JPH02284503A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH02284503A
JPH02284503A JP1106266A JP10626689A JPH02284503A JP H02284503 A JPH02284503 A JP H02284503A JP 1106266 A JP1106266 A JP 1106266A JP 10626689 A JP10626689 A JP 10626689A JP H02284503 A JPH02284503 A JP H02284503A
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JP1106266A
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Akira Kumagai
亮 熊谷
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NEC Corp
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NEC Corp
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/5445Dispositions of bond wires being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/931Shapes of bond pads
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10W90/00Package configurations
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    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、主に超高周波数帯で動作するGaAsショッ
トキー障壁電界効果トランジスタ(以下、GaAsMB
SFBTという。)に利用され、特に、′その50Ω内
部整合回路を改善し、た半導体装置に関する。
〔概要〕
本発明は、例えばGaAsM8SFETからなる半導体
チップと、入力側および出力側内部整合回路とを備えた
半導体装置において、 前記入力側内部整合回路のストリップラインの一部が抵
抗体を介して接続されるようにすることにより、 入力側内部整合回路のQ値を低く押え、これにより、安
定した整合状態が得られ、かつ振幅周波数特性の広帯域
化が図れるようにしたものである。
〔従来の技術〕
従来、GaAsMtESFBTの入出力整合回路は、第
3図にその一例を示すように、ボンディング線としての
AU線4(こよるインダクタンスおよびチ・ツブコンデ
ンサ3によるキャパシタンスによる集中定数的整合回路
と、入力側Al2O3基板1aおよび出力側Al2O3
基板1b上に設けられたマイクロストリップラインおよ
びオープンスタブ形成用のランドによる分布定数的整合
回路とから構成されていた。なお第3図において、2は
GaAsMESFBTチップである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
高出力のGaAsMBSFETにおいては、第4図のス
ミスチャート1こ示すよう1ご、Ga八へMESFET
チップ自イ本の入力インピーダンスが非常に低く、Al
2O3等の誘電体基板上のストリップラインによる位相
回転およびオープンスタブのみで低Q値を保った整合回
路を構成することが困難な場合が生じ、結果として、安
定した整合状態が得られずかつ振幅周波数特性を広帯域
化できない欠点があった。
本発明の目的は、前記の欠点を除去することにより、低
Q値を保つ整合回路を有し、安定な整合状態が得られ、
かつ振幅周波数特性を広帯域化できるGaAsMBSF
ETからなる半導体装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、半導体チップと、セラミック基板上に形成さ
れたストリップラインおよびオープンスタブ形成用の複
数のランドを含み前記半導体チップのインピーダンス整
合を行う入力側および出力側内部整合回路とを備えた半
導体装置において、前記入力側内部整合回路のストリッ
プラインの一部が抵抗体を介して接続されたことを特徴
とする。
〔作用〕
入力側内部整合回路のストリップラインの一部を抵抗体
を介して接続する。
この場合、前記入力側内部整合回路のインピーダンスは
、スミスチャートの実数軸上を50Ω側ヘシフトするた
め、ストリップラインおよびオープンスタブにて構成す
る整合回路のQ値は低く押えられ、これにより、安定し
た整合状態を得、かつ振幅周波数特性の広帯域化を図る
ことが可能となる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図(a)は本発明の一実施例を示す模式的斜視図で
あり、第1図ら)はその入力側内部整合回路の詳細を示
す平面図である。
本実施例は、半導体チップとしてのGaAsMESFB
Tチップ2と、セラミック基板としてのAl2O3基板
8上に形成されたTi/Pd/Auからなるストリップ
ライン4およびオープンスタブ形成用の複数のランド5
を含みGaAsMESFBTチップ2のインピーダンス
整合を行う入力側および出力側内部整合回路1aおよび
1bと、チップコンデンサ3を備えた半導体装置におい
て、 入力側内部整合回路1aのストリップライン4の一部が
抵抗体6を介して接続されている。そして、入力側内部
整合回路1aと、チップコンデンサ3と、GaAsMB
SF8Tチップ2と、出力側内部整合回路1bとはそれ
ぞれAu線7によりボンディング接続される。
本発明の特徴は、第1図(a)および(b)において、
抵抗体6を設けたことにある。
第2図は、本実施例によるインピーダンス整合特性をス
ミスチャート上に示したものである。本発明の特徴であ
る抵抗体6により、インピーダンスは、スミスチャート
の実数軸上を50Ω側ヘシフトするため、第4図に示し
た従来例の場合に比べ、抵抗体6外側のストリップライ
ン4およびオープンスタブにて構成する整合回路のQ値
を低く押えることが可能となる。
これにより、安定した整合状態が得られ、かつ、振幅周
波数特性の広帯域化を図ることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、入力側内部整合回路の
ストリップラインの一部を抵抗体を介して接続すること
により、内部整合回路のQ値を低く押えることができる
ので、安定した整合状態が得られ、かつ振幅周波数特性
の広帯域化を図ることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は本発明の一実施例を示す模式的斜視図。 第1図(b)はその入力内部整合回路の詳細を示す平面
図。 第2図はそのインピーダンス整合特性を示すスミスチャ
ート。 第3図は従来例を示す模式的斜視図。 第4図はそのインピーダンス整合特性を示すスミスチャ
ート。 1a・・・入力側内部整合回路、1b・・・出力側内部
整合回路、2・・・GaAsMBSPBTチップ、3・
・・チップコンテ′ンサ、4・・・ストリップラ′イン
、5・・・ランド、6・・・抵抗体、7・・・Au線、
訃・・Al2O3基板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.半導体チップと、セラミック基板上に形成されたス
    トリップラインおよびオープンスタブ形成用の複数のラ
    ンドを含み前記半導体チップのインピーダンス整合を行
    う入力側および出力側内部整合回路とを備えた半導体装
    置において、 前記入力側内部整合回路のストリップラインの一部が抵
    抗体を介して接続された ことを特徴とする半導体装置。
JP10626689A 1989-04-26 1989-04-26 半導体装置 Expired - Fee Related JP2658382B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04302520A (ja) * 1991-03-29 1992-10-26 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 弾性表面波装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04302520A (ja) * 1991-03-29 1992-10-26 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 弾性表面波装置

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