、該ケイ
素源が、地熱熱水から回収したシリカであること
を特徴とする。
本発明におけるケイ素源は、地熱熱水からの回
収シリカである。この回収シリカは次のようにし
て得ることができる。すなわち、まず地熱井から
湧出する温度200℃以上の地熱水を室温下で静置
する。静置の時間は1週間程度でよい。シリカ粒
子はコロイド状で存在する。ついでこのコロイド
溶液を限外濾過して固形分を約20%程度にまで濃
縮したのち、濃縮液を例えば噴霧乾燥法で乾燥す
ると同時に粉末化する。このときの条件で回収シ
リカの粒径、含水量が決まつてくるが、本発明方
法にあつては、通常、粒径10〜20μm、含水量4
〜10重量%程度に管理することが好ましい。
このような方法で得られた回収シリカとカーボ
ンブラツクとを混合する。炭材であるカーボンブ
ラツクとしては格別限定されるものではなく、各
種のフアーネスブラツク、アセチレンブラツク、
ランプブラツク等が適宜使用可能である。また、
回収シリカとの混合割合も格別限定されるもので
はないが、通常、容量比で等量であることが好ま
しい。
つぎに、この混合粉末を加熱処理する。この加
熱処理はアルゴン、ヘリウムのような不活性ガス
雰囲気中で行なわれ、その温度は通常1300〜1800
℃、処理時間は1〜4時間である。この過程で混
合粉末中のケイ素成分と炭素成分は気相反応を生
起して微少繊維状のSiCに転化してウイスカーと
なる。加熱手段としては、処理条件の管理が比較
的容易であることからして電気炉が好適である。
冷却後、反応生成物を炉から取り出す。この反
応生成物は全量がSiCウイスカーではなくカーボ
ンブラツクと生成SiCウイスカーとの混合物であ
る。したがつて、例えば大気のような酸化性雰囲
気中でこの反応生成物をSiCが熱分解しない温度
下で焼成してカーボンブラツクを焼却除去する。
このときの焼成温度は500〜800℃、好ましくは
650〜750℃である。
かくして、SiCウイスカーのみが得られる。
[発明の実施例] 地熱井から湧出した温度120℃の地熱水を室温
下で1週間放置した。このコロイド液を限外濾過
膜(旭化成(株)製、商品名:ラボモジユール)で濾
過し噴霧乾燥法でシリカ分を回収した。回収シリ
カの一次粒径は100〜200Å、組成は、SiO2 96
%、Al2O3 0.5%、Fe2O3 1.5%、Na2O 1%、
CaO 1%であつた。
この回収シリカとアセチレンブラツク(電気化
学工業(株)製、商品名:デンカブラツク)とを等容
量混合し、得られた混合粉末を黒鉛製の蓋付き容
器(直径60mm、高さ70mm)の中に充填した。この
容器をケラマツクス炉の中にセツトし、1/
minでアルゴンを流しながら、1600℃で4時間加
熱した。
加熱処理後、容器の内容物を磁製皿に移し、大
気中において700℃で2時間加熱した。未反応の
アセチレンブラツクが焼成除去され、淡緑白色の
ウイスカーが得られた。
このウイスカーを粉末X線回折分析にかけたと
ころ、β型SiCウイスカーであることが確認され
た。また、このウイスカーの径と長さを計測した
ところ、平均値で直径0.5μm、長さ200μmであつ
た。
回収シリカにたいし純度90%、収率90%。
なお、比較のために、平均粒径5μmの石英粉末
及び無水ケイ酸粉末をケイ素源として、上記と同
様の方法を行なつた。いずれの場合もSiCウイス
カーが得られたが、しかし、その直径の平均はそ
れぞれ1〜2μm、2μmであり、長さもそれぞれ
20μm、30μmであつて、不揃いであつた。しか
も、団塊状の粒状物が多量に生成していた。
[発明の効果] 以上の説明で明らかなように、本発明方法は、
径が細く長さのばらつきが少ないSiCウイスカ
ーを製造することができる、ケイ素源が地熱熱
水の回収シリカであるため、資源の有効利用にも
資する、などの効果を奏し、各種の複合材料の
SiCウイスカー強化材素材を提供する方法として
工業的価値は大である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ケイ素源とカーボンブラツクとを混合し、得
    られた混合物を不活性雰囲気中で加熱処理する炭
    化ケイ素ウイスカーの製造方法において、該ケイ
    素源が、地熱熱水から回収したシリカであること
    を特徴とする炭化ケイ素ウイスカーの製造方法。
JP59115479A 1984-06-07 1984-06-07 炭化ケイ素ウイスカ−の製造方法 Granted JPS60260499A (ja)

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NZ212218A NZ212218A (en) 1984-06-07 1985-05-27 Producing silicon carbide whiskers using silica recovered from geothermal hot water
CA000482694A CA1253667A (en) 1984-06-07 1985-05-29 Process for producing silicon carbide whisker
US06/738,746 US4605542A (en) 1984-06-07 1985-05-29 Process for producing silicon carbide whisker
EP85303826A EP0170362B1 (en) 1984-06-07 1985-05-30 Process for producing silicon carbide whisker
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DE (1) DE3561405D1 (ja)
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DE3561405D1 (en) 1988-02-18
EP0170362A1 (en) 1986-02-05
PH21006A (en) 1987-06-23
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