JPH02275867A - イソシアヌレート誘導体の製造方法 - Google Patents
イソシアヌレート誘導体の製造方法Info
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- JPH02275867A JPH02275867A JP2005590A JP2005590A JPH02275867A JP H02275867 A JPH02275867 A JP H02275867A JP 2005590 A JP2005590 A JP 2005590A JP 2005590 A JP2005590 A JP 2005590A JP H02275867 A JPH02275867 A JP H02275867A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
従来、イソシアヌレート化合物としては、耐熱エナメル
等に用いられているトリス−(2−ヒドロキシエチル)
−イソシアヌレート(以下、THEICと記す)、粉体
塗料等に用いられているトリス−(2,3−エポキシプ
ロピル)−イソシアヌレート(以下、TEPrCと記す
)、トリス−(2−カルボキシエチル)−イソシアヌレ
ート(以下、TCEICと記す)、トリアリルイソシア
ヌレート、及び、トリクロロイソシアヌレート等が知ら
れている。
等に用いられているトリス−(2−ヒドロキシエチル)
−イソシアヌレート(以下、THEICと記す)、粉体
塗料等に用いられているトリス−(2,3−エポキシプ
ロピル)−イソシアヌレート(以下、TEPrCと記す
)、トリス−(2−カルボキシエチル)−イソシアヌレ
ート(以下、TCEICと記す)、トリアリルイソシア
ヌレート、及び、トリクロロイソシアヌレート等が知ら
れている。
イソシアヌレート化合物及びこれらを出発物質とする誘
導体の共通する特徴としては、良好な耐候性や透明性等
が挙げられ、かかる諸性質はトリアジン骨格に由来する
ものと考えられている。
導体の共通する特徴としては、良好な耐候性や透明性等
が挙げられ、かかる諸性質はトリアジン骨格に由来する
ものと考えられている。
このため、イソシアヌレート化合物及びそれらを出発物
質とする誘導体の開発は古くから行なわれて来た。
質とする誘導体の開発は古くから行なわれて来た。
たとえば、THEICを出発物質とする誘導体としでは
モノカルボン酸とのエステル等の化合物があり、TCE
ICを出発物質とする誘導体としてはアルコール類との
エステル等の化合物が知られ、これらを耐熱性の可望剤
等に応用しようとする試みがあった。
モノカルボン酸とのエステル等の化合物があり、TCE
ICを出発物質とする誘導体としてはアルコール類との
エステル等の化合物が知られ、これらを耐熱性の可望剤
等に応用しようとする試みがあった。
又、高い反応性を有するエポキシ化合物であるTEPr
Cを出発物質とする例も多い。
Cを出発物質とする例も多い。
TEPICは、エポキシ化合物のなかでも、特に硬化物
の耐熱性や耐候性が優れていることはよく知られている
が溶剤溶解性が乏しいといった問題もあり、それらの解
決のため特開昭56−61374、特公昭46−374
94等に記載されているように様々なカルボン酸、アミ
ン類、メルカプタン化合物等と、TEPIC分子内に3
個存在するエポキシ基のうちの一部を反応させて新規な
エポキシ化合物を製造しようとする誘導体研究が行なわ
れていた。
の耐熱性や耐候性が優れていることはよく知られている
が溶剤溶解性が乏しいといった問題もあり、それらの解
決のため特開昭56−61374、特公昭46−374
94等に記載されているように様々なカルボン酸、アミ
ン類、メルカプタン化合物等と、TEPIC分子内に3
個存在するエポキシ基のうちの一部を反応させて新規な
エポキシ化合物を製造しようとする誘導体研究が行なわ
れていた。
さて、分子内に3個以上のヒドロキシル基を有する多価
アルコールの如き、イソシアヌレート化合物としては、
先にあげたTHEICがこの代表的化合物であるが、T
HEICは耐熱性や耐候性が優れているといった特徴を
有するものの、結晶性が強い、融点が高い、アルコール
、水等の高極性溶剤には溶解しやすいものの通常の有機
溶剤に溶解しに(いといった性質があり、用途が限定さ
れるという問題もあった。
アルコールの如き、イソシアヌレート化合物としては、
先にあげたTHEICがこの代表的化合物であるが、T
HEICは耐熱性や耐候性が優れているといった特徴を
有するものの、結晶性が強い、融点が高い、アルコール
、水等の高極性溶剤には溶解しやすいものの通常の有機
溶剤に溶解しに(いといった性質があり、用途が限定さ
れるという問題もあった。
そこで、結晶性が低く通常の有機溶剤にも溶解しやすい
多価アルコールの如き、イソシアヌレート化合物が求め
られていた。
多価アルコールの如き、イソシアヌレート化合物が求め
られていた。
本願発明者は鋭意検討の結果、下記式(1)(式中、X
+及びX2のうちどちらか一方はR,COO基で他方は
OH基であり、Yl及びY2のうちどちらか一方はR,
COO基で他方はOH基であり、更にZ、及びZ、tの
うちどちらか一方はR,COO基で他方はOH基である
イソシアヌレート誘導体であり、R,、R2、R1はO
H基若しくは000基で置換されていてもよい炭素数1
〜20のアルキル基)で表される新規なイソシアヌレー
ト誘導体を製造することによって前記課題を解決するこ
とを見出した。
+及びX2のうちどちらか一方はR,COO基で他方は
OH基であり、Yl及びY2のうちどちらか一方はR,
COO基で他方はOH基であり、更にZ、及びZ、tの
うちどちらか一方はR,COO基で他方はOH基である
イソシアヌレート誘導体であり、R,、R2、R1はO
H基若しくは000基で置換されていてもよい炭素数1
〜20のアルキル基)で表される新規なイソシアヌレー
ト誘導体を製造することによって前記課題を解決するこ
とを見出した。
本願発明のイソシアヌレート誘導体は、結晶性はTHE
I Cよりも低くなり、一般にアモルファスとなって
、溶剤溶解性が向上することが明らかになった。
I Cよりも低くなり、一般にアモルファスとなって
、溶剤溶解性が向上することが明らかになった。
この理由は必ずしも明らかではないが、これは分子内に
有する3つの脂肪酸エステル基がその結晶性を阻害する
ためであると推察される。
有する3つの脂肪酸エステル基がその結晶性を阻害する
ためであると推察される。
本願発明の新規なイソシアヌレート誘導体の製造法とし
ては、TEPICと、カルボン酸との反応によって得る
ことができる。
ては、TEPICと、カルボン酸との反応によって得る
ことができる。
TEPICとカルボン酸との反応によって、本願発明の
新規なイソシアヌレート誘導体を製造する場合、反応条
件は通常の有機溶剤を用いて加熱して行なっても良いし
、有機溶剤を使用せずに溶融させたTEPICにカルボ
ン酸を加えて行なっても良い。
新規なイソシアヌレート誘導体を製造する場合、反応条
件は通常の有機溶剤を用いて加熱して行なっても良いし
、有機溶剤を使用せずに溶融させたTEPICにカルボ
ン酸を加えて行なっても良い。
又、4級アンモニウム塩や、3級アミン、有機リン系化
合物といったエポキシ/カルボン酸の付加反応を促進す
る触媒を加えて行なっても良い。
合物といったエポキシ/カルボン酸の付加反応を促進す
る触媒を加えて行なっても良い。
更に、反応温度は特に限定しないが有機溶剤を用いて触
媒を加えて行なう場合には60−150°C位が望まし
く、有機溶剤を使用せずに溶融させたTEPICを用い
る場合には100〜200 ’C位が望ましい。
媒を加えて行なう場合には60−150°C位が望まし
く、有機溶剤を使用せずに溶融させたTEPICを用い
る場合には100〜200 ’C位が望ましい。
一般に、エポキシ基とカルボン酸の反応生成物は、式(
II)及び式(II[)の如く、OH基とエステル基の
位置の異なる2種類の異性体を生成することが知られて
いる。
II)及び式(II[)の如く、OH基とエステル基の
位置の異なる2種類の異性体を生成することが知られて
いる。
0 〔■〕
0 〔■〕
このため、本願発明の誘導体はTEPICの3つのエポ
キシ基へのカルボン酸の付加体であるがら、1種類のカ
ルボン酸を用いても計8種類の異性体を生ずる。
キシ基へのカルボン酸の付加体であるがら、1種類のカ
ルボン酸を用いても計8種類の異性体を生ずる。
これらは高速液体クロマトグラフィー装置、カラムクロ
マトグラフィー装置、等によって分離可能ではあるが、
回収率の低いといったの問題がある。
マトグラフィー装置、等によって分離可能ではあるが、
回収率の低いといったの問題がある。
しかしながら、TEPICとカルボン酸の付加体の異性
体群は殆ど同等の性質を有するため、特に分離しなくと
も実質的には異性体混合物でも問題はない。
体群は殆ど同等の性質を有するため、特に分離しなくと
も実質的には異性体混合物でも問題はない。
請求項記載の新規なイソシアヌレート誘導体の用途とし
ては、ポリエステル、ウレタン樹脂等、ヒドロキシル基
と他の置換基との反応を利用することにより製造される
樹脂の改質、エポキシ樹脂の硬化剤、金属表面処理剤、
無機粉体の分散剤、アクリルゴムの改質剤、等があげら
れる。
ては、ポリエステル、ウレタン樹脂等、ヒドロキシル基
と他の置換基との反応を利用することにより製造される
樹脂の改質、エポキシ樹脂の硬化剤、金属表面処理剤、
無機粉体の分散剤、アクリルゴムの改質剤、等があげら
れる。
以下、実施例を示し、さらに詳細に説明する。
4、実施例
〈実施例1〉
撹拌機、温度計、冷却管のついた四つロフラスコに、T
EPIC−3(口座化学工業製商品名、トリス−(2,
3−エポキシプロビル)−イソシアヌレート<TEPI
C>の高純度品)297重量部およびエチレンジクロラ
イド(以下、EDCと記す)214重量部を加え、10
0°Cにて溶解させる。
EPIC−3(口座化学工業製商品名、トリス−(2,
3−エポキシプロビル)−イソシアヌレート<TEPI
C>の高純度品)297重量部およびエチレンジクロラ
イド(以下、EDCと記す)214重量部を加え、10
0°Cにて溶解させる。
ここに、酢酸220重量部及び、反応触媒としてテトラ
メチルアンモニウムクロライド(以下、TMACと記す
)2.3重量部を加えて、EDCのリフラックス温度に
て、12時間反応させる。
メチルアンモニウムクロライド(以下、TMACと記す
)2.3重量部を加えて、EDCのリフラックス温度に
て、12時間反応させる。
その後、エバポレータにてEDC及び未反応の酢酸を留
去し、水飴状の生成物を得た。
去し、水飴状の生成物を得た。
以上の方法により、X、及びXz、のうち一方はCH,
COO基であり他方はOH基であり、Y。
COO基であり他方はOH基であり、Y。
及びY2のうち一方は、CH,COO基であり他方はO
H基であって、かつ、Zl及びZ2のうち一方はCHI
COO基であり他方はOH基である目的物を得た。
H基であって、かつ、Zl及びZ2のうち一方はCHI
COO基であり他方はOH基である目的物を得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ価を測定した結果、残留
エポキシ量は滴定法の検出限界以下であった。
エポキシ量は滴定法の検出限界以下であった。
島津製作所製GPCカラムH3G−15及びH3C;−
30を用いて、カラム温度40”C,溶離液テトラヒド
ロフラン、流量1.8m I 7分の条件にて、GPC
法により生成物の2%テトラヒドロフラン溶液の組成分
析を行なった結果、リテンションタイム 27.8分に
単一ピークが認められた。
30を用いて、カラム温度40”C,溶離液テトラヒド
ロフラン、流量1.8m I 7分の条件にて、GPC
法により生成物の2%テトラヒドロフラン溶液の組成分
析を行なった結果、リテンションタイム 27.8分に
単一ピークが認められた。
無水酢酸処理後の逆滴定法によりOH基含有量を測定し
た結果、6.2当量/kgであり、はぼ理論値通りの結
果であった。
た結果、6.2当量/kgであり、はぼ理論値通りの結
果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1733cm−’付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
〈実施例2〉
実施例1と同様の方法で、今度は溶剤および触媒を用い
ず、TEPIC−3297重量部を140”Cにて溶融
した後、130°Cに温度を下げて攪拌しておき、ここ
に酢酸180重量部を30分〜1時間か・けて加え、そ
の後2時間反応させる。
ず、TEPIC−3297重量部を140”Cにて溶融
した後、130°Cに温度を下げて攪拌しておき、ここ
に酢酸180重量部を30分〜1時間か・けて加え、そ
の後2時間反応させる。
次いで温度を140℃に昇温しで、1時間反応させる。
反応終了後、冷却し水飴状の生成物を得た。
以上の方法により、X、およびX2のうち一方はCH,
COO基であり他方はOH基であり、Y+及びY2のう
ち一方はCH,COO基であり他方はOH基であって、
かつ、Zl及びZ2のうち一方はCH,COO基であり
他方はOH基である目的物を得た。
COO基であり他方はOH基であり、Y+及びY2のう
ち一方はCH,COO基であり他方はOH基であって、
かつ、Zl及びZ2のうち一方はCH,COO基であり
他方はOH基である目的物を得た。
エポキシ価を測定した結果、検出限界以下であった。
GPC法により生成物のテトラ、ヒドロフラン溶液の組
成分析を行なった結果、リテンションタイム 27.8
分に単一ピークが認められた。
成分析を行なった結果、リテンションタイム 27.8
分に単一ピークが認められた。
OH基含有量を測定した結果、6.3当量/kgであり
、はぼ理論値通りの結果であった。
、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1733cm−’付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH5の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH5の吸収が認められた。
〈実施例3〉
実施例2と同様の方法で、TEPIC−3297重量部
を140℃にて溶融した後、130°Cに温度を下げて
攪拌しておき、ここに、ラウリン酸600重量部を加え
て、温度130’Cにて2時間反応させ、その後、TM
AC3重量部を加えて、2時間反応させ、ワックス状の
生成物を得た。
を140℃にて溶融した後、130°Cに温度を下げて
攪拌しておき、ここに、ラウリン酸600重量部を加え
て、温度130’Cにて2時間反応させ、その後、TM
AC3重量部を加えて、2時間反応させ、ワックス状の
生成物を得た。
以上の方法により、xl及びXlのうち一方はC,、H
,、COO基であり他方はOH基であり、Y。
,、COO基であり他方はOH基であり、Y。
及びY!のうち一方はCIIH!3000基であり他方
はOH5であって、かつ、Zl及びZ2のうち一方はC
+tHzzCOO基であり他方はOH基である目的物を
得た。
はOH5であって、かつ、Zl及びZ2のうち一方はC
+tHzzCOO基であり他方はOH基である目的物を
得た。
エポキシ価は検出限界以下であった。
GPC法により、生成物の2%テトラヒドロフラン溶液
の組成分析を行なった結果、リテンションタイム 25
.6分に単一ピークが認められた。
の組成分析を行なった結果、リテンションタイム 25
.6分に単一ピークが認められた。
01−1基含有量を測定した結果、3.3当!/kgで
あり、はぼ理論値通りの結果であった。
あり、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1738cm−’付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
〈実施例4〉
実施例2と同様の方法で、TEPIC−3297重量部
を140″Cにて溶融した後、ステアリン酸852重量
部を加えて、温度140℃にて2時間反応させ、その後
TMAC3重量部を加えて2時間反応させ、ワックス状
の生成物を得た。
を140″Cにて溶融した後、ステアリン酸852重量
部を加えて、温度140℃にて2時間反応させ、その後
TMAC3重量部を加えて2時間反応させ、ワックス状
の生成物を得た。
以上の方法により、X、及びX、のうち一方はCIt
H3s COO基であり他方はOH基であり、Yl及び
Y2のうち一方はC,、H,COO基であり他方はOH
基であって、かつ、Zl及びZ2のうち一方はCI?H
ユ、000基であり他方はOH基である目的物を得た。
H3s COO基であり他方はOH基であり、Yl及び
Y2のうち一方はC,、H,COO基であり他方はOH
基であって、かつ、Zl及びZ2のうち一方はCI?H
ユ、000基であり他方はOH基である目的物を得た。
エポキシ価は検出限界以下であった。
GPC法により、生成物の2%テトラヒドロフラン溶液
の組成分析を行なった結果、リテンションタイム 24
.8分に単一ピークが認められた。
の組成分析を行なった結果、リテンションタイム 24
.8分に単一ピークが認められた。
OH基含有量を測定した結果、2.5当量/kgであり
、はぼ理論値通りの結果であった。
、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1739cm−’(ず近に生成したエステル化したカル
ボキシル基、3430〜3450 c m −’付近に
生成したOH基の吸収が認められた。
ボキシル基、3430〜3450 c m −’付近に
生成したOH基の吸収が認められた。
〈実施例5〉
実施例2と同様の方法で、TEP I C−3297重
量部を140°Cにて溶融した後、110℃に温度を下
げて攪拌しておき、カプロン酸348重量部を加えて、
3時間反応させ、その後TMAC3重量部を加えて、温
度130°Cにて2時間反応させ、水飴状の生成物を得
た。
量部を140°Cにて溶融した後、110℃に温度を下
げて攪拌しておき、カプロン酸348重量部を加えて、
3時間反応させ、その後TMAC3重量部を加えて、温
度130°Cにて2時間反応させ、水飴状の生成物を得
た。
以上の方法により、X、及びX2のうち一方はCs H
+ r COO基であり他方はOH基であり、Yl及び
Ytのうち一方はCs Hl+ COO基であり他方は
OH基であって、かつ、ZlおよびZ2のうち一方はC
,H,、COO基であり他方はOH基である目的物を得
た。
+ r COO基であり他方はOH基であり、Yl及び
Ytのうち一方はCs Hl+ COO基であり他方は
OH基であって、かつ、ZlおよびZ2のうち一方はC
,H,、COO基であり他方はOH基である目的物を得
た。
エポキシ価は検出限界以下であった。
GPC法により、生成物の2%テトラヒドロフラン溶液
の組成分析を行なった結果、リテンションタイム 26
.8分に単一ピークが認められた。
の組成分析を行なった結果、リテンションタイム 26
.8分に単一ピークが認められた。
OH基含有量を測定した結果、4.5当量/kgであり
、はぼ理論値通りの結果であった。
、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1739cm”付近に生成したエステル化したカルボキ
シル基、3430〜3450 c m −’付近に生成
したOH基の吸収が認められた。
シル基、3430〜3450 c m −’付近に生成
したOH基の吸収が認められた。
〈実施例6〉
実施例2と同様の方法で、TEP I C−3297重
量部を140°Cにて溶融した後、110°Cに温度を
下げて攪拌しておき、プロピオン酸222重量部を加え
て3時間反応させ、その後TMAC3重量部を加えて温
度130℃にて2時間反応させ、水飴状の生成物を得た
。
量部を140°Cにて溶融した後、110°Cに温度を
下げて攪拌しておき、プロピオン酸222重量部を加え
て3時間反応させ、その後TMAC3重量部を加えて温
度130℃にて2時間反応させ、水飴状の生成物を得た
。
以上の方法により、XI及びXオのうち一方はC,l(
、COO基であり他方はOH基であり、Y。
、COO基であり他方はOH基であり、Y。
及びY2のうち一方はCz Hs C00基であり他方
はOH基であって、かつ、Zl及びZオのうち一方はC
,H,COO基であり他方はOH基である目的物を得た
。
はOH基であって、かつ、Zl及びZオのうち一方はC
,H,COO基であり他方はOH基である目的物を得た
。
エポキシ価は検出限界以下であった。
OH基含有量を測定した結果、5.7当量/kgであり
、はぼ理論値通りの結果であった。
、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1735cm−1付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450cm−’付近に生成した
OH基の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450cm−’付近に生成した
OH基の吸収が認められた。
〈実施例7〉
実施例2と同様の方法で、TEP I C−3297重
量部を140°Cにて溶融した後、110°Cに温度を
下げて攪拌しておき、カプリル酸432重量部を加えて
3時間反応させ、その後TMAC3ii量部を加えて温
度130°Cにて2時間反応させ、水飴状の生成物を得
た。
量部を140°Cにて溶融した後、110°Cに温度を
下げて攪拌しておき、カプリル酸432重量部を加えて
3時間反応させ、その後TMAC3ii量部を加えて温
度130°Cにて2時間反応させ、水飴状の生成物を得
た。
以上の方法により、xl及びX2のうち一方はC1H1
sC00基であり他方はOH基であり、Y。
sC00基であり他方はOH基であり、Y。
及びY2のうち一方はC,H,、COO基であり他方は
OH基であって、かつ、Zl及びZtのうち一方はC?
Hr s C00基であり他方はOH基である目的物
を得た。
OH基であって、かつ、Zl及びZtのうち一方はC?
Hr s C00基であり他方はOH基である目的物
を得た。
エポキシ価は検出限界以下であった。
OH基含有量を測定した結果、4.0当量/kgであり
、はぼ理論値通りの結果であった。
、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表=1に示した。
1739cm−’付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
〈実施例8〉
実施例2と同様の方法で、mEPIc−375重量部を
140°Cにて溶融した後、160°Cに昇温し、ここ
にラウリン酸5重量部を加えて温度160°Cにて3時
間反応させる。
140°Cにて溶融した後、160°Cに昇温し、ここ
にラウリン酸5重量部を加えて温度160°Cにて3時
間反応させる。
次いで、酢酸エチル200重量部を加えて室温にて攪拌
しながら洗浄した後、未反応のTEP I Cをろ別す
る。
しながら洗浄した後、未反応のTEP I Cをろ別す
る。
得られたろ液より、溶剤を減圧留去しワックス状の生成
物19.63重量部を得た。
物19.63重量部を得た。
次に、かかるワックス状の生成物 10重量部と酢酸4
重量部を温度110″Cにて2時間、更に温度140℃
にて1時間反応させる。
重量部を温度110″Cにて2時間、更に温度140℃
にて1時間反応させる。
得られた水飴状生成物を、酢酸エチル 50重量部に溶
解し、分液ろうとを用いて、十分水洗して未反応の酢酸
及びワックス状の生成物に残留していたTEPICと酢
酸との反応生成物を除去した。
解し、分液ろうとを用いて、十分水洗して未反応の酢酸
及びワックス状の生成物に残留していたTEPICと酢
酸との反応生成物を除去した。
その後、溶剤を減圧留去し、水飴状の生成物を得た。
以上の゛方法により、Xl及びX2のうち一方はCr
r Ht 2 COO基であり他方はOH基であり、Y
。
r Ht 2 COO基であり他方はOH基であり、Y
。
及びY:のうち一方はCH,COO基であり他方はOH
基であって、かつ、Zl及びZ!のうち一方はCH,C
OO基であり他方はOH基である目的物を得た。
基であって、かつ、Zl及びZ!のうち一方はCH,C
OO基であり他方はOH基である目的物を得た。
エポキシ価は検出限界以下であった。
OH基含有量を測定した結果、4.1当量/ k gで
あり、はぼ理論値通りの結果であった。
あり、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1738cm−’付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450 c m −’付近に生
成したOH基の吸収が認められた。
〈実施例9〉
実施例2と同様の方法で、TEPIC−3297重量部
を140℃にて溶融した後、130″Cに温度を下げて
攪拌しておき、乳酸270重量部を加えて、温度130
°Cにて2時間反応させ、そ、の後TMAC1,5重量
部を加えて1時間反応させ、水飴状の生成物を得た。
を140℃にて溶融した後、130″Cに温度を下げて
攪拌しておき、乳酸270重量部を加えて、温度130
°Cにて2時間反応させ、そ、の後TMAC1,5重量
部を加えて1時間反応させ、水飴状の生成物を得た。
以上の方法により、XI及びX2のうち一方はCI?
Hss COO基であり他方はOH基であり、Yl及び
Yつのうち一方はCH,COO基であり他方はOH5で
あって、かつ、Zl及びz2のうち一方はCH,COO
基であり他方はOH基である目的物を得た。
Hss COO基であり他方はOH基であり、Yl及び
Yつのうち一方はCH,COO基であり他方はOH5で
あって、かつ、Zl及びz2のうち一方はCH,COO
基であり他方はOH基である目的物を得た。
エポキシ価は検出限界以下であった。
OH基含有量を測定した結果、10.7当量/kgであ
り、はぼ理論値通りの結果であった。
り、はぼ理論値通りの結果であった。
赤外吸収スペクトル測定の結果を表−1に示した。
1743cm−’付近に生成したエステル化したカルボ
キシル基、3430〜3450cm−1付近に生成した
OH基の吸収が認められた。
キシル基、3430〜3450cm−1付近に生成した
OH基の吸収が認められた。
表−1赤外吸収スペクトル
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X_1及びX_2のうちどちらか一方はR_1
COO基で他方はOH基であり、Y_1及びY_2のど
ちらか一方はR_2COO基で他方はOH基であり、更
にZ_1及びZ_2のうちどちらか一方はR_3COO
基で他方はOH基であるイソシアヌレート誘導体であり
、R_1、R_2、R_3はOH基若しくはCOOH基
で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基) で表される新規なイソシアヌレート誘導体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137389 | 1989-01-31 | ||
| JP1-21373 | 1989-01-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02275867A true JPH02275867A (ja) | 1990-11-09 |
| JP2876678B2 JP2876678B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=12053290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005590A Expired - Fee Related JP2876678B2 (ja) | 1989-01-31 | 1990-01-30 | イソシアヌレート誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2876678B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000128871A (ja) * | 1998-08-20 | 2000-05-09 | Nissan Chem Ind Ltd | イソシアヌレ―ト誘導体の製造方法 |
| WO2006009118A1 (ja) * | 2004-07-21 | 2006-01-26 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 |
| WO2006035641A1 (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 変性エポキシ樹脂組成物 |
| JP2009107979A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Japan Epoxy Resin Kk | カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製法、エポキシ樹脂組成物及びエポキシ樹脂硬化物 |
| CN101935307A (zh) * | 2009-05-20 | 2011-01-05 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物 |
| TWI563006B (en) * | 2015-12-31 | 2016-12-21 | Ind Tech Res Inst | Curable resin and curing composition comprising the same |
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|---|---|---|---|---|
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-
1990
- 1990-01-30 JP JP2005590A patent/JP2876678B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| WO2006009118A1 (ja) * | 2004-07-21 | 2006-01-26 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 |
| US8900376B2 (en) | 2004-07-21 | 2014-12-02 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Heat-resistant water-soluble flux composition for soldering |
| WO2006035641A1 (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-06 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 変性エポキシ樹脂組成物 |
| US9598528B2 (en) | 2004-09-29 | 2017-03-21 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Modified epoxy resin composition |
| JP2009107979A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Japan Epoxy Resin Kk | カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製法、エポキシ樹脂組成物及びエポキシ樹脂硬化物 |
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| CN106928429B (zh) * | 2015-12-31 | 2019-09-27 | 财团法人工业技术研究院 | 可固化树脂及包含该树脂的固化组合物 |
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|---|---|
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