JPH02277005A - カラーフィルタ製造方法 - Google Patents

カラーフィルタ製造方法

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Publication number
JPH02277005A
JPH02277005A JP1099420A JP9942089A JPH02277005A JP H02277005 A JPH02277005 A JP H02277005A JP 1099420 A JP1099420 A JP 1099420A JP 9942089 A JP9942089 A JP 9942089A JP H02277005 A JPH02277005 A JP H02277005A
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JP
Japan
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color
picture elements
resist
black matrix
black
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1099420A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryutaro Akutagawa
竜太郎 芥川
Takashi Inami
敬 井波
Hirozo Takegawa
武川 博三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH02277005A publication Critical patent/JPH02277005A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、液晶カラーテレビ等に用いられるカラーフィ
ルターの製造方法に関するものである。
従来の技術 一般に着色レジストを用いたカラーフィルター等のパタ
ーンの形成法は、第2図(A)に示したように、ガラス
基板21上に着色レジスト22を所定の膜厚で塗布した
後、プリベークを行い、光重合を行なうタイプの着色レ
ジストの場合は、酸素遮断膜23を塗布して、マスク2
4を介して露光を行った後、現像、リンスによって不要
部分を除去し、最後にポストベータを行う工程よりなっ
ている。特に、カラーフィルターの場合、ブラックマト
リクスの形成にはカーボンを分散した着色レジス°トを
用い、画素の部分には、赤、緑、青、の顔料を分散した
着色レジストを用いている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、着色レジストは顔料等によって光吸収、
が大きいため膜厚方向に光の強度分布がつきレジストの
下部で重合が不十分なため現像時サイドエッチ27が生
じパターンの欠は等の原因となる。前記着色レジストの
下部まで十分重合し、耐現像性を有するのに必要な露光
量を確保するためには、表面で非常に大きな露光量が必
要となる。
しかしこの場合、回折によりパターンの太りが生じる。
また、ブラックマトリクスに着色レジストを用いた場合
、ブラックマトリクスと画素が重なった部分は盛り上が
りを生じギャップむらや対向ショートの原因となり易い
。このため画素の大きさをブラックマトリクスにはみ出
さないようにすると、第2図(B)に示すように、アラ
イメント誤差等による白抜け26が生じやすくなる。
本発明はかかる点に鑑み、欠陥、白抜けのない安定なパ
ターンを有するカラーフィルタを容易に製造する方法を
提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、透明基板上に赤(R)、緑(G)、青(B)
の画素パターンを形成した後、前記透明基板上に顔料も
しくは、カーボンを混入、分散したネガ型の黒色(K)
着色フォトレジストを塗布しベーキングを行った後、酸
素遮断雰囲気中で前記透明基板側より裏面露光を行い、
最後にブラックマトリクスを形成することにより白抜け
や重なりの無いカラーフィルタの製造を可能とする。
作用 本発明は、基板上にR,G、  Bの画素を形成した後
に、黒色着色レジストを塗布し裏面露光を行うことによ
り、R,G、  Bの各画素がマスクとなりブラックマ
トリクス以外の所は遮光するため、ブラックマトリクス
部のみが重合し、パターニングされる。またこの時、画
素自身がマスクとなっているためアライメントずれによ
る白抜けや、重なりが発生しない。
実施例 以下に、本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
第1図は本発明の実施例の工程説明図である。
ガラス基板1上に第1色目(R)の着色フォトレジスト
、を塗布し、ベーキングを行い、マスク3を介して第1
色目の画素部に酸素遮断雰囲気中で選択的に光を照射し
た後(同図(A)参照)、重合促進加熱、現像、リンス
、ポストベークを行うことによって第1色目の画素4を
前記基板1上に形成する(同図(B)参照)。この後、
第1図(C)〜(F)に示したように前記工程を繰り返
すことによって第2色目の画素6、第3色目の画素8を
形成した後、同図(G)に示したように前記画素4.6
.8の上から黒色着色レジスト9を塗布した後ベーキン
グを行い酸素遮断雰囲気にて前記ガラス基板l側より裏
面露光を行う。この後、現像、リンス、ポストベークを
行うことによって同図(H)に示すように、ブラックマ
トリクス10を形成する。
またこの時のブラックマトリクス及び各画素の感光波長
での吸光係数と膜厚を にに: Kの吸光係数    tx:  Kの膜厚に+
+:Rの吸光係数    tR: Rの膜厚ka:  
Gの吸光係数    to:  Gの膜厚ke:  B
の吸光係数    te:  Bの膜厚とし、前記黒色
(K)’M色レジスト9が重合し、十分な耐現像性を得
るのに必要な露光mをE、とすると、ブラックマトリク
スの膜厚t、における露光量Eには、Et以上でなけれ
ばならない。しかし、各画素上では、現像時に除去され
なければならないので、そこでの露光量は、EIより小
さくなければならない。そのため各画素の、ブラックマ
トリクスの吸光係数と膜厚の関係は kg tK< kRtR,ka ja+  ke t。
である必要がある。また、このような関係は、可視域で
は透過率が高いが、感光波長域では光の吸収が第なる顔
料等の物質を、R,G、  Bの着色レジストに混入す
ることによって実現できる。
このような方法によってカラーフィルタを製造すること
によって、次のような効果がある。
第1に、画素とブラックマトリクスの間に白抜けや重な
りが生じない。
第2に、サイドエッチが生じないため線切れや、欠けに
よる欠陥が生じない。
着色、フォトレジストの材料としては、アクリロイド系
感光樹脂より成る、例えば富士ハントエレクトロニクス
テクノロジー社製の顔料充填レジスト、すなわち青色レ
ジスト(商標名カラーモザイクB1  略称CB)、 
 緑色レジスト(商標名カラーモザイクG1  略称C
G)、赤色レジスト(商標名カラーモザイクR1略称C
R)、黒色レジスト(商標名カラーモザイクに1  略
称GK)を用いた。
現像剤としては、1重量%の炭酸ソーダ水溶液を用いた
発明の効果 本発明によって、顔料やカーボン等を分散させた着色フ
ォトレジストを用いてサイドエッチ、欠け、突起、およ
び、白抜けのない安定したカラーフィルタの製造が可能
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の工程説明図、第2図は従来
例の工程説明図である。 1・・・ガラス基板、2・・・第1色目着色レジスト、
3・・・フォトマスク、4・・・第1色目の画素、5・
・・第2色目着色レジスト、6・・・第2色目の画素、
7・・・第3色目着色レジスト、8・・・第3色目の画
素、9・・・黒色着色レジスト、10・・・ブラックマ
ド リクス。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝 はか1名f 光 /−−一カフス蟇榎 ど−m−第1f!!j1着色しシスト 5−V42色目の着色しリスト 4−1112e目のi!h稟 一−− 3−°− 4・− 7−・− 8−・− がフス薔仮 マスク 鳩11!!目のIjil素 狐2f!!目の画素 第3@目の11@レジズト 第3色目のjliI稟 露光

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透明基板上に赤(R)、緑(G)、青(B)の画
    素パターンを形成した後、前記透明基板上に顔料もしく
    は、カーボンを混入、分散したネガ型の黒色(K)着色
    フォトレジストを塗布しベーキングを行った後、酸素遮
    断雰囲気中で前記透明基板側より裏面露光を行い、最後
    にブラックマトリクスを形成することを特徴とするカラ
    ーフィルタ製造方法。
  2. (2)黒色着色フォトレジストの感光波長域に於けるR
    、G、Bの各画素及びブラックマトリクスの吸光係数を
    k_R、k_G、k_B、k_Kとし、R、G、Bの各
    画素及びブラックマトリクスの設定膜厚をt_R、t_
    G、t_B、t_Kとした時、k_Kt_K <k_R
    t_R、k_Gt_G、k_Bt_Bであることを特徴
    とする請求項1記載のカラーフィルタ製造方法。
JP1099420A 1989-04-19 1989-04-19 カラーフィルタ製造方法 Pending JPH02277005A (ja)

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JP (1) JPH02277005A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03209203A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Stanley Electric Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH05264985A (ja) * 1992-03-23 1993-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd 遮光パターンの形成方法
US5916714A (en) * 1996-07-23 1999-06-29 Fuji Photo Film Co., Ltd. Preparation of a pixel sheet provided with black matrix

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