JPH02275852A

JPH02275852A - 二環式アミノ酸

Info

Publication number: JPH02275852A
Application number: JP2064509A
Authority: JP
Inventors: Hansjoerg Urbach; ハンスイエルク・ウルバツハ; Rainer Henning; ライネル・ヘニング; Volker Teetz; フオルカー・テーツ; Hans Wissmann; ハンス・ヴイスマン; Reinhard Becker; ラインハルト・ベツカー
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1982-03-23
Filing date: 1990-03-16
Publication date: 1990-11-09
Also published as: JPH0471920B2; NO162856C; MA19753A1; ATE22883T1; MX6452A; PH22323A; EP0089637B1; FI830938A0; US4668797A; ES521656A0; PT76424A; JPS58172367A; AU6859687A; AU1270483A; AU560805B2; DK130683D0; EP0089637A3; NO162856B; FI76559B; ES8402270A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は式（Ｉ）賢（Ｘｌａ）（Ｘｌｂ）Ｋ’　　　　　ＬＵｔＫ”　　　　　４の二環式アミノ
酸の新規な誘導体およびその生理学的に許容し得る塩に
関するものである。

上記式中、ｎは０または１を示し、Ｒは水素、（０１〜Ｃ６）−アルキルまたは７〜９個の
Ｃ原子を有するアラルキルを示し、Ｒ１は水素または（Ｃ＋〜ｃ６）−アルキル〔これは場
合によってはアミノ、（０１〜Ｃ４）−アシルアミノ好
適には（Ｃ１〜Ｃ４）−アルカノイルアミノまたはベン
ゾイルアミノによって置換されていてもよい〕、（Ｃ２
〜Ｃ６）−アルケニル、（Ｃ５〜Ｃ９）−シクロアルキ
ル、（Ｃ５〜Ｃ９）−シクロアルケニル、（０５〜Ｃ７
）−シクロアルキｋ　−（Ｃ１−０４）　−７／Ｉ／　
キル、（０６〜Ｃ１ｏ）−アリールまたは部分的に水素
添加された（Ｃ，５〜Ｃ１ｏ）−アリール〔これらの各
々は（ｃ１〜Ｃａ）−アルキル、（Ｃ＋またはＣ２）−
アルコキシまたはハロゲンによって置換されていてもよ
い〕、（０６〜Ｃ１ｏ）−アリール−（０１〜Ｃ４）−
アルキルまたは（Ｃ７−ｃｌ１）−アロイル−Ｃ１−ア
ルキル（これら両者はアリール基において前述したよう
に置換されていてもよい）、１〜２個の環原子が硫黄ま
たは酸素原子を示しそして（または）１〜４個の環原子
が窒素原子を示すそれぞれ５〜７″！たけ８〜１０個の
環原子を有する単環式または二環式の複素環式基または
天然にあるアミノ酸の側鎖を示し、Ｒ２は水素、（Ｃ１−Ｃ６）−アルキル、（０２〜Ｃ６
）−アルケニルまたはアリール−（ｃ　１−ｃ　４　）
−アルキルを示し、Ｙは水素またはヒドロキシルを示し、２は水素を示すかまたはＹおよび２は一緒になって酸素
を示し、そしてＸは（Ｃ１〜Ｃ６）−アルキル、（Ｃ２〜Ｃ６）−アル
ケニル、（Ｃｓ　〜Ｃ９）−シクロアルキル、（０６〜
Ｃ１ｏ）−アリール〔コれは（０１〜Ｃ４）−アルキル
、（ｃｌ−Ｃ４）−フルコキシ、ヒドロキシル、ハロゲ
ン、ニトロ、アミノ、（Ｃ＋〜ｃ４）アルキルアミノ、
ジ（Ｃ１−０４）−アルキルアミノまたはメチレンジオ
キシによってモノ置換、ジ置換またはトリ置換されてい
てもよい〕または３−インドリルを示す。

特に適幽した塩は、アルカリ金属およびアルカリ土類金
属塩、生理学的に許容し得るアミンとの塩および例えば
ＨＣｔ％ＨＢｒ１Ｈ２ＳＯａ、マレイン酸またはフマル
酸のような無機または有機酸との塩である。

本明細書中において「アリール」は好適には場合によっ
ては置換されたフェニルまたはナフチルとして理解され
るべきである。「アルキル」は直鎖状または有枝鎖状で
ある。

カルボキシル基の２つの可能な配置は、二環のＣ−３ａ
およびＣ−７ａ上のＨ原子の好適な配置すなわちカルボ
キシル基のエキソ位置〔部分式（Ｉａ）Ｊおよびエンド
位置〔部分式（Ｉｂ）Ｊの配置に適合する。

Ｃ−２上のカルボキシル基のエンド位置は、カルボキシ
ル基が二環の６員環の方向すなわち二環の凹側の方に向
かっているものとして定義される〔部分式（Ｉｂ）参照
〕。

従って、Ｃ−２上のカルボキシル基のエキソ位置は、カ
ルボキシル基が関係する架橋Ｈ原子の方向に配向されて
いるも−のとして定義される〔部分式（１ａ）参照〕。

（１ａ）（ｌｂ）式（１）の化合物は、Ｃ−２、Ｃ−３ａ、　Ｃ−７ａ位
および星印をつけた側鎖のＣ原子においてキラル（ｃｈ
ｉｒａ１）Ｃ原子を有している。本発明はすべての中心
におけるＲ配置およびＳ配置の両方に関するものである
。このように、式（１）の化合物は光学的異性体、ラセ
ミ体としてのジアステレオマー　またはこれらの混合物
として存在することができる。しかしながら、二環式環
系のＣ原子２および星印をつけた側鎖のＣ原子がＳ−配
置を有する式（１）の化合物が好適である。

ｎが１を示し、Ｒが水素または１〜４個のＣ原子を有す
るアルキルを示し　Ｒ１が水素、（ｃｌ−Ｃ５）−アル
キル、（Ｃ２またはＣ３）−アルケニル、ベンジル、フ
ェネチル、４−アミノブチルまたはベンゾイルメチルを
示し、Ｒ２が水素、（０１〜Ｃ４）−アルキルまたはベ
ンジルを示し、そしてＸが（Ｃ１またはＣ２）−アルキ
ル、（ＣＩまたはＣ２）−アルコキシ、ヒドロキシル、
弗素、塩素、臭素、アミノ、（ＣＩ−Ｃ４）−アルキル
アミノ、ジー（ｃｌ−Ｃ４）アルキルアミノ、ニトロま
たはメチレンジオキシによってモノ置換またはジ置換さ
れていてもよくまたはメトキシの場合においてはトリ置
換されていてもよいフェニルを示す式（１）の化合物、
特にｎが１を示し、Ｒが水素を示し　Ｈｌがメチルを示
し、Ｘがフェニルを示し、Ｒ２が水素またはエチルを示
し、二環がシス配置を有し、カルボキシル基がエキソま
たはエンドに配向されそして星印によって確認されるキ
ラルＣ原子およびＣ原子２がＳ配置を有する式（１）の
化合物が特に好適である。

更に、本発明は式（１）の化合物を製造する方法に関す
るものである。一つの方法は、Ｒプチド化学におけるア
ミド形成の既知方法によって式％式％（式中、ｎ、　Ｒ’、Ｒ２、Ｘ％Ｙおよび２は式（Ｄに
おけるような意義を有する）の化合物を式佃）（式中Ｗ
は水素または酸によって分裂できる基特に第３級ブチル
基を示す）の化合物と反応せしめそしてそれから場合に
よっては酸処理によって基Ｗを分裂しそして場合によっ
ては更に酸または塩基処理によって基Ｒ２を分裂する（
それぞれの場合において遊離カルボン酸が得られる）こ
とからなる。

更に、Ｙおよび２が一緒になって酸素を示す式（１）の
化合物を製造する合成方法は、ミカエル反応（ＪＯｒｇ
ａｎｉｋｕｍＪ第６版第４９２頁（１９６７年）〕にお
ける既知方法において、式（財）（式中　Ｒ１は式（１）におけるような意義を有しそし
てＷは式（Ｉ［１）におけるような意義を有する）の化
合物を式（ト）Ｒ２０２Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｏ　−Ｘ　　　　　　（Ｖ
）〔式中Ｒ２およびＸは式（１）におけるような意義を
有する）の化合物と反応せしめそして場合によっては前
述したように基Ｗおよび（！たは）基Ｒ２を分裂させる
か、またはマンニッヒ反応［ｒＢｕｌｌ。

Ｓｏｃ、　Ｃｈｉｍ、　ＦｒａｎｃｅＪ第６２５頁（１
９７３年）〕における既知方法において、前述した式（
３）の化合物を一般式（ロ）（式中Ｒ２は式（＋）にお
けるような意義を有する）の化合物および一般式（■）
（式中Ｘは式（Ｉ）におけるような意義を有する）の化
合物と反応せしめそしてそれから場合によっては前述し
たように基Ｗおよび（または）基Ｒ２を分裂して遊離カ
ルボキシル基を形成させることからなる。

○ＨＣ−Ｃｏ２Ｒ２Ｘ−Ｃｏ−ＣＨ３（■）　　　　　　　　　　（■）更に、Ｙおよび２がそれぞれ水素である式（１）の化合
物はまた、ｒＪ、　Ａｍｅｒ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、
Ｊ第９３巻第２８９７頁（１９７１年）に記載されてい
る方法によって前述した式（財）の化合物を式（４）（
式中Ｒ２および又は式（１）におけるような意義を有す
る）の化合物と反応せしめ、得られたシック塩基を還元
しそしてそれから場合によっては基Ｗおよび（または）
基Ｒ２を前述したように分裂して遊離カルボキシル基を
形成させるような方法で製造することができる。シック
塩基の還元は、電気分解的にかまたは例えば硼水素化ナ
トリウムまたはシアノ硼水素化ナトリウムのような還元
剤を使用して実施することができる。

Ｙがヒドロキシルであυそして２が水素である式（１）
の化合物はまた、例えば前述した方法によって得られた
Ｙおよび２が一緒罠なって酸素でらる式（Ｉ）の化合物
の還元によって得ることができる。この還元は、硼水素
化ナトリウムおよびその他の複合ボラネート例えばボラ
ン−アミン複合体のような還元剤を使用して実施するこ
とができる。

Ｒが水素を示す式（＋）の化合物は、場合によってはそ
れ自体既知の方法によってＲが（０１〜Ｃ６）−アルキ
ルまたは（Ｃ７〜Ｃ９）−アラルキルを示す式（１）の
エステルに変換することができる。

本発明はまた、式（［１）Ｈ（Ｃ原子３ａおよびＺａ上の水素原子は相互に関してシ
ス配置を有しそしてＣ原子２上の基−ｃｏ２ｗは二環式
環糸に対してエキソまたはエンドに配向されており、そ
してＷは水素または酸によって分裂できる基を示す）の
化合物に関するものである。

これらの化合物は、本発明によれば式（１）の化合物の
合成に対する出発物質として役立ちそして本発明によれ
ば次の方法によって製造することができる。

式（Ｄｏ −アラルキルを示す）の化合物をアシル化剤と反応させ
る。これは基−ｃｏ−Ｒ３（式中Ｒ３は（０１〜Ｃ６）
−アルキル、（ｃ５〜Ｃ９）−シクロアルキル、（０２
〜Ｃ６）−アルケニル、（０１〜Ｃ６）−アルコキシ、
アリール、アリールオキシ、アリール−（Ｃ１〜Ｃ４）
−アルキルマタハアリールー（０１〜Ｃ４）−アルコキ
シを示す）を移動させて式（Ｘｌ（式中Ｒ２／およびＲ３は前述した意義を有する）の化
合物を与える。

後者の化合物を環化せしめて式（ＸＩ）葺（式中、Ｒ２／は（Ｃ１−０６）−アルキルまたは（ｃ
　ｙ−ｃ　ｓ　）（式中、Ｒ２′およびＲ３は前述した
意義を有しそして架橋Ｃ原子上の水素原子はシス配置を
有する）の立体異性化合物の混合物を与える。

ジアステレオマーの対が存在するこの立体異性体の混合
物すなわち式（Ｋ）の出発物質がＲ配置であるかまたは
Ｓ配置であるかまたはラセミ体であるかによってそれぞ
れ式（Ｍｂ）および（Ｘｌｄ）または（Ｍａ）および（
Ｘ［ｃ）の混合物または式０ｔｆｆ＆）〜（Ｘｌｄ　）
の混合物を、場合によっては鏡像体（エナンチオマー）
、ジアステレオマーの対またはラセミ体に予め分離した
後に加水分解せしめてＷが水素を示す式＠）の化合物を
得そして場合によっては後者の化合物をエステル化せし
めてＷが酸によって分裂できる基を示す式（Ｉ［Ｄの化
合物を得る。

０ｄａ）（Ｘ［ｂ）（ＸＩ（１り（Ｘｌｄ　）式（■）の化合物の合成は、式（Ｘ［Ｉ）（式中Ｒ２１
は（ｃ１〜Ｃ６）−アルキルまたは（Ｃ７またはＣ３）
−アラルキル好適には（Ｃ１〜ｃ４）−アルキルまたは
ベンジルである）のアリルグリシンエステルから出発す
る。アリルグリシンエステルはラセミ化合物としてかま
たは光学的に純粋なＲまたはＳ形態として合成に使用す
ることができる。ラセミアリルグリシンの合成はｒＭｏ
ｎａｔｓｈｅｆｔθｄｅｒ　ＣｈｅｍｉｅＪ第８５巻第
１０７１頁（１９５４年）に記載されておりそしてＲお
よびＳ化合物の合成はｒＪ、　Ｂｉｏｌ、　Ｃｈｅｍ、
Ｊ第２２３巻第４０頁（１９５５年）に記載されている
。工°ステル化は有機化学の既知方法によって実施され
る。エチルエステルの製造は、ｒＭｏｎａｔｓｈｅｆｔ
ｅ　ｄｅｒ　ＣｈｅｍｌｅＪの論文に記載されている。

水を分離除去しながら式（２）の化合物を有機溶剤中に
おいてクロトンアルデヒドと反応せしめて式（Ｘ）のシ
ック塩基を与える。反応は一４０℃〜＋８０℃の範囲の
温度、好適には＋２０℃で実施される。例えばにンゼン
、トルエン、四塩化炭素またはクロロホルムのような中
性溶剤が使用される。反応水は水結合剤例えばＭｇＳＯ
４、Ｎａ２ＳＯ４、分子ふるいまたは有機助剤例えばオ
ルトホルメートによってまたは水の共沸分離によって反
応平衡から除去される。

シッフ塩基は、好適には例えばトリエチルアミン、コリ
ジン、ピリジンまたは他のアミンのような塩基の存在下
において例えば塩化メチレン、クロロホルム、トルエン
またはジメチルホルムアミドのような中性溶剤中におい
て例えば酸塩化物のようなアシル化剤でアシル化して式
（力のジエンアミドを得る。反応は一８０℃〜＋４０℃
の範囲の温度で実施される。好適には反応は一８０℃で
開始しそして２０℃で完了する。

基−Ｃｏ−Ｒ３を導入するアシル化剤においては、Ｒ３
は好適にはフェニル、第３級ブ十キシ、メチル、メトキ
シまたはエトキシを示す。式（Ｘ’Ｊの化合物は、好適
には分子内ディールス−アルダ−反応において高沸点有
機溶剤中で加熱および環化せしめて二環式アミノ酸誘導
体０ｆｆａ）〜（Ｘ［ｄ）を得る。これらは立体異性体
の混合物として生成される。

例ｔｌｄ’トルエン、キシレンまたはジクロロベンゼン
のような８０〜２５０℃の温度範囲で沸騰する溶剤を使
用することができる。熱分解はまた、加圧装置中で低沸
点溶剤を使用して実施することもできる。好適には、熱
分解は常圧下に１００〜１８０℃の温度範囲で実施され
る。反応容器のガラス表面を不活化するために、適当で
ある場合はビストリメチルシリルアセトアミドまたは慣
用の不活性化化合物または酸トラップおよびラジカルト
ラップ例えばラジカ、ル副反応を抑制する第３級ブチル
カテコールが添加される。

ラセミアリルグリシンエステルｃＡ）が使用すれる場合
は、エンド−シス化合物（Ｘｌａ）および（ＸＪｂ）お
よびエキソ−シス化合物（Ｘ［ｃ　）および（Ｘｌｄ）
はそれぞれラセミ体として存在する。出発化合物として
Ｓ配置を有するア】ノルグリシンエステルヲ使用すると
、シス−エンド−８配置を有するアミノ酸誘導体（Ｘ１
ａ）およびＣ原子２に関してＳ配置を有するシス−エン
配置を有するアミノ酸誘導体（Ｘｌｃ　）が得られる。

それに対応してＲ配置を有するアリルグリシンエステル
を使用するト、炭素２においてＲ配置を有するアミノ酸
誘導体（Ｘｌ１））および（Ｘｌｄ）が得られる。ラセ
ミ体（Ｘｌａ）／（Ｘｌｂ）および（Ｘｌｃ）／（Ｘｌ
ｄ）またはジアステレオ？　−（Ｘｌａ）および（Ｘ［
ｃ）　ｉたけ（Ｍｂ）および（Ｘａ　）は、例えば分別
結晶によってかまたは従来方法によるシリカゲル上のカ
ラムクロマトグラフィー処理によって分離することがで
きる。ラセミ体または光学的に純粋なジアステレオマー
を更に反応させるのに使用することができる。

Ｗが水素を示す式（［［１）のアミノ酸は酸またはアル
カリ性加水分解によって得られる。アミノ酸は場合によ
ってはエステル化することができる。

式Ｑ［［）のアミノ酸の好適な第３級ブチルエステル（
Ｗ＝第３級ブチル）は、はプチド化学において慣用の方
法によって例えば酸（例えば硫酸のような）の存在下に
おいて不活性有機溶剤（例えばジオキサン）中で酸をイ
ンブチレンと反応させることによって得られる。次の方
法は特に有利であることが判った。適当なアミノ酸を例
エバメチルスルホニルエトキシカルボニル基（＝＝　Ｍ
ＳＣ）のような塩基によって分裂できる基で窒素に対し
てアシル化する。［工ｎｔ、　Ｊ、　Ｐｅｐｔ。

Ｐｒｏｔｅｉｎ　Ｒｅｓ、Ｊ第７巻第２９５頁（１９７
５年）を参照されたい。プロピルホスホン酸無水物の存
在下において例えばピリジンのような有機溶剤中でカル
ボン酸を中性ないし弱塩基性のｐＨ範囲で第３級ブタノ
ールと反応せしめて相当する第３級ブチルエステルを得
る。式（２）（Ｗ＝＝＝＝級ブチル）の第３級ブチルエ
ステルは水性溶剤中において強アルカリ性ｐＨ範囲でア
ルカリでＭＳＣ保護基を分裂することによって得られる
。

式（１）の化合物の製造に対する出発物質として使用さ
れるｎが１であり、Ｙおよび２が水素で６り、Ｒ１がメ
チルでありそしてＲ２がメチルまたはエチルであシそし
てＸがフェニルである式（ｎ）の化合物は既知である（
ヨーロッパ特許出願筒３７，２３１号参照）。式（Ｉｔ
）の化合物は種りな方法によって製造することができる
。一つの合成方法は前述した式（■）のケトンから出発
する。この化合物をマンニッヒ反応における既知方法に
よって式（ＸＩＩＩ）（式中　Ｒ１は前述した意義を有しそしてＷ′は水素添
加分解によってまたは酸によって分裂できる基特にＲメ
チルまたは第３級ブチル基を示す）のアミノ酸エステル
と共に前述した式（９）の化合物と反応せしめて式（Ｘ
Ｎ）（式中、Ｒ４、Ｒ２、ＸおよびＷ′は前述した意義を有
し、そしてＷ′が水素添加分解によって分裂できる基特
にＲメチルを示す場合はＲ２はＷ′の意義を有していな
くてもよい）の化合物を得る。

もし基Ｗ′が例えばパラジウムを使用する水素添加分解
によって分裂される場合は、水素３モル当量の吸収によ
ってＹおよび２が水素である式（ｎ）の化合物が得られ
る。もし水素の吸収を１モル当量において中止する場合
はｎが１であシそしてＹおよび２が一緒になって酸素で
ある式（Ｉｔ）の化合物が得られ、そしてこれらはまた
式（ＸＩＶ）の基、Ｗ／を例えばジオキサンのような不
活性有機溶剤中で例えばトリフルオロ酢酸または塩酸の
ような酸で分裂する場合に得られる。

式（ＸＩＶ）の化合物はまた、既知方法による前述した
式（ｘｍ）の化合物と前述した式（Ｖ）の化合物のミカ
エル付加によって得ることができる。この方法は特にＲ
１がメチルを示し　Ｒ２がエチルヲ示しそしてＸがアリ
ールを示す式（ｘ■）の化合物の製造に対して適当して
いる。

式（Ｘ■）の化合物はジアステレオマーの混合物として
生成される。式（ＸＩＶ）の好適なジアステレオマーは
それぞれ星印をつけたキラールＣ原子がＳ配置を有する
化合物である。これらは例えば結晶化によってかまたは
例えばシリカゲル上のクロマトグラフィー処理によって
分離することができる。基Ｗ′の次の分裂に対してモラ
ールＣ原子の配置は保持される。

式（１）の化合物の製造に対する出発物質として使用さ
れる前述した式（財）の化合物は、既知方法によって、
式（ＸＶ）（式中、■は保護基でありそしてＲ１は前述した意義を
有する）のＮ−保護された２−アミノカルボン酸との反
応によって前述した式Ｑ［１）の化合物から得られる。

反応が完了した後再び分裂される適当な保護基■の例は
第３級ブトキシカルボニルである。

式（１）の化合物を製造する式（ｆ１）の化合物と式＠
）の化合物との反応は、例えばジシクロへキシルカルボ
ジイミドおよび１−ヒドロキシにンゾトリアゾールを縮
合剤として加えるはプチド化学において知られている縮
合反応によって実施される。酸による基Ｗの引続いての
分裂に対しては、トリフルオロ酢酸または塩化水素が酸
とじて好適に使用される。

前述した式＠）、（財）および（１）の化合物の製造の
ための反応においては、架橋Ｃ原子３ａおよび７ａにお
ける中間体生成物の配置はそれぞれの場合において保持
される。

前述した方法によって得られる式（至）の化合物は混合
物として生成されそして例えば再結晶またはクロマトグ
ラフィー処理によって相互から分離することができる。

式（Ｉ［１）の化合物はラセミ混合物として生成されそ
して前述した更に以後の合成にそのまま使用することが
できる。しかしながら、これらの化合物は例えば光学的
に活性な塩基または酸との塩形成による慣用方法を使用
してラセミ体を光学的対掌体に分割した後純粋な鏡像体
として使用することもできる。純粋な鏡像体もまた得る
ことができる。

もし式（１）の化合物がラセミ体として生成される場合
は、これらはまた例えば光学的に活性な塩基または酸と
の塩形成のような慣用方法によって鏡像体に分割するこ
とができるし塘たはクロマトグラフィー処理によって分
離することができる。

本発明による式（１）の化合物はもしＲが水素である場
合は内部塩の形態にある。これらは両性の化合物である
ので、これらは酸または塩基と塩を形成することができ
る。これらの塩は１肖量の酸または塩基との反応によっ
て慣用方法で製造される。

式（１）の化合物およびその塩は持続性でしかも強力な
降圧活性を有する。これらの化合物はアンジオテンシン
変換酵素の強力な阻止剤（ＡＣＥ阻止剤）である。これ
らの化合物は、種々な病因の高血圧を抑制するために使
用することができる。これらの化合物を降圧活性、血管
拡張活性または利尿活性を有する他の化合物と混合する
こともできる。これらの種類の活性化合物の典型的な代
表例は、例えばエルハルドールシエヒ両氏のｒＡｒｚｎ
ｅｌｍｊｔｔｅｌ　Ｊ第２版（１９７２年）に記載され
ている。これらの化合物は静脈内的に、皮下的にまたは
経口的に使用することができる。

経口投与に対する使用量は、普通の体重の成人患者に対
して単一の使用に対して１〜１００■好適には１〜４０
＊ｙである。これは０．０１３〜１３ｍ９／Ｋｑ／日好
適には０．０１３〜０．５３９／Ｋｆ／日に相当する。

毒性はこれまで観察されないので、これはまた重症例に
おいて増大することができる。

使用量の減少もまた可能でありそして利尿剤を同時に投
与する場合に特に適当している。

本発明の化合物は、適当な医薬処方で経口的にまたは非
経口的に投与することができる。経口使用のための形態
に対しては、活性化合物をにヒクル、安定剤または不活
性希釈剤のようなこの目的に対して慣用の添加剤と混合
しそして慣用方法によって錠剤、被覆錠剤、硬質カプセ
ル、水性、アルコール性または油性感′ｆｄ版または水
性、アルコール性またけ油性溶液のような投与に対する
適当した形態に変換する。使用できる不活性ベヒクルは
、例えばアラビヤゴム、炭酸マグネシウム、燐酸カリウ
ム、ラクトース、グルコースまたは殿粉特に玉蜀黍殿粉
である。

これに関連して、処方は乾燥顆粒または湿潤顆粒であシ
得る。適当な油性にヒクルまたは溶剤はヒマワリ油また
はタラ肝油のような植物油または動物油である。

皮下または静脈内投与に対しては、活性化合物またはそ
の生理学的に許容し得る塩を、もし必要ならば溶解剤、
乳化剤または他の補助剤のようなこの目的に対して慣用
の物質と共に溶液、懸濁液または乳濁液に変換する。新
規な活性化合物および相当する生理学的に許容し得る塩
に対する適当な溶剤の例は水、生理学的食塩水またはア
ルコール例えばエタノール、プロパンジオールまたはグ
リセロール、更にまたはグルコースまたはマンニトール
溶液のような糖溶液、または前述した種々な溶剤の混合
物である。

式（１）による化合物の非常に高い活性度は次の表にお
ける薬効学的データによって証明される。

麻酔したラットに対する十二指腸内投与。投与後３０分
におけるアンジオテンシンの３１０１によシ誘起された
昇圧反応の５０％阻止・・・：ＫＤ５Ｑ定したＣ原子お
よびＣ−２はＳ−配置を有する）ｎ　　Ｘ　　ＹＺ　　
Ｒ２Ｒ’　　Ｒ（、ツかＩ　Ｑ　　ＨＨＣ２Ｈ５ＣＨｓ
　　Ｈ４０１Ｑ　　ＨＨＨＣＨ３Ｈ６００（へ）記号ｎ、　Ｘ、　Ｙ、　Ｚ、　Ｒ％Ｒ’およびＲ
２は式（１）（７）化合物に関するものである。

て黄で確認したＣ原子およびＣ−２はＳ配置を有する）
１　Ｄ　Ｈ’ＨＣ２Ｈ５ＣＨ３Ｈ７０１Ｄ　ＨＨＨＣＨｓ　　Ｈ７００１Ｄ　　−０−Ｃ２Ｈ５ＣＨｓ　　Ｈ５００（へ）記号
ｎ％Ｘ％Ｙ、　Ｚ、　Ｒ１Ｒ’およびＲ２は式（１）の
化合物に関するものである。

以下の例は本発明を説明するために示すものであるが、
本発明は以下の例に限定されるものではない。

以下の例に示したＩＨＮＭＲデータはＣＤＣｌ２中にお
ける測定によυ見出しそしてδ（ｐｐｍ）で示した。

例　　１Ｎ−（１８−カルボエトキシ−６−フェニルゾロピル）
−８−アラニル−シス−２、３、３ａ　、　４　、５　
、７ａ−へキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２Ｒ，Ｓ−
エンド−カルボン酸（ａ）　　Ｎ−ベンゾイル−Ｎ　−（１，３−ブタジェ
ニル）−Ｒ，Ｓ−アリル−クリシンのエチルエステルＲ，Ｓ−アリルグリシンエチルエステル２８．６９をト
ルエン１４０ｆｎｔに溶解しそしてクロトンアルデヒド
１４．Ｏｆを加える。無水の硫酸マグネシウム３０２を
加えた後、混合物を室温で３時間攪拌する。それから硫
酸マグネシウムを吸引戸去しそしてトルエンを真空除去
する。残留物は４４．４ｆの油状物である。

塩化メチレン７５０−を−７０℃に冷却しそしてトリエ
チルアミン４４．４９および塩化（ンゾイル２８．１　
ｆを加える。これに、前述したようにして得られたシッ
フ塩基４４．４ｔを加える。

混合物を一７５℃で２時間攪拌する。それをそれからＯ
Ｃに加温せしめる。溶剤を室温で回転蒸発器中で除去す
る。次いで残留物をトルエンにと９、水で洗浄し、乾燥
しそしてトルエンを回転蒸発器中で除去する。残留物を
シリカゲル（５００ｍＡ）の短カラムを通して濾過する
。塩化メチレンを使用して溶離する。塩化メチレンを蒸
発した後、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−（１，３−ブタジェニ
ル）−Ｒ，Ｓ−アリルクリシンのエチルエステル４９９
を得る。

＋ＨＮＭＲデータ：１，１〜１．４（ｔ、３Ｈ）２．７
〜！１．１　（ｍ、　　２Ｈ）４．０〜４．５　（ｍ、　　３Ｈ）４．８〜６．８（ｍ、　　８Ｈ）１３〜７．６（８，５Ｈ）（ｂ）　　エチＡ／　Ｎ　−＜　７ゾイルーシスー２．
３．３ａ、４，５゜７ａ−へキサヒドロ〔１Ｈ〕インド
ール−２Ｒ，Ｓ−エンドーカルポキシレートＮ−ベンゾイル−Ｎ　−（１，３−ブタジェニル）−Ｒ
，Ｓ−７１Ｊルクリシンエチルエステル４９２をキシレ
ン１，０００艷に溶解しそして第３級ブチルカテコール
０．１２およびビストリメチルシリルアセトアミド５滴
を加える。混合物を窒素下で６時間加熱還流し、３時間
後に更に第３級ブチルカテコール０．１ｆおよびビスト
リメチルシリルアセトアミド５滴を加える。キシレンを
回転蒸発器中で除去しそして油状残留物４３２を得る。

トルエン／酢酸エチル（４：１）を使用して油状物７０
２をシリカゲル上でクロマトグラフィー処’ｆｌｆる。

エチルＮ−ペンソイル−シス−２，３，３＆、４，５．
７＆−へキサヒトＯ（ＩＨ）インドール−２Ｒ，Ｓ−エ
ンド−カルホキシレー）　（Ｒｆ：０．１８）５３２が
油状物として得られそしてエチルＮ−にンゾイルーシス
−２，３，３ａ、４，５，７ａ　−ヘキサヒドロＣＩＨ
：］インドール−２Ｒ，Ｓ−エキソ−カルボキシレート
（Ｒｆ：０．２６、融点９６〜９８℃）Ｚ５２が得られ
る。両化合物はラセミ体の形態にある。

（Ｃ）　　シス−２＋　３　＋　３ａ　ｒ　４　＋　５
　＋　７ａ　−−＼キサヒト０（ＩＨ）イｙ　）’　−
ルー　２Ｒ，Ｓ−エンド−カルボン酸エチルＮ−ベンゾ
イル−シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−一＼キサヒ
ドロ（ＩＨ）インドール−２−エンド−Ｒ，Ｓ−カルボ
キシレート１．５２をエタノール１〇−に溶解する。水
５−に溶解した水酸化カリウム０．３５９をこれに加え
る。混合物を室温で２ｆ２時間攪拌し、水でうすめそし
て酢酸エチルで抽出する。水溶液を２Ｎ塩酸で酸性にし
そして再び酢酸エチルで抽出する。回転蒸発器上で乾燥
および蒸発した後、融点１５３〜１５４℃のＮ−ベンゾ
イル−シス−２＋　３　＋　３ａ＋　４　＋　５　＋　
７　ａ−へキサヒドロ［ＩＨ）インドール−２−エンド
−カルボン酸［１，９？を得る。

Ｎ−ベンゾイルカルボン酸１３．４ｒを２Ｎ塩酸２００
ｔｎ！およびエタノール６７ゴの混合物に溶解しそして
１１０℃の浴温度で２２時間窒素下で加熱する。アルコ
ールを真空除去しそして水性相を塩化メチレンで抽出す
る。次いでｐＨを濃水酸化す）　ＩＪウム溶液で７．０
に調整しそして溶液を真空蒸発乾個する。残留物を塩化
メチレン／メタノールにとり、塩をテ過によって除去し
、Ｐ液を蒸発しそしてエタノール／エーテルから再結晶
する。収量７．Ｏｆ。融点２２０℃（分解）。

（ｄ）　　Ｎ　−（Ｉ　Ｓ−カルボエトキシ−３−フェ
ニルプロピル）−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、
４゜５．７ａ−ヘキサヒトＯ［ＩＨ：］］インドー／Ｉ
／−２Ｒ，Ｓ−エンドーカルボン酸Ｎ　−（１８−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル
）−ｓ−アラニア０．８４　ｆ、Ｎ−ヒドロキシサクシ
ンイミド０．６９９およびジシクロへキシルカルボジイ
ミド０．６６　Ｆを０℃の乾燥ジメチルホルムアミド８
−に溶解する。次いで溶液を室温で３時間攪拌する。濃
水酸化す）　ＩＪウム溶液０．２７９の存在下にジメチ
ルホルムアミド１０−および水１〇−中のシス−２，３
，３ａ、４，５゜７ａ−一＼キサヒドロ〔１Ｈ〕インド
ール−２Ｒ，Ｓ−エンド−カルボン酸０．５２の溶液を
加える。混合物を室温で１２時間攪拌し、生成したジシ
クロヘキシル尿素を吸引戸去しそしてＦ液を２Ｎ塩酸で
中和する。それを次に真空蒸発除去し、酢酸エチルにと
り、不溶性物を戸去しそして酢酸エチル溶液を真空蒸発
する。残留物を溶離剤として塩化メチレン／メタノール
（９Ｍ）を使用してシリカゲル上で精製する。収ｊｌＯ
，１５ｔ（Ｒｆ：０．７４）。

例　　２Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル）
−ｓ−アラニル−シス−２、３、３ａ　、　４　、５　
、７ａ−ヘキサヒドロ（ＩＨ）インドール−２８−エン
ド−カルボン酸この化合物は溶離剤として塩化メチレン／メタノール（
９：１）を使用して充分な量のシリカゲル上で例１（ｄ
）からのジアステレオマーの混合物を分離することによ
って得られる。Ｒｆ７０．６５例　　３Ｎ−（１８−カルボエトキシ−３−７エニルプロビル）
−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５，７ａ−
へキサヒドロ［１Ｈ］インドール−２Ｒ−エンド−カル
ボン酸この化合物は、溶離剤として塩化メチレン／メタノール
（９：１）を使用して充分な量のシリカゲル上で例１（
ｄ）からのジアステレオマーの混合物を分離することに
よって得られる。Ｒｆ：０．８例　　４第３級ブチルシス−２，３，３ａ、４，５，７ａ−へキ
サヒドロ〔１Ｈ）−インドール−２Ｒ，Ｓ−エンド−カ
ルボキシレートシス−２，３，３ａ、４，５，７ａ　−ヘキサヒト０−
（ＩＨ）インドール−２Ｒ，Ｓ−エンド−カルボン酸３
．３５ｒをジメチルホルムアミド５０−に溶解しそして
メチルスルホニルエチルサクシンイミドカーボネート５
．３９およびエチルモルホリン２．３９を加える。混合
物を室温で１２時間放置し、溶剤を真空蒸発除去しそし
て残留物を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル溶液を飽
和重炭酸ナトリウム溶液と共に振盪することによって抽
出し、これを２Ｎ塩酸でｐＨ３，５に調整しそして酢酸
エチルで数回抽出する。乾燥後、合した酢酸工オル溶液
を蒸発する。得られた残留物はＮ−メチル−スルホニル
エチルオキシカルボニル−シス−２，３，３ａ、４，５
，７ａ　−−＼キサヒトＯ［ＩＨ：］］インドールー２
Ｒ，Ｓ−エンドーカルボン酸８５５’テ６ル。

これをピリジン１０−に溶解する。これに０℃で第３級
ブタノール１０−および塩化メチレン中のプロピルホス
ホン酸無水物の５０チ強度溶液１２−を加える。混合物
を４０℃で６時間攪拌し、酢酸エチル２００−を加えそ
して酸性硫酸カリウム溶液を３．５のｐＨに達するまで
加える。

混合物を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル溶液を水で洗
浄し、乾燥しそして真空蒸発する。残留する油を溶離剤
として酢酸エチルを使用してシリカゲル上で精製する。

第３級ブチルエステルが油として得られる。

＋ＨＮＭＲデータ：　１．４　（８，９Ｈ）１、、Ｏ〜
２．８　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）２．９（ｓ、　　３Ｈ）３．１〜３．５　（ｍ、　　２Ｈ）３．７〜４．８（ｍ、　　４Ｈ）５．６〜５．９（ｍ、　　２Ｈ）第３級ブチルエステル１．３５　？をメタノール１５ｍ
１および水ｔ５−に溶解する。ｐ＋Ｈを２Ｎ水酸化す）
　ＩＪウム溶液で１３に調整しそして混合物を室温で２
時間攪拌する。次いでそれを２Ｎ塩酸で中和し、メタノ
ールを真空蒸発し、水性相を酢酸エチルで抽出しそして
酢酸エチル溶液を水で洗浄し、乾燥しそして蒸発する。

油状残留物を溶離剤として酢酸エチルを使用してシリカ
ゲル上で精製する。

このようにして、第３級ブチルシス−２，３，３ａ。

４．５，７ａ　−ヘキサヒトｃｌ　［ＩＨ〕インドール
−２Ｒ，Ｓ−エンド−カルボキシレート０．３２が油と
して得られる。

ＩＨＮＭＲデータ：　　１．４（ｓ、９Ｈ）１、（］〜
２．７（ｍ、　　８Ｈ）３．２〜４．９（ｍ、　　２Ｈ）５．８　（ｄ　、　２Ｈ）例　　５第３級ブチルＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニ
ルゾロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４
，５，７ａ　−ヘキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２ｓ
−エンド−カルボキシレートＮ−（ｉｓ−カルボエトキシ−６−フェニルゾロピル）
−８−アラニン０．２８９をジメチルホルムアミド４−
に溶解する。次いでヒドロキシベンゾトリアゾール０．
１５　Ｐおよびジシクロ−＼キシルカルボジイミド０．
２２９を室温で加える。

混合物を室温で４時間攪拌する。それから例４からの第
３級ブチルエステル０．２４９を加えそして混合物を室
温で２０時間攪拌する。それを酢酸エチルでうすめ、尿
素を吸引戸去しそしてＰ液を真空蒸発する。残留物を酢
酸エチルにとシそして酢酸エチル溶液を重炭酸塩溶液で
洗浄し、乾燥しそして蒸発する。油状残留物（０，６ｒ
　）を溶離剤として酢酸エチル／シクロヘキサン（２Ｍ
）を使用してシリカゲル上でジアステレオマーに分割す
る。

２Ｓ−エンド配置を有する第３級ブチルエステル０．２
４　Ｐが得られる。（Ｒｆ：０．４５、ｍ／ｅ　二４８
４　）。

ＩＨＮＭＲデータニ１．４（ｓ、９Ｈ）０．８〜３．８
　（ｍ、　２０Ｈ）３．９〜４．６（ｍ、　　４Ｈ）５．４〜６．０　（ｍ、　　２Ｈ）７．２（θ、５Ｈ）例　　６第３級ブチルＮ−（１８−カルボエトキシ−３−フェニ
ルプロピル）　−８−７ラニルーシスー２．３．３ａ、
４，５．７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨ：）インドール−
２Ｒ−エンド−カルボキシレートこのエステルは例５に記載したようなシリカゲル上にお
ける例５からのジアステレオマーの混合物のクロマトグ
ラフィー処理によって得られる。酢酸エチル／シクロヘ
キサンを使用して溶離する。収量０．１６Ｐ（Ｒｆ：０
．３、ｍ／ｅ：４８４）。

例　　７Ｎ−（１８−カルボエトキシ−３−７エニルプロピ／Ｌ
／　）　−Ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５
，７ａ−一＼キサヒドロ（ＩＨ）インドール−２Ｒ−エ
ンド−カルボン酸トリフルオロアセテート例６で得られた第３級ブチルエステルＯＡ６？を０℃の
トリフルオロ酢酸１−に溶解しそして混合物をこの温度
で３時間攪拌する。トリフルオロ酢酸を真空蒸発除去し
そして残留物をジイソプロピルエーテルから結晶化する
。トリフルオロアセテートの収量は０，０８りである。

融点１２０〜１２１℃。トリフルオロアセテートはメタ
ノール／水（６０：４０）中で塩基性イオン交換体（Ｏ
Ｈ−形態）を使用してアミノ酸に変換することができる
。

例　　８Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル）
−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−
へキサヒドロ（１Ｈｉｌインドール−２８−エンド−カ
ルボン酸トリフルオロアセテート例５に記載した第３級ブチルエステル０．２４２を０℃
のトリフルオロ酢酸１．５艷に溶解しそして混合物をこ
の温度で５時間攪拌する。それから、トリフルオロ酢酸
を真空除去しそして残留物をジイソプロピルエーテル／
石油エーテルから結晶化させる。収量０．１り。ｍ／ｅ
　（シリル化後）５００゜例　　９Ｎ−（１Ｓ−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル）
−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５，７ａ−
一＼キサヒドロ［ＩＨｌインドール−２８−エンド−カ
ルボン酸塩酸塩塩化メチレン５ｍｔ中の例５からの第３級ブチルエステ
ル０．６２の溶液を乾燥塩化水素ガスで飽和しそして２
０〜２５℃で１６時間放置する。

溶液を真空蒸発する。残留物をジイソプロピルエーテル
で飽和しそして吸引戸去する。収量０．４２゜ＩＨＮＭＲデータ二　〇。９〜３．０　（ｍ、　１７Ｈ
）３．４〜４．９（ｍ、　　６Ｈ）５．２〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）塩酸塩はまた、例８からのトリフルオロアセテートを弱
塩基性イオン交換体（アセテート形態）でｐＨ４，０に
変換しそしてそれからエタノール性塩酸で処理しそして
蒸発しそしてジイソプロピルエーテルと共にすυつぶす
ことによっても得ることができる。

例　　１ＯＮ−（ＩＳ−カルボキシ−３−フェニル−ｆｏピル）Ｓ
−アラニ／ｌ／　−シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ
−へキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２Ｒ，Ｓ−エンド
−カルボン酸１当食の水酸化カリウムおよび４Ｎ水酸化カリウム溶液
の１０％過剰を水１０ゴ中のＮ−（１８−カルボエトキ
シ−３−フェニルプロピル）−８−アラニル−シス−２
，３，３ａ、４，５．７ａ　−ヘキサヒドロ（ＩＨ）イ
ンドール−２Ｒ，Ｓ−エンドカルボン酸１２の溶液に加
える。２０〜２５℃で８時間攪拌した後、反応溶液を２
Ｎ塩酸でｐＨ４に調整しそして真空蒸発する。残留物を
酢酸エチルにとシそして沈殿した塩を戸去する。酢酸エ
チル溶液を蒸発しそして残留物をジイソプロピルエーテ
ルと共にすシつぶしそして吸引濾過する。

収量０．５２゜１、０〜３．２　（ｍ　、　１１　Ｈ）３．９〜４．７
　（ｍ、　　４Ｈ）５．４〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｍ、　　５Ｈ）例　　１１Ｎ−（１８−カルボキシ−３−フェニルプロピル）−８
−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５，７ａ　−一
＼キサヒドロ（ＩＨ）インドール−２３−エンド−カル
ボン酸この化合物は例１０に記載した方法と同様にして例８か
らの化合物から製造される。

＋ＨＮＭＲデータ：　　１．５（ｄ、３Ｈ）１．０〜３
．２（ｍ、　　４Ｈ）３．９〜４．７（ｍ、　　４Ｈ）５．４〜６．０　（ｍ、　　２Ｈ）７．２（Ｂ、　　５Ｈ）例　　１２Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−２エニルゾロビル）
−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−
へキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２Ｒ，Ｓ−エキソ−
カルボン酸（ａ）　　シス−２１３１３＆、４，５．７＆　−ヘキ
サヒトＯＩ：ＩＨ）インドール−Ｒ，Ｓ−エキソ−カル
ボン酸この化合物は例１（ｃ）に記載した方法と同様に
して例１（ｂ）に記載したエチルＮ−ベンゾイル−シス
−２，３，３ａ、４，５，７ａ−へキサヒトＯ（ＩＨ）
イン）’−に一２Ｒ，Ｓ−エキンー力ルポキシレートカ
ら製造される。

１　ＨＮＭＲデータ：　　１．６〜２．５　（ｍ、　　
３Ｈ）（Ｈ／１１：交換後）４．４（θ、　１Ｈ）４．８（ｍ、　　ＩＨ）５．４（ｍ、　　ＩＨ）５．８（ｍ、　　１’Ｈ）（ｂ）　　Ｎ　−（Ｉ　Ｂ−カルボエトキシ−３−フェ
ニルゾロピル）−ｓ−アラニル−シス−２，３，３＆。

’　＋　５４７　ａ　−ヘキサヒトＯ［：ＩＨ）インド
ール−２Ｒ、Ｓ−エキソ−カルボン酸この化合物は例１（ｄ）に記載した方法と同様にして例
１２（ａ）の化合物およびＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ
−３−フェニルプロピル）−８−アラニンから製造され
る。

１、６〜３．４　（ｍ　、　１３Ｈ）３．５〜４８（ｍ、　　５Ｈ）５、：２〜６．０　（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　１３Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル）
−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−
ヘキサヒドロ［ＩＨ］インドール−２８−エキソ−カル
、ボン酸この化合物は溶離剤として塩化メチレン／メタノール（
９：１）を使用してシリカゲル上のカラムクロマトグラ
フィー処理によって例１２（ｂ）からのジアステレオマ
ーの混合物から得られる。

Ｒｆ：０．６゜１．６〜５．５　（ｍ、　１３Ｈ）３．５〜４．８　（ｍ、　　５Ｈ）５．３〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　１４第３級ブチルシス−２，３，３ａ、４，５，７ａ　−ヘ
キサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２Ｒ，Ｓ−エキソ−カ
ルボキシレートこの化合物は例４に記載した方法と同様にして例１２（
ａ）からの化合物から製造される。

１ＨＮＭＲデータ：　　１．１〜２．８　（ｍ、　　８
Ｈ）１．４　　　　　（ｓ、　　９Ｈ）３．３〜４．９（ｍ、　　２Ｈ）５．８　　　　（ｍ、　　２’Ｈ）例　　１５第３級ブチルＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−６−フェニ
ルプロピル）−８−アラニル−シス−２，３゜３ａ＋４
＋５．７ａ　−ヘキサヒトＯＣＩＨ］インド−／Ｌ／−
２Ｅ＋−エキソ−カルボキシレートこの化合物は例５に記載した方法と同様にして例１４か
らの化合物およびＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フ
ェニルプロピル）　−８−７ラニンから製造される。ジ
アステレオマーノ混合物は酢酸エチル／シクロヘキサン
（２Ｍ）ｔ−使用してシリカケ゛ル上で分離される。

２−ｓ−エキソ−第３級ブチルエステル（Ｒｆ：ｏ、５
）２−Ｒ−エキンー第３級ブチルエステル（Ｒｆ：０．
４）例　　１６Ｎ−（１８−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル）
−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５，７ａ−
へキサヒドロ（ＩＨ）インドール−２８−エキソ−カル
ボン酸塩酸塩塩化メチレン５−中の例１５からの第３級ブチルエステ
ル０．８２の溶液を乾燥塩化水素ガスで飽和しそして２
０〜２５℃で１６時間放置させる。溶液を真空蒸発し、
残留物をジインプロピルエーテルと共にすシつぶしそし
て吸引戸去する。収１６００′１１ｇ。

１ＨＮＭＲデータ：　　０．８〜３．１　（ｍ、　１７
Ｈ）３．５〜４．８　（ｍ、　６Ｈ）５．３〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　１７Ｎ−（１８−カルボキシ−３−フェニルプロピル）−８
−アラニル−シス−２，３，３Ｊ４，５，７ａ−へキサ
ヒドロ（ｊＨ）インドール−２Ｓ−エキソ−カルボン酸この化合物は例１０に記載した方法と同様にして例１６
からの化合物から製造される。

１ＨＮＭＲデータ：　　１．５（ｄ、３Ｈ）０．９〜３
．４　（ｍ、　１１Ｈ）３．９〜４．８　（ｍ、　　４Ｈ）５．２〜５．９（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　１８Ｎ−（１８−カルボキシ−３−フェニルプロピル）−８
−アラニル−シス−２，３，６ａ、４，５１７ａ−ヘキ
サヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２Ｒ，Ｓ−エキソ−カル
ボン酸この化合物は例１０に記載した方法と同様にして例１２
からの化合物から製造される。

ＩＨＮＭＲデータ：　　１，５（ａ、　　３Ｈ）０．９
〜３．４　（ｍ、　１１Ｈ）３．８〜４．８　（ｍ、　　４Ｈ）５．２〜６．０（ｍ、　　２’Ｈ）７．２（ｓ、　　５）ｒ）例　　１９Ｎ−（１８−カルボエトキシ−３−フェニルプロピル）
−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ１
−へキサヒドロ（ＩＨ）インドール−２８−エンド−カ
ルボン酸（ａ）Ｓ−７１Ｊルクリシンのエチルエステル製造はｒ
Ｍｏｎａｔａｈｅｆｔ　ｄｅｒ　Ｃｈｅｍ１ｅＪ第８５
巻第１０７１頁（１９５４年）に記載したような方法で
実（ｃ）施する。

（ｂ）　　Ｎ−ベンゾイル−Ｎ　−（１，３−ブタジェ
ニル）−８−アリルグリシンのエチルエステルこの化合物は例１（ａ）に記載した方法と同様にして製
造される。

Ｉ　ＨＮＭＲデータ：１．１〜１．４　（ｔｒ、３Ｈ）２、７〜３．１　（ｍ、　　２Ｈ）４．０〜４．５　（ｍ、　　３Ｈ）４．８〜６．８　（ｍ　、　　８Ｈ）１３〜７．６（ｓ、　　５Ｈ）エチルＮ−ベンゾイルーシｙ、　−２，３，３ａ、４，
５゜７ａ−へキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２８−エ
ンド−カルボキシレートおよびエチルＮ−ベンゾイル−
シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ　−ヘキサヒドロ（
ＩＨ）インドール−２Ｓ−エキソー力ルポキシレート例１（ｂ）に記載した方法と同様にして例１９（ｂ）か
らの化合物からこのジアステレオマーの混合物を製造す
る。混合物はトルエン／酢酸エチル（４：１）を使用し
てシリカゲル上で分離される。

エンド化合物のＲｆ値：０．１８゜エキソ化合物のＲｆ
値：０．２６゜＋ＨＮＭＲデータ：　　０．８〜２．８（ｍ、１０Ｈ）
３．８〜４．８　（ｍ、　　４Ｈ）５．５〜５．９（ブロードｓ、２Ｈ）７．４（ｓ、　　５Ｈ）（ａ）　　シス−２，３＋３ａ、４，５．７ａ　−ヘキ
サヒトＯ（ＩＨ）インドール−２８−エンド−カルボン
酸この化合物は例１（Ｃ）に記載した方法と同様にして
例１９（Ｃ）からの化合物から製造される。

ＴＨＮＭＲデータ（Ｄ２０）：　　１．１〜２．９（ｍ
、　　７Ｈ）３．９〜４．４　（ｍ、　　２Ｈ）５．５〜６．４　（ｍ　、　　２Ｈ）（ｅ）　　Ｎ−（１８−カルボエトキシ−３−フェニル
プロピル）−ｓ−アラニル−シス−”　ｒ　３１３ａｒ
４．５，７ａ−へキサヒトＯ（ＩＨ：）インド−／ｌ／
−２８−エンド−カルボン酸この化合物は例１（ｄ）に記載した方法と同様にして例
１９（ｄ）からの化合物およびＮ−（１８−カルボエト
キシ−３−フェニルプロピル）−Ｓ−アラニンから製造
される。

３．０〜４．６　（ｍ　、　　６Ｈ）５．２〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．２（＋３．　５Ｈ）例　　２０第３級ブチルシス−２，３，３ａ、４，５．７ａ　−一
＼キサヒドロ［ＩＨ］インドール−２８−エンド−カル
ボキシレートこの化合物は例４に記載した方法と同様にして例１９（
ｄ）からの化合物から製造される。

１Ｈ’ＮＭＲデータ：　　１．４（ｓ、９Ｈ）１、ＣＩ
〜２．７（ｍ、　８Ｈ）３．２〜４．９（−２Ｈ）５．８（ｄ、　　２Ｈ）例　　２１第６級ブチルＮ−（１３−カルボエトキシ−３−フェニ
ルプロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４
，５．７ａ　−−−＼キサヒトｌ：ｌ［ＩＨ］インドー
ル−２ｓ＝エンド−カルボキシレートこの化合物は例５に記載した方法と同様にして例２０か
らの化合物およびＮ−（１Ｂ−カルボエトキシ−３−フ
ェニルプロピル）−８−アラニンから製造される。

＋ＨＮＭＲデータ：　　１．４（ｓ、　　９Ｈ）０．８
〜３．８　（ｍ　、　２０Ｈ）３．９〜４．６　（ｍ、　　４Ｈ）５．４〜６．０　（ｍ　、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　２２Ｎ−（１Ｂ−カルボエトキシ−３−フェニルプロピ＃）
−８−アラ＝　／Ｌ／−シス−２，３，３ａ、４，５，
７ａ−一＼キサヒドロ（１Ｈ）インドール−２３−エキ
ソ−カルボン酸（ａ）　　シス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−へキサ
ヒトＯ［：ＩＨ）インドール−２８−エキソ−カルボン
酸この化合物は例１（ｃ）に記載した方法と同様にして
例１９（ｃ）からのエキソ化合物から製造される。

ＩＨＮＭＲデータ（Ｄ２０）：　　１．０〜２．８（ｍ
、　　ＩＨ）３．６〜４．４　（ｍ、　　２Ｈ）５．５〜６．４（ｍ、　　２Ｈ）（ｂ）　　Ｎ　−（Ｉ　Ｓ−カルボエトキシ−３−フェ
ニルプロピル）−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ。

４．５．７ａ−一＼キサヒドロ（ｉＨ）インドール−２
８−エキソ−カルボン酸この化合物は例１（ｄ）に記載した方法と同様にして例
２２（ａ）からの化合物およびＮ−（１８−カルボエト
キシ−３−フェニルプロピル）−Ｓ−アラニンから製造
される。

３．０〜４．６　（ｍ、　　６’Ｈ）５．２〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　２３第３級ブチルシス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−へキ
サヒドロ［Ｉ　Ｈｌインドール−２８−エキソ−カルボ
キシレートこの化合物は例４に記載した方法と同様にして例２２　
（ａ）からの化合物から製造される。

＋ＨＮＭＲデータ：　　１．４（ｓ、　　９Ｈ）０．９
〜２．８（ｍ、　　８Ｈ）３．３〜４．９　（ｍ　、　　２’Ｈ）５、’４〜５．
８　（ｍ　、　　２Ｈ）例　　２４第３級ブチルＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニ
ルプロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４
，５．７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨ〕インドール−２ｓ
−エキソ−カルボキシレートこの化合物は例５に記載した方法と同様にして例２３か
らの化合物およびＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フ
ェニルプロピル）−ｓ−７ラニンから製造される。

ＩＨＮＭＲデータ：　　１．３（ｓ、　　９Ｈ）０．９
〜３．７　（ｍ　、　２０Ｈ）３．８〜４．７　（ｍ、　　４Ｈ）５．４〜６．０（ｍ、２Ｈ）７．２（ｓ、　　５Ｈ）例　　２５第３級ブチルＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニ
ル−３−オキソプロピル）−８−７ラニルーシスー２．
３．３ａ、４，５，７ａ　−ヘキサヒトｃｌ　［ＩＨ〕
インドール−２８−エンド−カルボキシレートジメチル
ホルムアミド２〇−中の１−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール１．２　ｒ　、第３級ブチルシス−２，３，３ａ、
４．・５．７ａ−ヘキサヒトＯ［ＩＨ：］］インドール
ー２８−エンドーカルボキシレート２５２およびジシク
ロへキシルカルボジイミド２２と共にＮ−（１Ｓ−カル
ボエトキシ−３−フェニル−３−オキソプロピル）−８
−アラニン２．５２を０℃で１時間攪拌しそしてそれか
ら２０〜２５０で１２時間攪拌する。反応溶液を酢酸エ
チル２５ゴでうすめる。沈殿した尿素を吸引戸去する。

真空蒸発後、得られた残留物をエーテルにとり、エーテ
ル溶液を飽和水性重炭酸ナトリウムおよび水で洗浄し、
乾燥しそして蒸発する。収量２．５２゜＋ＨＮＭＲデータ：　　１．２（１３，９Ｈ）０．９〜
２．９　（ｍ　、　１５Ｈ）３．４〜５．０（ｍ、　　６Ｈ）５．２〜６．０（ｍ、　　２’Ｈ）７．２〜８．２（ｍ、　　ｓＨ）例　　２６第３級ブチルＮ−（１８−カルボエトキシ−３）ｘニル
−３−、オキソプロピル）−８−７ラニルーシスー２．
３，３ａ、４，５．７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨ：］］
インドールー２８−エキソーカルボキシレーこの化合物
は例２５に記載した方法と同様にして例２３からの化合
物およびＮ−（１８−カルボエトキシ−３−フェニル−
３−オキソプロピ７＋、、　）　−Ｂ−アラニンから製
造される。

ＩＨＮＭＲデータ：　　１．３（ａ、　９Ｈ）１、０〜
２．８　（ｍ　、　１゛５Ｈ）３．３〜４．９　（ｍ、
　　６Ｈ）５．３〜６．０　（ｍ、　　２Ｈ）７．２〜８．２（ｍ、　　５Ｈ）例　　２７Ｎ−（１６１−カルボエトキシ−３−フェニル−３−オ
キソプロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、
４，５，７ａ−ヘキサヒトＯ（ＩＨ）インドール−２８
−エンド−カルボン酸トリフルオロアセテート例２５からの化合物１．６２をトリフルオロ酢酸５−中
で２０〜２５℃で２時間攪拌する。溶液を真空蒸発しそ
して残留物をジイソプロピルエーテルと共にすシつぶし
そして吸引戸去する。

収量０．４り。

５．２〜５．９（ｍ、　　２Ｈ）７．３〜８．１　（ｍ、　　５Ｈ）例　　２８Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニル−３−オキ
ソプロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４
，５．７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨＩインドール−２ｓ
−エキソ−カルボン酸塩酸塩例２６からの化合物０．５２を塩化メチレン５−に溶解
し、溶液を塩化水素ガスで飽和しそして２０〜２５℃で
１６時間放置する。それを真空蒸発しそして残留物をジ
イソプロピルエーテルと共にすシつぶしそして吸引濾過
する。収量０３２゜３．９〜４．８（ｍ、　　６Ｈ）５．３〜６．０（ｍ、　　２Ｈ）７．１〜８．０（ｍ、　　５Ｈ）例　　２９Ｎ−（ＩＳ−カルボキシ−３−フェニル−５−オキソプ
ロピル）−ｓ−アラニル−シス−２，３，３ａ。

４．５，７ａ−ヘキサヒトＯ（ＩＨ：ｌインド−７ｔ、
　−２Ｂ　−エンド−カルボン酸例１０に記載した方法と同様にして例２７からの化合物
０，５２を水酸化カリウム２当量と反応させる。収量０
．２５　Ｆ。

３．７〜４．６（ｍ、　　４Ｈ）５．２〜５．９（ｍ、　　２Ｈ）７１〜８．０　（ｍ、　　５Ｈ）例　　３ＯＮ−（１８−カルボキシ−３−フェニル−３−オキソプ
ロピル）−ｓ−アラニル−シス−２，３，３＆。

４．５．７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨ）インドール−２
８−エキソカルボン酸例１０に記載した方法と同様にして例２８からの化合物
０．５２を２当量の水酸化カリウムと反応させる。収量
０３１゜５．２〜５．９　（ｍ、　　２Ｈ）７．２〜８．０　（ｍ、　　５’Ｈ）例　　３１第３級ブチルＳ−アラニル−シス−２，３，３＆、４，
５゜７ａ−へキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−２８−エ
ンド−カルボキシレート（ａ）第３級フチルＮ−メチルスルホニルエチルオキシ
カルボニル（ＭＳＣ）　−Ｓ−アラニル−シス−２，３
，３ａ、４，５，７ａ−へキサヒトｃｌ　［ＩＨ］イン
ドール−２ｓ−エンド−カルボキシレート１−ヒドロキシベンゾトリアゾール６．７りおよび第３
級ブチルシス−２，３，３ａ、４，５．７ａ−ヘキサヒ
ドロ（ＩＨ）インドール−２ｓ−エンドーカルボキシレ
ート１４．７　？を、ジメチルホルムアミド５〇−中の
ＭＳＣ−ａｔａ　−ＯＨ１０ｔの溶液に加える。ｐＨ’
ｉＮ−エチルモルホリンで８．０に調整する。混合物を
水浴中で冷却しそしてジシクロへキシルカルボジイミド
１０．５　Ｐを加える。混合物を２０〜２５℃で１５時
間攪拌する。沈殿した尿素を吸引戸去し、Ｐ液を真空蒸
発しそして酢酸エチルに入れる。Ｍ様相を連続的に酸性
硫酸カリウム、重炭酸カリウムおよび塩化ナトリウム溶
液で洗浄し、乾燥しそして蒸発する。残留物を酢酸エチ
ル／シクロＩ＼キサン（１：１）を使用してシリカゲル
上でクロマトグラフィー処理する。収量１０ｔ０＋ＨＮＭＲデータ：　　１．４（ｓ、　　９Ｈ）１．３
（ｄ、　　３Ｈ）１．１〜２．６（ｍ、　　７Ｈ）３．０（ｓ、　　３Ｈ）３．２〜３．５（ｍ、　　２Ｈ）３．５〜４．９　（ｍ、　　５Ｈ）５．６〜５．９（ｍ、　　２Ｈ）（ｂ）　　第３級ブチルＳ−アラニル−シス−２，３，
３ａ。

４＋　”　Ｈ７ａ−へキサヒドロ〔１Ｈ〕インドール−
２８−エンド−カルボキシレート例３１　（ａ）の化合物２．Ｏ２をメタノール１５−お
よび水１．５−に溶解する。ｐＨを２Ｎ水酸化ナトリウ
ム溶液で１３に調整しそして混合物を室温で２時間攪拌
する。次いでそれを２Ｎ塩酸で中和し、メタノールを真
空蒸発しそして水性相を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチ
ル溶液を水で洗浄し、乾燥しそして蒸発する。残留物を
シリカゲルを通して濾過し、酢酸エチルで溶離する。

収量０．８９０１ＨＮＭＲデータ：　　１．４（ｓ、　　９Ｈ）１．３
（ｄ、　　３Ｈ）１．０〜２．４　（ｍ、　　７Ｈ）３、５〜４゜８　（ｍ、　　３Ｈ）５．５〜５．９　（ｍ、　　２’Ｈ）例　　３２第３級ブチルＳ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，
５，７ａ−へキサヒドロ［ＩＨ）インドール−２８−エ
キソ−カルボキシレートこの化合物は例３１に記載した方法と同様にして例２３
の化合物から製造される。

＋　ＨＮＭＲデータ：　　１．２（ｄ、　　３Ｈ）１．
４（ａ、　　９Ｈ）０．９〜２．３　（ｍ、　　７Ｈ）３．４〜４．７（ｎ、　　３Ｈ）５．６〜５．９　（ｍ　、　　２Ｈ）例　　３３第３級ブチルＮ−（１８−カルボエトキシ−３−オキソ
−６−フェニルプロピル）−ｓ−７ラニルーシスー２＋
３．３ａ＋４．５，７ａ　−ヘキサヒドロ〔１Ｈ〕イン
ドール−２ｓ−エンド−カルボキシレートエチル３−ベ
ンゾイルアクリレート５ミリモルおよびトリエチルアミ
ン５滴と共に例３１　（ｂ）からの化合物５ミリモルを
無水エタノール５〇−に溶解しそして混合物を２０〜２
５℃で２４時間攪拌する。それを蒸発乾個しそして残留
物を酢酸エチルに入れる。それから、それを水で洗浄し
、乾燥しそして蒸発する。

溶離剤として酢酸エチル／シクロヘキサンを使用してジ
アステレオマーの混合物をシリカゲル上でクロマトグラ
フィー処理する。ＩＨＮＭＲデータは例２５からの化合
物のデータと一致する。

例　　３４第３級ブチルＮ−（１８−カルボエトキシ−３−、オキ
ソ−３−フェニルプロピル）−８−７５＝ルーシス−２
，３，３ａ、４，５．７ａ　−−＼キサヒドロ　（１Ｈ
）インドール−２８−エキンー力ルポキシレートこの化
合物は例６３に記載した方法と同様にしてエチルベンゾ
イルアクリレートを使用して例３２からの化合物から製
造される。

例　　３５第３級ブチルＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−フェニ
ルプロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４
，５．７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨ〕インドール−２８
−エンド−カルボキシレート第６級ブチルＳ−アラニル−シス−２，３，３ａ、４，
５．７ａ−へキサヒドロ（ＩＨ）　インドール−２８−
エンド−カルボキシレート５ミリモルを無水エタノ−Ａ
／１５ｄに溶解する。溶液のｐＨをエタノール性水酸化
カリウムでＺＯに調整しそして粉末状の分子ふるい（４
Ａ）０．７５’そしてそれからエチル２−’７）−４−
フェニルブチレート５ミリモルを加える。無水エタノー
ル６−中のシアノ硼水素化ナトリウム０．６２の溶液を
徐々に流加する。

２０〜２５℃で２０時間の反応時間の後に、溶液を濾過
しそして溶剤を留去する。残留物を酢酸エチル／水に入
れる。酢酸エチル相の蒸発後に残留物を酢酸エチル／シ
クロ−・キサン（１：４）を使用してシリカゲル上でク
ロマトグラフィー処理する。

ｉＨＮＭＲデータは、例２１からの化合物のデータと一
致する。

例　　３６第３級ブチルＮ−（ＩＳ−カルボエトキシ−６−フェニ
ルプロピル）−８−アラニル−シス−２Ｉ３，３ａ、４
，５，７ａ−へキサヒドロ［ＩＨ：］］インドールー２
８−エキソーカルボキシレーこの化合物は例３５に記載した方法と同様にして例３２
からの化合物およびエチル２−ケト−４−フェニルブチ
レートから製造される。

１ＨＮＭＲデータは、例２４からの化合物のデータと一
致する。

例　　３７第３級ブチルＮ−（１８−カルボエトキシ−３−オキソ
−３−フェニルゾロピル）−８−アラニル−シス−２，
３，３ａ、４，５，７ａ　−ヘキサヒトＯ（ＩＨ：］］
インドールー２日−エンドーカルボキシレート氷酢酸３
０中のアセトフェノン１０ミリモル、エチルグリオキシ
レート１ｏミリモルおよび第３級ブチルＳ−アラニル−
シス−２，３，３ａ。

４．５．７ａ−Ｉ＼キサヒトＩｌｌ　（ＩＨ）インドー
ル−２８一エンドーカルポキシレート１０ミリモルを、
４５℃で３６時間加熱する。真空蒸発後、残留物を重炭
酸ナトリウム溶液で中和しそして酢酸エチルで抽出する
。酢酸エチル相を蒸発しそして溶離剤として酢酸エチル
／シクロ−＼キサン（１：１）を使用してシリカゲル上
でクロマトグラフィー処理する。

１ＨＮＭＲデータは、例２５からの化合物のデータと一
致する。

例　　３８第３級ブチルＮ−（１８−カルボエトキシ−３−オキソ
−３−フェニルプロピル）−８−アラニル−シス−２，
３，３ａ、４，５．７ａ−ヘキサヒトＯ［ＩＨ）インド
ール−２ｓ−エキソ−カルボキシレートこの化合物は例
３７に記載した方法と同様にして例３２からの化合物お
よびエチルグリオキシレートおよびアセトフェノンから
製造される。

ＩＨＮＭＲデータは、例２４からの化合物のデータと一
致する。

例　　３９Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３Ｒ，Ｓ−ヒドロキシ−
３−フェニルプロピル）−８−アラニル−シス−２，３
，３ａ、４，５．７ａ−一＼キサヒトＯ［１Ｈ：］イン
ドール−２８−エンド−カルボン酸Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−３−オキソ−３−フェニ
ルプロピル）−８−アラニル−シス−２，３，３ａ、４
，５．７ａ−ヘキサヒト（：ｌ　［ＩＨ］インドール−
２Ｓ−エンド−カルボン酸０．５２を無水エタノール５
ｒｒＬｔに溶解しそして硼水素化ナトリウム０．１２を
加える。混合物を室温で１４時間攪拌する。次いで酢酸
エチルを加えそして酢酸エチル溶液を水で洗浄し、乾燥
しそして蒸発する。

粗製生成物を溶離剤として酢酸エチル／メタノール（９
：１）を使用してシリカゲル上でクロマトグラフィー処
理する。収量０３２゜３、８〜４．８　（ｍ、　　７Ｈ）５．３〜５．８　（ｍ、　　２Ｈ）７２（ｓ、　　５Ｈ）例Ｎ−（１ｓ−カルボエトキシ−３Ｒ，Ｓ−ヒドロキシ−
３−フェニルプロピル）−ｓ−゛アラニルーシスー２＋
３．３ａ＋４．５．７ａ　−ヘキサヒドロ［ＩＨ）イン
ドール−２８−エキソ−カルボン酸Ｎ−（ＩＳ−カルボエトキシ−６−オキソフェニルプロ
ピル）−ｓ−アラニル−シス−２，３，３＆。

４．５，７ａ−ヘキサヒトｏ　（ＩＨ，：ｌインドール
−２ｓ−エキソ−カルボン酸０．５９を、例６９に記載
した方法と同様にして硼水素化ナトリウム０．１２と反
応させる。収量０．２２゜３．７〜４．９　（ｉｎ、　　７Ｈ）５．２〜５．９（ｍ、　　２Ｈ）７．２　　　　（Ｓ、　　５Ｈ）特許出願人　　ヘキスト・アクテエンゲゼルシャフト

Claims

【特許請求の範囲】１）式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｃ原子３ａおよび７ａ上のＨ原子は相互に関し
てシス配置を有しそしてＣ原子２上の基−ＣＯ＿２Ｗは
二環式環系に対してエキソまたはエンドに配向されそし
てＷは水素または酸によって分裂できる基を示す）の化
合物。２）式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｃ原子３ａおよび７ａ上のＨ原子は相互に関し
てシス配置を有しそしてＣ原子２上の基−ＣＯ＿２Ｗは
二環式環系に対してエキソまたはエンドに配向されそし
てＷは水素または酸によって分裂できる基を示す）の化
合物の製造において、式（IX） ▲数式、化学式、表等があります▼（IX）〔式中、Ｒ＾２′は（Ｃ＿１〜Ｃ＿８）−アルキルまた
は（Ｃ＿７〜Ｃ＿８）−アラルキルを示す〕の化合物を
アシル化剤〔これは基−ＣＯ−Ｒ＾３｛基Ｒ＾３は（Ｃ
＿１〜Ｃ＿６）−アルキル、（Ｃ＿５〜Ｃ＿９）−シク
ロアルキル、（Ｃ＿２〜Ｃ＿６）−アルケニル、（Ｃ＿
１〜Ｃ＿６）−アルコキシ、アリール、アリールオキシ
、アリール−（Ｃ＿１〜Ｃ＿４）−アルキルまたはアリ
ール−（Ｃ＿１〜Ｃ＿４）−アルコキシを示す｝を移動
する〕と反応せしめて式（Ｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ）（式中、Ｒ＾２′およびＲ＾３は前述した意義を有する
）の化合物を得、これを環化せしめて式（Ｘ I ）▲数
式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ）（式中Ｒ＾２′およびＲ＾３は前述した意義を有しそし
て架橋Ｃ原子上の水素原子はシス配置を有する）の立体
異性体化合物の混合物を得、ジアステレオマーの対が存
在するこの立体異性体の混合物すなわち式（IX）の出発
化合物がＲ配置であるかまたはＳ−配置であるかまたは
ラセミ体であるかによってそれぞれ式（Ｘ I ｂ）およ
び式（Ｘ I ｄ）または（Ｘ I ａ）および（Ｘ I ｃ）
の混合物または式（Ｘ I ａ）〜（Ｘ I ｄ）の混合物を
加水分解し ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ａ）▲数式
、化学式、表等があります▼（Ｘ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ｃ）▲数式
、化学式、表等があります▼（Ｘ I ｄ）（式中Ｒ＾２′およびＲ＾３は前述した意義を有する）
、もし適当であるならば予め鏡像体、ジアステレオマー
の対またはラセミ体に分離した後に加水分解してＷが水
素を示す式（III）の化合物を得、もし適当であるなら
ば、後者の化合物をエステル化してＷが酸によって分裂
できる基を示す式（III）の化合物を得ることからなる
、前記式（III）の化合物の製法。