JPH02140969A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPH02140969A JPH02140969A JP63295096A JP29509688A JPH02140969A JP H02140969 A JPH02140969 A JP H02140969A JP 63295096 A JP63295096 A JP 63295096A JP 29509688 A JP29509688 A JP 29509688A JP H02140969 A JPH02140969 A JP H02140969A
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路装置に関し、特にGaAsモノ
リシックマイクロ波IC(以下、GaAsMMICと称
する)に関する。
リシックマイクロ波IC(以下、GaAsMMICと称
する)に関する。
従来、GaAs MMICで増幅器等を形成する場合
、その入出力整合回路には直流的に絶縁される一方で高
周波的に接続された回路構成を採用している。このよう
な回路の一例を第4図の平面図、及び第5図のB−B線
断面図に示す。
、その入出力整合回路には直流的に絶縁される一方で高
周波的に接続された回路構成を採用している。このよう
な回路の一例を第4図の平面図、及び第5図のB−B線
断面図に示す。
これらの図において、半絶縁性GaAs基板1の上面に
第1層配線2を形成し、かつ誘電体としての眉間絶縁膜
3を被着した上で第2層配線4を形成して平行平板コン
デンサを構成している。そして、層間絶縁膜3の一部に
はスルーホール3aを開設し、第1層配線2にポンディ
ングパッド9を接続している。
第1層配線2を形成し、かつ誘電体としての眉間絶縁膜
3を被着した上で第2層配線4を形成して平行平板コン
デンサを構成している。そして、層間絶縁膜3の一部に
はスルーホール3aを開設し、第1層配線2にポンディ
ングパッド9を接続している。
また、前記半絶縁性GaAs基板1の裏面には裏面電極
5を設け、ソルダ7により金属製のパッケージ8上に固
着している。そして、前記ポンディングパッド9とパッ
ケージ8とをボンディングワイヤ10により電気接続し
ている。
5を設け、ソルダ7により金属製のパッケージ8上に固
着している。そして、前記ポンディングパッド9とパッ
ケージ8とをボンディングワイヤ10により電気接続し
ている。
この構成によれば、第2層配線4とパッケージ8とは、
平行平板コンデンサを介して接続しているため、直流的
には絶縁され、高周波的には短絡される。
平行平板コンデンサを介して接続しているため、直流的
には絶縁され、高周波的には短絡される。
〔発明が解決しようとする課題]
上述した従来の構成では、第1層配線2のボンディング
バッド9とパッケージ8とを接続するためにボンディン
グワイヤ10を用いているため、このボンディングワイ
ヤ10にインダクタンスが寄生し、マイクロ波帯では該
インダクタンスが無視できない大きさとなる。また、半
絶縁性G a As基板1をパッケージ8に固着する際
に、その固着位置を複数個の半導体集積回路装置におい
て全て一定させることが困難であり、両者の距離が個別
に異なってボンディングワイヤ10の長さ、即ち長さの
装置による寄生インダクタンスがばらつくという問題も
ある。
バッド9とパッケージ8とを接続するためにボンディン
グワイヤ10を用いているため、このボンディングワイ
ヤ10にインダクタンスが寄生し、マイクロ波帯では該
インダクタンスが無視できない大きさとなる。また、半
絶縁性G a As基板1をパッケージ8に固着する際
に、その固着位置を複数個の半導体集積回路装置におい
て全て一定させることが困難であり、両者の距離が個別
に異なってボンディングワイヤ10の長さ、即ち長さの
装置による寄生インダクタンスがばらつくという問題も
ある。
この結果、GaAs MMICで増幅器を構成する際
に、上述した構成をインピーダンス整合素子として利用
するときには、帯域や利得の劣化や変動が生じ、半導体
集積回路装置の歩留りを低下させる原因となっている。
に、上述した構成をインピーダンス整合素子として利用
するときには、帯域や利得の劣化や変動が生じ、半導体
集積回路装置の歩留りを低下させる原因となっている。
本発明は寄生インダクタンスを抑制し、かつそのばらつ
きを解消することを可能にした半導体集積回路装置を提
供することを目的とする。
きを解消することを可能にした半導体集積回路装置を提
供することを目的とする。
本発明の半導体集積回路装置は、半絶縁性GaAs基板
の表面に第1層配線、眉間絶縁膜、第2層配線からなる
平行平板コンデンサを構成し、かつ基板の裏面から開設
したバイアホールに前記第1層配線を露呈し、このバイ
アホールを通して第1層配線に電気的に接続した裏面電
極を形成した構成としている。
の表面に第1層配線、眉間絶縁膜、第2層配線からなる
平行平板コンデンサを構成し、かつ基板の裏面から開設
したバイアホールに前記第1層配線を露呈し、このバイ
アホールを通して第1層配線に電気的に接続した裏面電
極を形成した構成としている。
上述した構成では、裏面電極をパッケージに導通状態で
固着すれば、平行平板コンデンサの第1層配線側を裏面
電極を介してパッケージに電気接続することができ、ボ
ンディングワイヤを不要にして寄生インダクタンスの発
生を抑制する。
固着すれば、平行平板コンデンサの第1層配線側を裏面
電極を介してパッケージに電気接続することができ、ボ
ンディングワイヤを不要にして寄生インダクタンスの発
生を抑制する。
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の要部の平面図、第2図はそ
のA−A線に沿う断面図である。これらの図において、
半絶縁性GaAs基板1の上面に第1層配線2を形成し
、かつ誘電体としての層間絶縁膜3を被着した上で第2
層配線4を形成して平行平板コンデンサを構成している
。また、前記半絶縁性GaAs基板1の裏面には、前記
第1配線2が露呈されるバイアホール6を開設し、この
バイアホール6を含む裏面に裏面電極5を形成している
。
のA−A線に沿う断面図である。これらの図において、
半絶縁性GaAs基板1の上面に第1層配線2を形成し
、かつ誘電体としての層間絶縁膜3を被着した上で第2
層配線4を形成して平行平板コンデンサを構成している
。また、前記半絶縁性GaAs基板1の裏面には、前記
第1配線2が露呈されるバイアホール6を開設し、この
バイアホール6を含む裏面に裏面電極5を形成している
。
そして、この基板1の裏面電極5をソルダ7により金属
製のパッケージ8上に固着している。この場合、ソルダ
7に導電性ソルダを用いて、裏面電極5をパッケージ8
に電気的に接続することは言うまでもない。
製のパッケージ8上に固着している。この場合、ソルダ
7に導電性ソルダを用いて、裏面電極5をパッケージ8
に電気的に接続することは言うまでもない。
この構成によれば、第1配線21層間絶縁膜3゜第2配
線4で平行平板コンデンサが構成される。
線4で平行平板コンデンサが構成される。
また、第1配線2は裏面において裏面電極5.ソルダ7
を介してパッケージ8に電気接続されるため、第2配線
4とパッケージ8は直流的には絶縁されるが高周波的に
は接続された構成となる。
を介してパッケージ8に電気接続されるため、第2配線
4とパッケージ8は直流的には絶縁されるが高周波的に
は接続された構成となる。
そして、この構成では、第2配’4% 4とパッケージ
8とは裏面電極5とソルダ7を介して接続されるため、
僅かなインダクタンスが発生してもボンディングワイヤ
による無視できない程度の大きな寄生インダクタンスの
発生を防止することができる。また、パッケージ8に対
する基板1の位置ずれが生じても、インダクタンスのば
らつきが生じることはない。
8とは裏面電極5とソルダ7を介して接続されるため、
僅かなインダクタンスが発生してもボンディングワイヤ
による無視できない程度の大きな寄生インダクタンスの
発生を防止することができる。また、パッケージ8に対
する基板1の位置ずれが生じても、インダクタンスのば
らつきが生じることはない。
第3図は上述した構成をGaAs MMICI段増幅
器に適用した例の平面レイアウト図である。
器に適用した例の平面レイアウト図である。
図において、1は半絶縁性GaAs基板、11゜12は
入出力ボンディングバッド、13.14はバイアスポン
ディングパッド、15.16は抵抗。
入出力ボンディングバッド、13.14はバイアスポン
ディングパッド、15.16は抵抗。
17はMESFET、18.19はソース電極、20.
21はマイクロストリップ線路、22.23は第1図及
び第2図に示した平行平板コンデンサである。
21はマイクロストリップ線路、22.23は第1図及
び第2図に示した平行平板コンデンサである。
ここで、マイクロストリップ線路20.21と平行平板
コンデンサ22.23で入出力インピーダンス整合をと
り、バイアスポンディングパッド14から抵抗16を通
してMESFET17のドレインバイアスを供給する。
コンデンサ22.23で入出力インピーダンス整合をと
り、バイアスポンディングパッド14から抵抗16を通
してMESFET17のドレインバイアスを供給する。
このように、本発明をインピーダンス整合用リアクタン
ス素子に適用することにより、ボンディングワイヤを用
いた構成に比較して寄生インダクタンスを抑制しかつそ
のばらつきを防止する。また、ボンディングワイヤを接
続するためのパッドを配設するスペースも不要となり、
レイアウト上の制約を解消し、高集積化を実現する。
ス素子に適用することにより、ボンディングワイヤを用
いた構成に比較して寄生インダクタンスを抑制しかつそ
のばらつきを防止する。また、ボンディングワイヤを接
続するためのパッドを配設するスペースも不要となり、
レイアウト上の制約を解消し、高集積化を実現する。
(発明の効果〕
以上説明したように本発明は、半絶縁性GaAs基板の
表面に形成した平行平板コンデンサの裏面側からバイア
ホール及び裏面電極を形成して、平行平板コンデンサの
一方の配線層に裏面電極を電気的に接続しているので、
裏面電極をパッケージに導通状態で固着すれば、平行平
板コンデンサの一方の電極側を裏面電極を介してパッケ
ージに電気接続することができ、ボンディングワイヤを
不要にして寄生インダクタンスの発生を抑制すると共に
、そのばらつきを低減することができる。特に、本発明
をインピーダンス整合素子として用いた際の帯域や利得
の劣化や変動を防止できる効果がある。
表面に形成した平行平板コンデンサの裏面側からバイア
ホール及び裏面電極を形成して、平行平板コンデンサの
一方の配線層に裏面電極を電気的に接続しているので、
裏面電極をパッケージに導通状態で固着すれば、平行平
板コンデンサの一方の電極側を裏面電極を介してパッケ
ージに電気接続することができ、ボンディングワイヤを
不要にして寄生インダクタンスの発生を抑制すると共に
、そのばらつきを低減することができる。特に、本発明
をインピーダンス整合素子として用いた際の帯域や利得
の劣化や変動を防止できる効果がある。
第1図は本発明の一実施例の要部の平面図、第2図は第
1図のA−A線に沿う断面図、第3図は本発明の適用例
を示す平面レイアウト図、第4図は従来構造の一部の平
面図、第5図は第4図のB−B線に沿う断面図である。 1・・・半絶縁性GaAs基板、2・・・第1層配線、
3・・・層間絶縁膜、4・・・第2層配線、5・・・裏
面電極、6・・・バイアホール、7・・・ソルダ、8・
・・パッケージ、9・・・ポンディングパッド、lO・
・・ボンディングワイヤ、11.12・・・入出力ボン
ディングバッド、13.14・・・バイアスポンディン
グパッド、15.16・・・抵抗、17・・・MESF
ET。 18.19・・・ソース電極、20.21・・・マイク
ロストリップ線路、22.23・・・平行平板コンデン
サ。 第2図 第 図 第5 図
1図のA−A線に沿う断面図、第3図は本発明の適用例
を示す平面レイアウト図、第4図は従来構造の一部の平
面図、第5図は第4図のB−B線に沿う断面図である。 1・・・半絶縁性GaAs基板、2・・・第1層配線、
3・・・層間絶縁膜、4・・・第2層配線、5・・・裏
面電極、6・・・バイアホール、7・・・ソルダ、8・
・・パッケージ、9・・・ポンディングパッド、lO・
・・ボンディングワイヤ、11.12・・・入出力ボン
ディングバッド、13.14・・・バイアスポンディン
グパッド、15.16・・・抵抗、17・・・MESF
ET。 18.19・・・ソース電極、20.21・・・マイク
ロストリップ線路、22.23・・・平行平板コンデン
サ。 第2図 第 図 第5 図
Claims (1)
- 1、半絶縁性GaAs基板の表面に第1層配線、層間絶
縁膜、第2層配線を順次形成して平行平板コンデンサを
構成し、前記基板の裏面からバイアホールを開設して前
記第1層配線を裏面側に露呈し、このバイアホールに第
1層配線に電気的に接続した裏面電極を形成したことを
特徴とする半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295096A JPH02140969A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295096A JPH02140969A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02140969A true JPH02140969A (ja) | 1990-05-30 |
Family
ID=17816252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63295096A Pending JPH02140969A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02140969A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000028591A1 (de) * | 1998-11-05 | 2000-05-18 | Robert Bosch Gmbh | Monolithisch integrierte kapazität |
| JP2018037497A (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置 |
| JP6719687B1 (ja) * | 2019-08-30 | 2020-07-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6334974A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
1988
- 1988-11-22 JP JP63295096A patent/JPH02140969A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6334974A (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000028591A1 (de) * | 1998-11-05 | 2000-05-18 | Robert Bosch Gmbh | Monolithisch integrierte kapazität |
| US6469886B1 (en) | 1998-11-05 | 2002-10-22 | Robert Bosch, Gmbh | Monolithic integrated capacitor |
| JP2018037497A (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 | 半導体装置 |
| JP6719687B1 (ja) * | 2019-08-30 | 2020-07-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
| WO2021038824A1 (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
| US12170255B2 (en) | 2019-08-30 | 2024-12-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device including base member with protruding portion at circumferential edge |
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