JPH02276021A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、磁気記録媒体に関し、特に垂直磁気記録に用
いられる磁気記録媒体の保護層の改良に関する。

〈従来の技術〉 近年、磁気記録媒体の高密度記録化は進む一方であるが
、従来広く用いられている磁性層面内記録方法では、磁
性層中の反磁界作用により減磁が生じ、一定態上の記録
密度向上は困難である。

このような面内記録に対し、垂直磁気記録媒体が提案さ
れている。

垂直磁気記録は、磁性層を垂直方向に磁化することによ
り記録を行なう方法である。　垂直磁気記録では高密度
記録を行なう程減磁が減少するため、減磁の影響を受け
ることなく極めて高密度な記録を行なうことができる。

垂直磁気記録媒体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト等の基体上に、パーマロイ等の軟磁性膜およびＣｏ−
Ｃｒ合金のスパッタｍ性層を順次形成したものがよく知
られている。

上記したように、垂直磁気記録媒体は原理的に高密度記
録に好適であるが、実用化を考えた場合、下記のような
性能が要求される。

■耐久性が高いこと。

■高速記録読出し下でのへラドタッチが良好であること
。

■再生出力が高いこと。

■モジュレーションの発生が低いこと。

■生産性が高いこと。

等である。

本発明者らはこのような性能を満足するために、基体、
軟磁性膜、磁性層、保護層および潤滑層をこの順で有す
る垂直磁気記録媒体において、各構成部分の物性、構成
材料等を限定する提案を行なっている（特開昭６３−１
９７０２８号公報）。

〈発明が解決しようとする課題〉 特開昭６３＝１９７０２８号公報に開示されている垂直
磁気記録媒体は、上記■〜■の性能を満たすものではあ
るが、高密度磁気記録媒体では特に信頼性が要求される
ことから、よりいっそう高い耐久性が要求される。　ま
た、耐候性、耐食性が高いことも必須要件である。

本発明は、このような事情からなされたものであり、垂
直磁気記録に用いられる磁気記録媒体であって、特に耐
久性、耐候性および耐食性の高い磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記（１ン〜（４）の本発明により
達成される。

（１）基体上に、軟磁性膜、磁性層、固体保護層および
有機潤滑膜がこの順で設けられた磁気記録媒体であって
、 前記固体保護層が、Ｒ（ただしＲは、Ｙを含む希土類元
素から選択される１種以上の元素を表わす。）を除く金
属または半金属から選択される１種以上の元素と、０お
よびＮとを含有し、これらの元素に対し１〜１０ａｔ％
のＲをさらに含有することを特徴とする磁気記録媒体。

（２）前記金属または半金属としてＳｉを含む上記（１
）に記載の磁気記録媒体。

（３）前記金属または半金属としてさらにＡ℃を含む上
記（２）に記載の磁気記録媒体。

（４）前記磁性層がＣｏ−Ｃｒ系合金の垂直磁化膜であ
る上記（１）ないしく３）のいずれかに記載の磁気記録
媒体。

〈作用〉 本発明の磁気記録媒体では、磁性層上に固体保護層が設
けられる。

本発明ではこの固体保護層が所定の組成を有するため、
固体保護層と６琺性層との接着性が良好である。　また
、固体保護層の硬度が高い。

さらに、この保護層による耐食性向上効果が高い。

このため、本発明の磁気記録媒体は、耐久性、耐候性お
よび耐食性が良好である。

なお、特開昭６２−１６４２０７号公報には、Ｓｉ、Ａ
ρ、ＯおよびＮを含有するセラミックス保護膜を有する
磁気記録体が記載されているが、この保護膜が本発明に
おけるＲを含有する旨の開示はない。

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

第１図に、本発明の磁気記録媒体の好適実施例を示す。

本発明の磁気記録媒体１は、基体２上に、軟磁性膜３、
磁性層４、固体保護層５および有機潤滑膜６を、この順
で有する。

なお、基体２が可どう性材質から構成されている場合、
軟磁性膜３、磁性層４、固体保護層５等の成膜時に発生
する基体２のソリを防止するために、軟磁性膜３、磁性
層４、固体保護層５および有機潤滑膜６は、第１図に示
すように基体２の両面に設けられることが好ましい。

ただし、これらを基体２の一方の側に設け、他方の側に
バックコート層を設けることにより基体２のソリを防止
することもできる。　この場合のバックコート層として
は、／１１ｊ２、Ｔｉ等の金属、あるいは５ｉＯｚ　、
Ｓｉｓ　Ｎ４、Ａ　Ａ　２０３、後述する固体保護層構
成材質等の無機酸化物、窒化物ないしこれらの混合物な
どのスパッタ膜が好適であり、さらには塗布型のバック
コート層も用いることができる。

基体２は、可どう性であっても剛性であってもよく、ま
た、ディスク状であってもテープ状であってもよ（、磁
気記録媒体１の使用目的に応じて選定すればよい。

基体２を可どう性とする場合、その構成材質に特に制限
はないが、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポ
リアミド、ポリエヂレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリ
エーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）などの高分子物質
から選択することが好ましく、耐熱性、寸法安定性、表
面粗度等が良好であることから、これらのうちではポリ
イミドを用いることがより好ましい。

また、基体２を剛性とする場合、その構成材質に特に制
限はないが、各種ガラス、各種セラミクス、Ａｒ１、Ａ
Ｉ２系合金、ポリイミド、ポリカーボネートなどから選
択することが好ましく、熱収縮率、表面粗度等の点で成
形性が良好であることから、これらのうちではガラスを
用いることがより好ましい。

なお、Ｇｏ−Ｃｒ系合金から構成される磁性層は、磁気
特性向上のために熱処理が施されることが好ましいので
、この場合の基体２構成材質には１２０℃程度以上の加
熱に耐えられるものを選択することが好ましい。

基体２が可どう性である場合、そのヤング率は、３０Ｃ
ｌ〜ｌ　ＯＯＯｋｇｆ／ｍｍ２であることが好ましい。

　ヤング率をこの範囲とすることにより、耐久性が向上
すると共にヘッドタッチが良好となる。　ヤング率が上
記範囲未満であると、ヘッドタッチは良好であるが耐久
性が低下する。　また、ヤング率が上記範囲を超えると
、耐久性は向上するがヘッドタッチが悪化する。

基体２の表面粗さ（Ｒｍａｘ）は、０．０２戸以下であ
ることが好ましい。　Ｒｍａｘがこの範囲であると、ヘ
ッドと媒体間で生じるスペーシングロスが減少し、記録
密度を高くすることができる。　Ｒｍａｘが上記範囲を
超えると、十分な記録密度を得ることが困難である。

上記のようなＲｍａｘは、基体２の両面で実現している
ことが好ましいが、少な（とも磁性層設層面で実現して
いれば上記の効果は得られる。

なお、基体２中には、必要に応じ摩擦係数低減のために
フィラーが含有されていてもよい。

基体２をディスク状とする場合、その直径は用途に応じ
て適当な値を選択すればよ（、通常、５０〜１３０ｍｍ
程度である。　また、基体２の厚さは、可どう性である
場合７〜８０ＬＬｍ程度、より詳細にはフロッピーディ
スクとして用いる場合２０〜５０μｍ程度、磁気テープ
として用いる場合７〜１５μｍ程度であり、剛性である
場合、すなわちハードディスクとして用いる場合０．８
〜２ｍｍ程度である。

基体２上には、軟磁性膜３が設けられる。

軟磁性膜３は、再生出力の向上のために設けられる。

軟磁性膜３の構成材質は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金であること
が好ましい。

Ｆｅ−Ｎｉ系合金としては、Ｆｅ−Ｎｉ合金（パーマロ
イ）、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｏ合金、Ｆｅ−Ｎ　１−Ｃｒ合金
、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｎｂ合金、Ｆ　ｅ　−Ｎ　ｉ　−Ｍ　ｎ
　−Ｃｕ合金、Ｆｅ−Ｎ１−Ｍ　ｏ　−Ｎ　ｂ合金、Ｆ
　ｅ　−Ｎ　ｉ　−Ｍ　ｏ　−Ｃｕ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−
３ｉ−Ａ４２合金等を好ましく用いることができる。

また、Ｆｅ−Ｎｉ系合金の他、Ｆｅ−Ｃｏ−■系合金も
好ましく用いることができる。

なお、これら合金には、必要に応じ、Ｔｊ、ＡＡ、Ｓｉ
、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｃ，ＯｌＮ、Ａｒ、Ｃａ、Ｃｒ等
が含有されていてもよい。

軟磁性膜３の面内方向の保磁力は、６〜２００ｅである
ことが好ましい。　保磁力がこの範囲内であると、高い
再生出力が得られると共にモジュレーションが２０％以
下に低下する。

保磁力が上記範囲未満となると再生出力は向上するがモ
ジュレーションが大きくなり、上記範囲を超えるとモジ
ュレーションは小さくなるが再生出力が低下してしまう
。

軟磁性膜３の膜厚は０．３〜０．５μｍであることが好
ましい。　膜厚がこの範囲未満であると生産性は向上す
るが十分な再生出力が得られず、この範囲を超えると再
生出力は高くなるが、成膜に時間を要し生産性が低下す
る。

なお、軟磁性膜３は、スパック法により成膜されること
が好ましい。

本発明の磁気記録媒体には垂直磁気記録がなされるため
、磁性層４は膜面と垂直方向に磁化容易軸を有する垂直
磁化膜であることが好ましい。

このような磁性層４の構成材質としては、Ｃｏ−Ｃｒ系
合金が好ましい。　Ｇｏ−Ｃｒ系合金としては、Ｃｏ−
Ｃｒ合金、Ｃｏ−ＣｒＢ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｍｎ合金、
Ｃｏ−ＣｒＭ　ｎ　−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金、
Ｃｏ−Ｃｒ−３ｉ−Ａ２合金等が好ましい。

なお、Ｃｏ−Ｃｒ系合金中のＣｒ含有率は、１６〜２３
ａｔ％程度であることが好ましい。

また、Ｃｏ−Ｃｒ系合金の他、Ｃｏ−Ｖ系合金も好まし
く用いることができる。

なお、これら合金には、必要に応じ、０、Ｎ、Ｓｉ、Ａ
ｊ２、Ｍｎ、Ａｒ等が含有されていてもよい。

磁性層４の垂直方向保磁力は４０００ｅ以上であること
が好ましい。　垂直方向保磁力がこの範囲未満であると
、再生出力が不十分である。　なお、垂直方向保磁力の
上限は特にないが、通常１５０００ｅ程度まで容易に製
造することができる。

磁性層４の厚さは０．０５〜０．２μｍであることが好
ましい。　厚さがこの範囲未満であると再生出力が低下
し、Ｓ／Ｎが低下する。

また、この範囲を超えると記録密度が低下し、例えば記
録密度（Ｄ　ｓｏ）が１００　ＫＦＲＰＩに達しない。

磁性層は、気相成膜法により形成されることが好ましく
、特にスパッタ法により成膜されることが好ましい。

固体保護層５は、Ｙを含む希土類元素（以下、Ｒと略称
する。）から選択される１種以上の元素と、Ｒを除く金
属または半金属から選択される１種以上の元素と、０お
よびＮとを含有し、通常、非晶質状態にある。

本発明において、Ｒとは、Ｙ、ランタノイド元素および
アクチノイド元素を意味する。

Ｒとしては、Ｙおよびランタノイド元素が好ましい。

本発明では、保護層中に含有されるＲ以外の金属または
半金属から選択される１種以上の元素と、０およびＮと
の合計を１００ａｔ％としたとき、Ｒの含有率は１〜１
０ａｔ％、好ましくは２〜８ａｔ％とされる。

このような含有率にてＲを含有することにより、耐久性
、耐候性および耐食性が向上し、特に耐久性は極めて高
いものとなる。

なお、Ｒの含有率が上記範囲を外れると、本発明の効果
が実現しない。

金属または半金属としては、Ｓｉ、Ａρ、Ｔｉ、Ｚｎお
よびＢが好ましく、これらのうちＳｉを必須とするかＳ
ｉおよびＡＡを必須として固体保護層５に含有させるこ
とが好ましい。

また、これらの元素の他、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂ
ａ、Ａｒ、Ｍｎ等が全体の１ｓｔ％以下程度含有されて
いてもよい。

さらに詳述すると、固体保護層５の組成は、下記の組成
■または組成ＩＴの範囲から選択することが好ましい。

ＬＬＬ［金属または半金属がＳｉおよび、６４２を必須
とするもの］ この組成におけるＲとしては、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、
Ｎｄ、ＳｍおよびＥｕからなる群から選ばれた元素の１
種以上であることが好ましく、特にＹを必須とすること
が好ましい。

Ｒ中のＹの比率は、５０％以上であることが好ましい。

このとき耐久性、耐候性、耐食性等の面でより良好な結
果が得られる。

また、固体保護層５をスパッタ法により形成する際に、
用いるターゲットにこれらの元素を含有させることによ
り緻密なターゲットが得られ、その結果、ターゲットの
冷却効率が向上し、スパッタ時の輻射熱が抑えられる。

Ｒは、固体保護層５中にて元素単体あるいは化合物いず
れの形で含有されてもよい。　化合物として含有される
場合は、通常、酸化物の形で含有されることが好ましい
。

ＳｉおよびＡ℃は、通常、酸化物および窒化物の形で含
有される。

固体保護層５中の上記化合物は、その組成において化学
量論的な組成比を外れていてよい。

これらの元素と酸素および窒素とを含有することにより
、耐食性が向上する。

組成工における固体保護層５中の各元素の含有率は、下
記の範囲であることが好ましい。

Ｓｉ：２０〜８０ａｔ％、 より好ましくは４０〜７０ａｔ％。

ＡＩ２．：１〜３０ａｔ％、 より好ましくは２〜１０ａｔ％。

０：２〜３０ａｔ％、 より好ましくは２〜２０ａｔ％。

Ｎ：５〜４５ａｔ％、 より好ましくは１５〜３５ａｔ％。

１威１［金属または半金属がＳｉを必須とするもの］ この組成におけるＲとしては、少なくともＬａおよびＣ
ｅのうち一種以上が含まれることが好ましい。

ＬａおよびＣｅは、通常、酸化物として含有される。　
これらの酸化物の化学量論組成はそれぞれＬａ２Ｏ３お
よびＣｅｎ２であるが、これらから偏奇したものであっ
てもよい。

ＣｅおよびＬａのはいずれが一方であってもよく、両者
が含有されてもよいが、両者が含有される場合、その量
比は任意である。

また、Ｌａおよび／またはＣｅの他、Ｙを含む他の希土
類元素、例えばＹ、Ｅｒ等が含有されていてもよいが、
Ｒ中のＬａおよび／またはＣｅの比率は５０％以上であ
ることが好ましい。

固体保護層５中には、希土類元素の酸化物に加え、Ｓｉ
が含有される。

Ｓｉは、通常、酸化物および窒化物として含有されるが
、化学量論組成から偏奇していてもよい。

組成ＩＩにおける固体保護層５中の各元素の含有率は、
下記の範囲であることが好ましい。

Ｓ　ｉ　：　Ｉ　Ｃ）〜８０ａｔ％、 より好ましくは２０〜６０ａｔ％。

Ｏ：１０〜８０ａｔ％、 より好ましくは１５〜６０ａｔ％。

Ｎ：２〜６０ａｔ％　、 より好ましくは３〜５０ａｔ％。

固体保護層５中の各元素の含有率は、オージェ、ＥＳＣ
Ａ、ＳＩＭＳ等によって測定すればよい。

このような組成を有する固体保護層５の設層は気相成膜
法により行なうことが好ましく、特にスパッタ法を用い
ることが好ましい。

スパッタ法としては、上記組成の焼結体をターゲットと
して用いてもよく、また、２種以上のターゲットを用い
る多元スパッタを用いてもよい。　さらに、反応性スパ
ッタを用いることもできる。

なお、希土類元素としてＬａおよび／またはＣｅを含有
させる場合、スパッタターゲットの少なくとも一部とし
て、発火合金であるアラニルメタル、ヒユーバーメタル
、ミツシュメタル、ウェルスバッハメタル等の酸化物を
用いることもできる。

また、固体保護層５の設層には、その他の気相成膜法、
例えばＣＶＤ法、蒸着法、イオンブレーティング法等を
適宜用いることも可能である。

固体保護層５は、十分な耐久性を確保するためにビッカ
ース硬度が７００以上であることが好ましいが、本発明
における上記したような組成を選択すれば、７００以上
のビッカース硬度が容易に得られ、１０００以上のビッ
カース硬度を得ることもできる。

固体保護層５の厚さは、３０〜２００人、特に３０〜１
００人とすることが好ましい。　厚さが上記範囲未満で
あると保護効果が不十分であり、上記範囲を超えるとス
ペーシングロスが増加して記録密度を向上させることが
できない。

固体保護層５上に設けられる有機潤滑膜６は、極性基な
いし親水性基、あるいは親水性部分を有する有機化合物
を含有することが好ましい。　これにより高い耐久性が
実現する。

極性基を有する有機化合物に特に制限はないが、潤滑性
が高いことからフッ素系有機化合物を用いることが好ま
しい。

フッ素系有機化合物としては、パーフルオロアルキレン
を有するポリエーテルおよび／またはその誘導体が好ま
しく、これらのうち特に下記式（Ｉ）で表わされる化合
物を用いることが好ましい。　なお、下記式（Ｉ）で表
わされる化合物は、通常、液状である。

式（Ｉ） Ａ、　−Ｂ、　（−Ｌｆ、　−０＋Ｌｆ２−Ｂ２−Ａ２
上記式（Ｉ）において、Ａ１およびＡ２は、−Ｆ、−Ｈ
ｌ−０Ｈ１−ｃｏｏｚ、−ＣＯＯＲまたは置換もしくは
非置換の１価の芳香族基を表わす。　ただし、Ｚは−Ｈ
または１価のカチオンを、Ｒはアルキル基を表わす。

Ａ１とＡ２とは、同一であっても異なっていでもよい。

芳香族基の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基
等である。

Ｂ１およびＢ２は、−ＣＨ２０ ＣＨ２０ＣＨ２−または−ＣＦ、０− −ＣＯＮＨ−あるいは単なる結合手を表わす。

Ｂ１　とＢ２とは、同一であっても異なっていてもよい
。

Ｌｆ、およびＬｆ２は、パーフルオロアルキレン基を表
わす。

ＬｆｌおよびＬｆ２　としては、−ＣＦ２−−ＣＦ２　
ＣＦ２−１−ＣＦ　（ＣＦ３　）−ＣＦ　（ＣＦ３　）
ＣＦ２−などが挙げられる。

Ｌｆ、　とＬｆ２　とは、同一であっても異なっていて
もよい。

ｐは正の整数を表わし、好ましくは１〜１００、より好
ましくは２〜８０程度である。

ｐが２以上の場合、各Ｌｆ２は同一であっても異なって
いてもよい。　また、この場合、（−Ｌｆｌ−０＋はブ
ロック縮合体であってもよくｐ ランダム縮合体であってもよい。

なお、Ａ１およびＡ２のいずれにもＺやＲが存在する場
合、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい
。

本発明において、上記式（Ｉ）で表わされる化合物は、
有機膜中に２種以上含有されていてもよい。

このような化合物の他、フッ素系有機化合物として下記
式（ＩＩ　）で表わされる化合物も好適に用いることが
できる。

式（ＩＩ　） ＣＩＩＦ、、、、−Ｘ−Ｚ 上記式（ＩＩ）において、Ｘは内部にエーテル結合（−
〇−）および／またはエステル結合（−Ｃｏｏ−または
−〇Ｃ０−）を１または２以上有してもよいアルキレン
基であって、その総炭素数をｍとしたとき正の整数ｎ、
ｍは、ｎ＋ｍ≧９である。　また、２は親水性基を表わ
す。

有機潤滑膜６には、上記式ＣＩ）で表わされる化合物お
よび上記式（Ｈ）で表わされる化合物の少なくとも一方
が含有されていることが好ましい。

また、これらの化合物に加え、あるいはこれらの化合物
に替え、液状ないし半液状あるいは固体状の両親媒性化
合物が含有されていることが好ましい。　用いる両親媒
性化合物としては、公知の各種脂肪酸、エステルおよび
アルコールの１種以上が好ましい。

有機潤滑膜６の成膜方法に特に制限はないが、ラングミ
ュア・プロジェット法または塗布法により成膜されるこ
とが好ましく、特に均一な膜が得られることから、ラン
グミュア・プロジェット法を用いることが好ましい。

上記したような化合物および成膜方法の詳細は、特願昭
６３−３３２．５２６号等に開示されている。

有機潤滑膜６の表面は、水との接触角が７０°以上、特
に９０°以上であることが好ましい。　このような接触
角を有することにより、ヘッドと媒体の吸着が防止され
、高い走行安定性が得られる。

有機潤滑膜６の膜厚は５〜５０人、特に１０〜４０人で
あることが好ましい。　膜厚がこの範囲未満であると潤
滑効果が不十分であり、この範囲を超えるとかえって摩
擦を増加させてしまう。

以上に説明したような構成を有する本発明の磁気記録媒
体は、垂直磁気記録媒体として、フロッピーディスク、
ハードディスク、磁気テープなどに適用される。

また、本発明の磁気記録媒体の記録再生に用いられる垂
直記録型磁気ヘッドに特に制限はないが、本発明の磁気
記録媒体は薄膜型垂直磁気ヘッドと組合せて使用した場
合に、特にヘッド摩耗防止効果を発揮する。　薄膜型磁
気ヘッドとしては、Ａβａｏ３　Ｔｉｃ等のセラミクス
製基体上にＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルファス等の磁極を
形成し、さらにＡｊ２２０．等の保護膜を被覆したもの
を用いることが好ましい。

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

第１図に示す構成で、固体保護層の組成が異なる種々の
磁気ディスクサンプルを作製した。

各部の構成の詳細を以下に示す。

［基体］ 直径８６ｍｍ、厚さ４０μｍ、ヤング 率９００　ｋｇｆ／ｍｍ”　、表面粗さ（Ｒｍａｘ）０
．０１５μｍのポリイミドを用いた。

［軟磁性膜］ ２％０２を含む２Ｘ１０−’ＰａのＡｒ雰囲気中で、Ｄ
Ｃマグネトロンスパッタ法により８０ａｔ％Ｎｉ−Ｆｅ
合金を厚さ０．４５μｍに成膜して形成した。

軟磁性膜の面内方向の保磁力は、９　０ｅであった。

［磁性層］ ＤＣマグネトロンスパッタ法により２０ａｔ％Ｃｒ−Ｃ
ｏ合金を厚さ０．１８４ｚｍに成膜して形成した。　成
膜時の雰囲気は、軟磁性膜形成の際と同様とした。

磁性層の垂直方向の保磁力は、７２００ｅであった。

［固体保護層］ ２％０□を含むｌＸｌ０−’ＰａのＡｒ雰囲気中で、Ｒ
Ｆマグネトロンスパッタ法により、下記表１に示す各種
組成の固体保護層を厚さ０．０１μｍに形成した。　な
お、スパッタに用いたターゲットは、固体保護層に対応
する組成を有する焼結体を用いた。

各固体保護層のビッカース硬度を表１に示す。　ビッカ
ース硬度は、各磁気ディスクサンプルの固体保護層と同
条件で２μｍの厚さに形成した膜で測定した。

［有機潤滑膜］ 下記式で表わされる化合物のＱ、１ｗｔ％溶液を用いて
、スピンコード法により厚さ２０人に成膜して形成した
。　この有機潤滑膜表面の水との接触角（水を滴下して
３０秒後）は、１００”であった。

（式） ％式％ （この化合物の分子量は、２０００であった。） 各サンプルに対し、下記の試験を行なった。

（１）耐久試験 針によるスクラッチ試験を行ない、耐久性を評価した。

針先端の曲率半径は１００μｍ、負荷は１０ｇ、針とサ
ンプルとの相対速度は１０ｍｍ／ｓｅｃとした。

耐久性の評価は、試験後のサンプル表面に存在するスク
ラッチキズの幅により行なった。

なお、この際、スクラッチキズの幅が５μｍを超えると
実用に際して問題が生じ、好ましくは３μｍ以下である
とよい。

（２）耐候試験 ７０℃、９０％ＲＨの条件下で１００日間保存後に、磁
性層面に現われた斑点状のシミ（錆）の大きさを測定し
た。

（３）電磁変換特性の測定 磁極厚０．２μｍ、磁極幅５０μｍの主磁極励磁型単磁
極薄膜ヘッドを用い、ヘッドとディスクの相対速度２　
ｍ　／　ｓ　ｅ　ｃにてｆ特を測定し、Ｄ５゜により評
価した。

薄膜ヘッドは、Ａρａ　Ｏ３Ｔ　ｉ　Ｃ基体上にＧｏ−
Ｎｂ−Ｚｒアモルファス磁極およびＡｌ２ｔＯｓ保護膜
をスパッタ法により形成したものを用いた。

（４）ヘッド摩耗試験 ヘッドとディスクとを、負荷１０ｇ、相対速度２　ｍ　
／　ｓ　ｅ　ｃで摺動させ、１０００時間後のヘッド摩
耗量を測定した。　ヘッド摩耗量は、走行開始時および
走行開始１０００時間後のヘッド形状な触針型表面粗さ
計にて測定し、これらを比較することにより求めた。

なお、用いたヘッドは、上記（３）に示す薄膜ヘッドで
あり、摩耗部は、主として磁極および保護膜であった。

これらの試験結果を表１に示す。

４、

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の磁気記録媒体の好適実施例を示す部
分断面図である。 符号の説明 ｌ・・・磁気記録媒体 ２・・・基体 ３・・・軟磁性膜 ４・・・磁性層 ５・・・固体保護層 ６・・・有機潤滑膜 表１に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。 すなわち、固体保護層の組成が本発明の範囲内であるサ
ンプルは、各試験の結果が良好である。　これに対し、
固体保護層の組成が本発明範囲外であるサンプルは、こ
れらの性能が劣っている。 なお、上記したサンプルの固体保護層に替え、前記の組
成ＩＩとして示される組成を有する固体保護層を設層し
たサンプルを作製し、上記と同様な試験を行なったとこ
ろ、上記各サンプルとほぼ同等の特性が得られた。 〈発明の効果〉 本発明の磁気記録媒体は、耐久性、耐候性および耐食性
が良好であり、高密度記録を行なう垂直磁気記録媒体に
好適である。 Ｇ・ 手続ネ甫正書（自発）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体上に、軟磁性膜、磁性層、固体保護層および
   有機潤滑膜がこの順で設けられた磁気記録媒体であって
   、 前記固体保護層が、Ｒ（ただしＲは、Ｙを含む希土類元
   素から選択される１種以上の元素を表わす。）を除く金
   属または半金属から選択される１種以上の元素と、Ｏお
   よびＮとを含有し、これらの元素に対し１〜１０ａｔ％
   のＲをさらに含有することを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）前記金属または半金属としてＳｉを含む請求項１
   に記載の磁気記録媒体。
3. （３）前記金属または半金属としてさらにＡｌを含む請
   求項２に記載の磁気記録媒体。
4. （４）前記磁性層がＣｏ−Ｃｒ系合金の垂直磁化膜であ
   る請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気記録媒体。