JPH02279767A - 新規スチリル化合物及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規スチリル化合物及びその製造法に関する
。

本発明のスチリル化合物は、電子写真感光体、螢光増白
染料等に利用できるものであり、特に感度、耐久性に優
れた電子写真感光体用の素材として有用である。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）近年、
電子写真方式を用いた複写機、プリンターの発展は目覚
ましく、用途に応じて様々な形態、種類の機種が開発さ
れ、それに対応してそれらに用いられる感光体も多種多
様のものが開発されつつある。

従来、電子写真感光体としては、その感度、耐久性の面
から無機化合物が主として用いられてきた。これらの無
機化合物としては、例えば酸化亜鉛、硫化カドミウム、
セレン等を挙げる事ができる。しかしながら、これらは
有害物質を使用している場合が多く、その廃棄が問題と
なり、公害をもたらす原因となる。又、感度の良好なセ
レンを用いる場合、蒸着法等により導電性基体上に薄膜
を形成する必要があり、生産性が劣り、コストアップの
原因となる。近年、無公害性の無機物感光体としてアモ
ルファスシリコンが注目され、その研究開発が進められ
ている。しかしながら、これらも、感度については優れ
ているが、薄膜形成時において、主にプラズマＣｖＤ法
を用いるため、その生産性は極めて劣っ°ており、感光
体コスト、ランニングコストとも大きなものとなってい
る。

一方、有機感光体は、焼却が可能であり、無公害の利点
を有し、更に多くのものは塗工により薄膜形成が可能で
大量生産が容易である。それ故にコストが大幅に低下で
き、又、用途に応じて様々な形状を加工する事ができる
という長所を有している。しかしながら、有機感光体に
おいては、その感度、耐久性に問題が残されており、高
感度、高耐久性の有機感光体の出現が強く望まれている
。

有機感光体の感度向上の手段として様々な方法が提案さ
れているが、現在では電荷発生層と電荷輸送層とに機能
が分離した主に二層構造の機能分離型感光体が主流とな
っている。例えば、露光により電荷発生層で発生した電
荷は、電荷輸送層に注入され、電荷輸送層中を通って表
面に輸送され、表面電荷を中和することにより感光体表
面に静電潜像が形成される。機能分離型は単層型に比し
て発生した電荷が捕獲される可能性が小さくなり、各層
がそれぞれの機能を阻害される事なく、効率良く電荷が
感光体表面に輸送され得る（アメリカ特許第２８０３５
４１号）。

電荷発生層に用いられる有機電荷発生材としては、照射
される光のエネルギーを吸収し、効率よく電荷を発生す
る化合物が選択使用されており、例えば、アゾ系顔料（
特開昭５４−１４９６７号公報）、無金属フタロシアニ
ン顔料（特開昭６０−１４３３４６号公報）、金属フタ
ロシアニン顔料（特開昭５０−１６５３８号公報）、ス
クェアリウム塩（特開昭５３−２７０３３号公報）等を
挙げることができる。

電荷輸送層に用いられる電荷輸送材としては、電荷発生
層からの電荷の注入効率が大きく、更に電荷輸送層内で
電荷の移動度が大である化合物を選定する必要がある。

そのためには、イオン化ポテンシャルが小さい化合物、
ラジカルカチオンが発生しやすい化合物が選ばれ、例え
ばトリアリールアミン誘導体（特開昭５３−４７２６０
号公報）、ヒドラゾン誘導体（特開昭５７−１０１８４
４号公報）、オキサジアゾール誘導体（特公昭３４−５
４６６号公報）、ピラゾリン誘導体（特公昭５２−４１
８８号公報）、スチルベン誘導体く特開昭５８−１９８
０４３号公報）、トリフェニルメタン誘導体（特公昭４
５−５５５号公報）等が提案されている。

しかしながら、これらの電荷移動度は無機物に比較する
と小さく、感度もまだまだ満足できないものであり、更
に改良された材料が求められていた。

本発明の目的の１つ。は、従来の電子写真感光体におけ
る欠点を解決する電荷輸送材である新規スチリル化合物
を提供する事であり、又、本発明の目的の他の１つは該
スチリル化合物の製造法を提供する事にある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究の結果、本
発明を完成するに到った。

即ち本発明は、一般式（１） （式中Ｒ１は前記一般式＜１）と同じ、Ｒ４は低級アル
キル基を表す。） で示されるベンゼンホスホン酸エステルと、般式（３） （式中Ｒ１は水素原子、アルキル基、アリール基のいず
れかを表し、ＲＩ　Ｒ３は同一もしくは相異なって、水
素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されて
いてもよいアリール基、置換されていてもよいアルケニ
ル基、置換されていてもよい複素環基のいずれかを表す
か、あるいはＲ２とＲ３が隣接する炭素原子とともに環
を形成する。） で示されるスチリル化合物を提供するものであり、更に
本発明は、一般式（２） ％式％） （式中Ｒ１，ＲＩは前記−触式（１）と同じ）で示され
るカルボニル化合物とを反応させる事を特徴とする、前
記一般式（１）で示されるスチリル化合物の製造法を提
供するものである。

−１１１式（２）で示されるベンゼンホスホン酸エステ
ルのＲ４は低級アルキル基であり、炭素数１〜４のアル
キル基、中でもメチル基、エチル基が好ましい。この一
般式（２）で示されるベンゼンホスホン酸エステルは、
一般式（４） （式中Ｒ１は前記一般式（１）と同じであり、Ｘはハロ
ゲン原子を表す、） で示されるトリハロゲン化化合物と亜リン酸トリアルキ
ルとを反応せしめる事により得ることができる。

ここに、Ｒ５は水素原子、アルキル基、アリール基のい
ずれかを表すが、中でも水素原子、メチル基、フェニル
基であるものが製造が容易であり、好ましい。

一般式（３）で示されるカルボニル化合物のＲ２＋Ｒ３
は、同一もしくは相異なって水素原子、置換されていて
もよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、
置換されていてもよいアルケニル基、置換されていても
よい複素環基のいずれかを表すか、あるいはＲ２とＲ３
が隣接する炭素原子とともに環を形成する。例えば、ア
ルキル基としてメチル基、エチル基、プロピル基、アリ
ール基としてフェニル基、ナフチル基、アンスラニル基
、アルケニル基としてスチリル基、複素環基としてカル
バゾール基、インドリル基、ピリジル基等を挙げる事が
できる。

更にこれらの基は置換基を有していてもよく、例えば、
メチル基、エチル基等のアルキル基、くは相異なってア
ルキル基又はアリール基を示す）で表されるアミノ基等
の電子供与性基が好ましい。

又、Ｒ２とＲ３が隣接する炭素原子とともに環を形成す
る例としては、例えば一般式（３）で示されるカルボニ
ル化合物として９−フルオレノンを挙げることができる
。

以上に示した一般式（２）で示されるベンゼンホスホン
酸エステルと一般式（３）で示されるカルボニル化合物
とを反応せしめ、一般式（１）で示されるスチリル化合
物を得ることができる。反応は塩基存在下、極性溶媒中
で、室温から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で行うこ
とができる。

本発明に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラート、ナトリ
ウムエチラート、カリウム−ｔ−ブトキサイド、ナトリ
ウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、リチ
ウムジイソプロピルアミド等を挙げる事ができる。

反応溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、
イソプロパツール等のアルコール系溶媒；ジエチルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル系ｍ媒；ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族系溶媒、　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができ
る。

反応は一般式（２）で示されるベンゼンホスホン酸エス
テル、等当量の一般式（３）で示されるカルボニル化合
物、等当量もしくは過剰当量の塩基、及び溶媒を同時に
混合し、所定の温度で反応せしめるか、もしくはまず、
一般式（２）で示されるベンゼンホスホン酸エステルを
溶媒に溶解し、その後、塩基、一般式（３）で示される
カルボニル化合物を順次添加し、所定の温度で反応せし
める。

反応終了後、大量の水中、もしくは塩を溶解した飽和水
溶液に注ぎ込み、得られた固体を収集するか、得られた
固体を任意の有機溶媒に溶解させて分取し、有機溶媒を
留去する事により、一般式（１）で示されるスチリル化
合物を高収率で得る事ができる。

以上のようにして得られる本発明における一般式（１）
で示されるスチリル化合物を具体的に例示すれば以下の
式に示すものが挙げられるが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。

Ｃ鵞）Ｉｓ ＣＨ３ これらのスチリル化合物は、いずれも通常の有機溶剤に
可溶であり、電子写真感光体、螢光増白染料等に利用で
きる。特に電子写真感光体の電荷輸送材として用いた場
合にはその高感度化、高耐久性化を可能とするものであ
る。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例−１ １，２，４−）リス（β−（ｐ−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミ
ノスチリル））ベンゼン（例示化合物（９）の合成）撹
拌装置、冷却管、窒素導入管、温度計を備えつけた１１
４つロフラスコに１．２．４−　トリス（ブロモメチル
）ベンゼンより合成したホスホン酸ジエチル５ｇ（９，
５ミリモル）、エチレングリコールジメチルエーテル３
００−を入れて溶解させ、そこへ３．０ｇの水素化ナト
リウムを室温で加えた。３０分撹拌後、ｐ−Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアミノベンズアルデヒド５ｇ　（２８，５ミリモ
ル）のエチレングリコールジメチルエーテル溶液５０＠
！を室温で滴下した。滴下終了後、８５°Ｃにまで温度
を上昇させ、その温度で５時間撹拌した。

その後、反応混合物を室温にまで冷却し、２１の水に注
いだ。更に酢酸エチル１！を加えてよく混合し、酢酸エ
チル層を分取した。この酢酸エチル溶液を水で２回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、酢酸エチ
ルを減圧留去、して黄色固体を得、シリカゲルカラム（
酢酸エチル）により一回精製し、更にイソプロパツール
により再結晶し、黄色結晶４．７ｇ　（収率８３％）を
得た。

融点　７１〜７３゛Ｃ 元素分析（Ｃ４ｇＨｓ＋Ｎ３） 計算値（％）　　実測値（％） ＣＢ４．４２　　　　　８４．３１ ＋＋　　　　８．５４　　　　　　８．５ＯＮ　　　　
７．０４　　　　　　７．１９又、ＮＭＲ（６０ＭＩＩ
ｚ）データを図−１に示した。

実施例２〜１２ ｐ−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノベンズアルデヒドのかわり
に、それぞれ対応するカルボニル化合物を用いる以外は
実施例−１と同様の方法で例示化合物（６）、　（７）
、　（１０）、　（１１）、　（１２）、　（１３）。

（１５Ｌ　（，１７）、　（１９）、　（２１）、　（
２３）を合成し、融点及び元素分析値を測定した。

その結果を表−１に示した。

実施例１３ Ｌ２．４−トリス（β−（２−ピリジルビニル））ベン
ゼン（例示化合物（１８）の合成）実施例−１と同じ装
置に１．２．４−　トリス（ブロモメチル）ベンゼンよ
り合成したホスホン酸ジエチル５ｇ（９，５ミリモル）
、２−ホルミルピリジン４．４ｇ　（２８，５ミリモル
）、ジメチルホルムアミド５００−、ナトリウムメトキ
シドの２８％メタノール溶液７　ｍｌを混合し、４０°
Ｃで６時間撹拌し、反応させた。その後の操作は実施例
−１と同様にし、シリカゲルカラム（酢酸エチル）及び
再結晶（トルエン）することにより黄色結晶３．２５ｇ
　　（収率８８．４％）を得た。

融点　１３４〜１３６°Ｃ 元素分析（Ｃｔｒｌｉ□Ｎ、） 計算値（％）　　実測値（％） ＣＢ３．７２　　　　　８３．６２ Ｈ５，４３５，６１ Ｎ　　　１０．８５　　　　　１０．７７実施例１４〜
２０ ２−ホルミルピリジンのかわりに、それぞれ対応するカ
ルボニル化合物を用いる以外は実施例１３と同様の方法
で例示化合物（５）、　（８Ｌ　（１４Ｌ（１６）、　
（２０）、　（２２）、　（２５）を合成し、融点及び
元素分析値を測定した。その結果を表−２に示した。

４、

【図面の簡単な説明】

図−１は実施例１で得られた例示化合物（９）のＭＲ スペク トルを示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（１）で示されるスチリル化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（１） （式中Ｒ＿１は水素原子、アルキル基、アリール基のい
   ずれかを表し、Ｒ＿２、Ｒ＿３は同一もしくは相異なっ
   て、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換
   されていてもよいアリール基、置換されていてもよいア
   ルケニル基、置換されていてもよい複素環基のいずれか
   を表すか、あるいはＲ＿２とＲ＿３が隣接する炭素原子
   とともに環を形成する。） ２、一般式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（２） （式中Ｒ＿１は前記一般式（１）と同じ、Ｒ＿４は低級
   アルキル基を表す。） で示されるベンゼンホスホン酸エステルと、一般式（３
   ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（３） （式中Ｒ＿２、Ｒ＿３は前記一般式（１）と同じ）で示
   されるカルボニル化合物とを反応させる事を特徴とする
   、請求項１記載のスチリル化合物の製造法。