JPH022884B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH022884B2 JPH022884B2 JP58214162A JP21416283A JPH022884B2 JP H022884 B2 JPH022884 B2 JP H022884B2 JP 58214162 A JP58214162 A JP 58214162A JP 21416283 A JP21416283 A JP 21416283A JP H022884 B2 JPH022884 B2 JP H022884B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- imide
- molecule
- acid
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
［発明の技術分野］
本発明は光硬化性、保存安定性、接着性に優れ
た耐熱性感光材料に関する。 ［発明の技術的背景とその問題点］ 近年、耐熱性感光材料の需要は高く、主に電
気、電子分野における保護材料、絶縁材料、ソル
ダーレジスト、接着剤、コーテイング材などとし
て、また半導体素子の製造における耐熱性フオト
レジストとして応用されつつある。この種の感光
材料はその本来の特性として光硬化性と耐熱性に
優れていることが要求されるのみならず、被着体
に対して良好な接着性を示し、また絶縁特性、耐
湿性、耐薬品性などの諸特性をも満足するもので
あることが望まれる。また一方において無公害、
省資源、省エネルギーの観点から無溶剤ないし僅
から溶剤量で被膜形成能を有し、さらにかかる状
態にされた感光材料が保存安定性に優れているこ
とが要求される。 しかしながら従来の耐熱性感光材料にはこれら
の要求特性をいずれも満足するものは少ない。一
般に光硬化性に優れているものは保存安定性に劣
る傾向がみられ、また被着体に対する接着力に欠
けるものが多かつた。 ［発明の目的］ 本発明はこのような観点からなされたもので光
硬化性、保存安定性、接着性、耐湿性、耐薬品性
に優れた耐熱性感光材料を提供することを目的と
するものである。 ［発明の概要］ 本発明は、上記の目的を達成するために鋭意研
究を重ねた結果、後述の材料が目的を達成できる
ことを見い出したものである。 即ち、本発明は、分子内にイミド結合を有する
二塩基酸と、一般式 （但し、式中R1は三価のアルコール残基を表わ
す）で示される分子内に感光基を有する二価アル
コールとからなる不飽和ポリエステル−イミドを
主成分とすることを特徴とする耐熱性感光材料で
ある。 本発明に用いられる分子内にイミド結合を有す
る二塩基酸とは、次の構造式を有する二塩基酸で
ある。 （但し、式中R2は脂肪族または芳香族ジアミン
の残基を示す） 具体的なR2として、
た耐熱性感光材料に関する。 ［発明の技術的背景とその問題点］ 近年、耐熱性感光材料の需要は高く、主に電
気、電子分野における保護材料、絶縁材料、ソル
ダーレジスト、接着剤、コーテイング材などとし
て、また半導体素子の製造における耐熱性フオト
レジストとして応用されつつある。この種の感光
材料はその本来の特性として光硬化性と耐熱性に
優れていることが要求されるのみならず、被着体
に対して良好な接着性を示し、また絶縁特性、耐
湿性、耐薬品性などの諸特性をも満足するもので
あることが望まれる。また一方において無公害、
省資源、省エネルギーの観点から無溶剤ないし僅
から溶剤量で被膜形成能を有し、さらにかかる状
態にされた感光材料が保存安定性に優れているこ
とが要求される。 しかしながら従来の耐熱性感光材料にはこれら
の要求特性をいずれも満足するものは少ない。一
般に光硬化性に優れているものは保存安定性に劣
る傾向がみられ、また被着体に対する接着力に欠
けるものが多かつた。 ［発明の目的］ 本発明はこのような観点からなされたもので光
硬化性、保存安定性、接着性、耐湿性、耐薬品性
に優れた耐熱性感光材料を提供することを目的と
するものである。 ［発明の概要］ 本発明は、上記の目的を達成するために鋭意研
究を重ねた結果、後述の材料が目的を達成できる
ことを見い出したものである。 即ち、本発明は、分子内にイミド結合を有する
二塩基酸と、一般式 （但し、式中R1は三価のアルコール残基を表わ
す）で示される分子内に感光基を有する二価アル
コールとからなる不飽和ポリエステル−イミドを
主成分とすることを特徴とする耐熱性感光材料で
ある。 本発明に用いられる分子内にイミド結合を有す
る二塩基酸とは、次の構造式を有する二塩基酸で
ある。 （但し、式中R2は脂肪族または芳香族ジアミン
の残基を示す） 具体的なR2として、
【式】
【式】
等が挙げられ、具体的な化合物としてはジアミノ
ジフエニルメタン、ジアミノジフエニルエーテ
ル、ジアミノジフエニルスルホン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ベンジジン等が挙げられ、１種又は
２種以上の混合物として使用される。 上記の分子内にイミド結合を有する二塩基酸は
多塩基酸として単独で使用するが、必要に応じて
他の二塩基酸と併用して多塩基酸とすることも可
能である。しかしその使用量はイミド基を含む二
塩基酸を用いることによる、本発明の特徴を損な
わない範囲とすべきであり、多塩基酸の種類に応
じて適宜設定する。 本発明に用いる前記一般式で示される分子内に
感光基を有する二価アルコールは、ケイ皮酸１モ
ルと三価のアルコール残基１モルとをエステル化
反応させることに容易に合成される。これに用い
る三価アルコールとしては、グリセリン、トリメ
チロールプロパン、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート等が用いられる。本発明
は、前記一般式で示される二価アルコールを多価
アルコール成分として単独に用いるが、必要に応
じて他のアルコールを併用して多価アルコール成
分とすることができる。他のアルコールとしては
エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ペン
チルグリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキ
サンジオール等を挙げることができる。不飽和ポ
リエステル−イミドは、前述の如く分子内にイミ
ド結合を有する二塩基酸と分子内に感光基を有す
る前記一般式で表わされる二価アルコールとを常
法に準じて加熱反応させ、しかる後減圧下で加熱
反応させて高縮合させ例えば酸価30以下にしてつ
くられる。酸価が30を超えると耐湿特性などを低
下させることがあり好ましくない。 不飽和ポリエステル−イミドは分子内に光重合
性炭素−炭素二重結合を１個有するケイ皮酸の誘
導体と分子内にイミド結合を有する二塩基酸とを
鎖状にエステル化してなる、あるいは他の多塩基
酸ないし多価アルコールとの混在下でエステル化
してなるもので鎖状分子内に特定割合のイミド結
合とペンダント型光重合性炭素−炭素二重結合と
を有し、また通常は鎖状子内の両末端に遊離の水
酸基ないしカルボキシル基が含まれている。 この不飽和ポリエステル−イミドは無溶剤ない
しわずかな溶剤量でもすぐれた皮膜形成能を有
し、また溶液状態で保存しても短期間にゲル化す
るなどの支障をきたさないすぐれた保存安定性を
有している。 また使用に際しては鎖状分子内のケイ皮酸の誘
導体に基づく光重合性炭素−炭素二重結合によつ
て非常によく光硬化でき、とくに光増感剤を使用
しなくとも短時間に硬化させる利点がある。従来
公知の感光性材料の多くは光増感剤を用いなけれ
ば実用的な硬化速度が得られておらず、この点に
おいて極めて有意義な感光材料といえる。さらに
その硬化被膜を鎖状分子内のイミド結合によつて
すぐれた耐熱性を示す。また硬化被膜と被着体と
の接着が良好で、従来接着力向上のために不可を
されていた被着体表面のエツチング処理が不必要
となる等の利点がある。更にこの種の被膜は絶縁
特性、耐湿性、耐薬品などの諸特性にも優れてお
り、結局耐熱性感光材料としての前述の要求特性
をいずれも満足させることができる。 本発明の耐熱性感光材料は、上述の如き不飽和
ポリエステル−イミドを主成分とするもので単独
でも速かに光硬化させることができるが、必要に
より光増感剤を添加してもよい。この増感剤を加
えても保存安定性にほとんど悪影響を与えない。 光増感剤としては、例えばベンゾイル、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタルなど
のカルボニル化合物、ベンジルスルフイドの如き
有機硫黄化合物、ハロゲン化合物および光還元性
染料などが挙げられる。光増感剤の使用量は不飽
和ポリエステル−イミド100重量部に対して通常
５重量部以下とするのがよい。また本発明の耐熱
性感光材料は、ケイ皮膜の特性による分光増感さ
せる特徴を有しており、この分光増感を行なわせ
る時は、材料中にＮ−アセチル−４−ニトロナフ
チルジアミン、５−ニトロアセナフテンなどの公
知の増感剤を配合することができる。この配合に
よつて400nｍ以上の可視領域に対しても感度を
有することになり、紫外線だけでなくタングステ
ンランプによる露光も可能となる。尚この発明に
おいて光増感剤に代えあるいは光増感剤とともに
熱硬化性触媒として公知の有機過酸化物を使用し
て光硬化後さらに後処理として加熱処理し硬化を
改善させることもできる。 本発明は、上記の各成分の他に必要に応じて充
填剤、接着助剤などの公知の添加剤を配合しても
よい。また耐熱性フオトレジストのようなレジス
ト材料などについては、トルエン、アセトン、テ
トラヒドロフランなどの有機溶剤を適宜少量配合
し、またビニルモノマー、ジビニル化合物、アク
リル（メタクリル）酸化合物、不飽和ポリエステ
ル樹脂などの重合性不飽和化合物を配合して、被
膜形成時の粘度を低下させることもできる。 本発明の耐熱性感光材料は保存安定性に非常に
すぐれており、液状ないし溶液状にしたものを室
温に放置していても短期間にゲル化することはな
い。しかし長期間に亘り保存するときは、その感
光特性を考慮して暗室中または冷温室中に保存し
ておくのが望ましい。 一方、使用に当つては通常50〜100℃に加熱し
て流動性となし、バーコータ、アプリケータ、ス
ピンナなどによつて被着体に塗工後、活性光線を
照射して光硬化させ、さらに必要に応じて耐熱性
や接着性をよりよく向上させるための後加熱処理
を施こすことによつて、すぐれた諸特性を有する
光硬化膜を形成できる。こうして得られた耐熱性
感光材料は電気、電子分野における保護材料、絶
縁材料、ソルダーレジスト、接着性、コーテイン
グ剤等として利用できる。 ［発明の実施例］ 本発明を実施例によつて説明する。 実施例 １ 攪拌器、コンデンサー、温度計を付した500c.c.
四つ口フラスコにトリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート261ｇ（１モル）とケイ皮
膜148ｇ（１モル）を仕込み、フラスコ内温度が
150℃になつたら攪拌を開始してそのまま220℃ま
で温度を上昇させた後にキシロールによる還流法
を開始する。約５時間220℃で還流を行なわせて
生成水18ｇ留出させた。次に10〜20mmHgで減圧
して残存水分を除き、前記の分子内に感光基を有
する二価アルコールを得た。 トリメリツト酸38.4ｇ（0.2モル）、ジアミノジ
フエニルエーテル20ｇ（0.1モル）をフラスコに
取り、室温で撹拌しながら反応を行ない約２時間
で150℃まで昇温させた後、感光量を有する二価
アルコール39ｇ（0.1モル）を加え180〜220℃で
９時間反応させた後、約10mmHg、200℃で２〜３
時間反応させて酸価22の不飽和ポリエステル−イ
ミドを得て耐熱性感光材料とした。 実施例 ２ トリメリツト酸38.4ｇ（0.2モル）、ジアミノジ
フエニルメタン18.8ｇ（0.1モル）をフラスコに
取り、室温で撹拌しながら反応を行ない、約２時
間で150℃まで昇温させた後、実施例１の感光基
を有する二価アルコール39ｇ（0.1モル）を加え
実施例１と同様にして酸価18の不飽和ポリエステ
ル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。 実施例 ３ トリメリツト酸38.4ｇ（0.2モル）、ジメチルパ
ラフエニレンジアミン13.6ｇ（0.1モル）をフラ
スコに取り、室温で撹拌しながら反応を行ない、
約２時間で150℃まで昇温させた後、実施例１の
感光基を有する二価アルコール31.2ｇ（0.8モ
ル）、エチレングリコール1.24ｇ（0.2モル）を加
え、実施例１と同様にして酸価13の不飽和ポリエ
ステル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。 以上の実施例１〜３で得られた耐熱性感光材料
について、保存安定性、酸化性、耐薬品性、密着
性、耐熱性および耐湿性の試験を行なつたので、
その結果を第１表に示した。
ジフエニルメタン、ジアミノジフエニルエーテ
ル、ジアミノジフエニルスルホン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ベンジジン等が挙げられ、１種又は
２種以上の混合物として使用される。 上記の分子内にイミド結合を有する二塩基酸は
多塩基酸として単独で使用するが、必要に応じて
他の二塩基酸と併用して多塩基酸とすることも可
能である。しかしその使用量はイミド基を含む二
塩基酸を用いることによる、本発明の特徴を損な
わない範囲とすべきであり、多塩基酸の種類に応
じて適宜設定する。 本発明に用いる前記一般式で示される分子内に
感光基を有する二価アルコールは、ケイ皮酸１モ
ルと三価のアルコール残基１モルとをエステル化
反応させることに容易に合成される。これに用い
る三価アルコールとしては、グリセリン、トリメ
チロールプロパン、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート等が用いられる。本発明
は、前記一般式で示される二価アルコールを多価
アルコール成分として単独に用いるが、必要に応
じて他のアルコールを併用して多価アルコール成
分とすることができる。他のアルコールとしては
エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ペン
チルグリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキ
サンジオール等を挙げることができる。不飽和ポ
リエステル−イミドは、前述の如く分子内にイミ
ド結合を有する二塩基酸と分子内に感光基を有す
る前記一般式で表わされる二価アルコールとを常
法に準じて加熱反応させ、しかる後減圧下で加熱
反応させて高縮合させ例えば酸価30以下にしてつ
くられる。酸価が30を超えると耐湿特性などを低
下させることがあり好ましくない。 不飽和ポリエステル−イミドは分子内に光重合
性炭素−炭素二重結合を１個有するケイ皮酸の誘
導体と分子内にイミド結合を有する二塩基酸とを
鎖状にエステル化してなる、あるいは他の多塩基
酸ないし多価アルコールとの混在下でエステル化
してなるもので鎖状分子内に特定割合のイミド結
合とペンダント型光重合性炭素−炭素二重結合と
を有し、また通常は鎖状子内の両末端に遊離の水
酸基ないしカルボキシル基が含まれている。 この不飽和ポリエステル−イミドは無溶剤ない
しわずかな溶剤量でもすぐれた皮膜形成能を有
し、また溶液状態で保存しても短期間にゲル化す
るなどの支障をきたさないすぐれた保存安定性を
有している。 また使用に際しては鎖状分子内のケイ皮酸の誘
導体に基づく光重合性炭素−炭素二重結合によつ
て非常によく光硬化でき、とくに光増感剤を使用
しなくとも短時間に硬化させる利点がある。従来
公知の感光性材料の多くは光増感剤を用いなけれ
ば実用的な硬化速度が得られておらず、この点に
おいて極めて有意義な感光材料といえる。さらに
その硬化被膜を鎖状分子内のイミド結合によつて
すぐれた耐熱性を示す。また硬化被膜と被着体と
の接着が良好で、従来接着力向上のために不可を
されていた被着体表面のエツチング処理が不必要
となる等の利点がある。更にこの種の被膜は絶縁
特性、耐湿性、耐薬品などの諸特性にも優れてお
り、結局耐熱性感光材料としての前述の要求特性
をいずれも満足させることができる。 本発明の耐熱性感光材料は、上述の如き不飽和
ポリエステル−イミドを主成分とするもので単独
でも速かに光硬化させることができるが、必要に
より光増感剤を添加してもよい。この増感剤を加
えても保存安定性にほとんど悪影響を与えない。 光増感剤としては、例えばベンゾイル、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタルなど
のカルボニル化合物、ベンジルスルフイドの如き
有機硫黄化合物、ハロゲン化合物および光還元性
染料などが挙げられる。光増感剤の使用量は不飽
和ポリエステル−イミド100重量部に対して通常
５重量部以下とするのがよい。また本発明の耐熱
性感光材料は、ケイ皮膜の特性による分光増感さ
せる特徴を有しており、この分光増感を行なわせ
る時は、材料中にＮ−アセチル−４−ニトロナフ
チルジアミン、５−ニトロアセナフテンなどの公
知の増感剤を配合することができる。この配合に
よつて400nｍ以上の可視領域に対しても感度を
有することになり、紫外線だけでなくタングステ
ンランプによる露光も可能となる。尚この発明に
おいて光増感剤に代えあるいは光増感剤とともに
熱硬化性触媒として公知の有機過酸化物を使用し
て光硬化後さらに後処理として加熱処理し硬化を
改善させることもできる。 本発明は、上記の各成分の他に必要に応じて充
填剤、接着助剤などの公知の添加剤を配合しても
よい。また耐熱性フオトレジストのようなレジス
ト材料などについては、トルエン、アセトン、テ
トラヒドロフランなどの有機溶剤を適宜少量配合
し、またビニルモノマー、ジビニル化合物、アク
リル（メタクリル）酸化合物、不飽和ポリエステ
ル樹脂などの重合性不飽和化合物を配合して、被
膜形成時の粘度を低下させることもできる。 本発明の耐熱性感光材料は保存安定性に非常に
すぐれており、液状ないし溶液状にしたものを室
温に放置していても短期間にゲル化することはな
い。しかし長期間に亘り保存するときは、その感
光特性を考慮して暗室中または冷温室中に保存し
ておくのが望ましい。 一方、使用に当つては通常50〜100℃に加熱し
て流動性となし、バーコータ、アプリケータ、ス
ピンナなどによつて被着体に塗工後、活性光線を
照射して光硬化させ、さらに必要に応じて耐熱性
や接着性をよりよく向上させるための後加熱処理
を施こすことによつて、すぐれた諸特性を有する
光硬化膜を形成できる。こうして得られた耐熱性
感光材料は電気、電子分野における保護材料、絶
縁材料、ソルダーレジスト、接着性、コーテイン
グ剤等として利用できる。 ［発明の実施例］ 本発明を実施例によつて説明する。 実施例 １ 攪拌器、コンデンサー、温度計を付した500c.c.
四つ口フラスコにトリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート261ｇ（１モル）とケイ皮
膜148ｇ（１モル）を仕込み、フラスコ内温度が
150℃になつたら攪拌を開始してそのまま220℃ま
で温度を上昇させた後にキシロールによる還流法
を開始する。約５時間220℃で還流を行なわせて
生成水18ｇ留出させた。次に10〜20mmHgで減圧
して残存水分を除き、前記の分子内に感光基を有
する二価アルコールを得た。 トリメリツト酸38.4ｇ（0.2モル）、ジアミノジ
フエニルエーテル20ｇ（0.1モル）をフラスコに
取り、室温で撹拌しながら反応を行ない約２時間
で150℃まで昇温させた後、感光量を有する二価
アルコール39ｇ（0.1モル）を加え180〜220℃で
９時間反応させた後、約10mmHg、200℃で２〜３
時間反応させて酸価22の不飽和ポリエステル−イ
ミドを得て耐熱性感光材料とした。 実施例 ２ トリメリツト酸38.4ｇ（0.2モル）、ジアミノジ
フエニルメタン18.8ｇ（0.1モル）をフラスコに
取り、室温で撹拌しながら反応を行ない、約２時
間で150℃まで昇温させた後、実施例１の感光基
を有する二価アルコール39ｇ（0.1モル）を加え
実施例１と同様にして酸価18の不飽和ポリエステ
ル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。 実施例 ３ トリメリツト酸38.4ｇ（0.2モル）、ジメチルパ
ラフエニレンジアミン13.6ｇ（0.1モル）をフラ
スコに取り、室温で撹拌しながら反応を行ない、
約２時間で150℃まで昇温させた後、実施例１の
感光基を有する二価アルコール31.2ｇ（0.8モ
ル）、エチレングリコール1.24ｇ（0.2モル）を加
え、実施例１と同様にして酸価13の不飽和ポリエ
ステル−イミドを得て耐熱性感光材料とした。 以上の実施例１〜３で得られた耐熱性感光材料
について、保存安定性、酸化性、耐薬品性、密着
性、耐熱性および耐湿性の試験を行なつたので、
その結果を第１表に示した。
【表】
＊２ 硬化膜の外観状態を調べた
［発明の効果］ 本発明は光硬化性、保存安定性、接着性、耐湿
性、耐薬品性に優れた極めてバランスのとれた耐
熱性感光材料で電気、電子分野における保護材
料、ソルダ−レジスト、コーテイング材料に好適
なものである。
［発明の効果］ 本発明は光硬化性、保存安定性、接着性、耐湿
性、耐薬品性に優れた極めてバランスのとれた耐
熱性感光材料で電気、電子分野における保護材
料、ソルダ−レジスト、コーテイング材料に好適
なものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 分子内にイミド結合を有する二塩基酸と、一
般式 （但し、式中R1は三価のアルコール残基を表わ
す）で示される分子内に感光基を有する二価アル
コールとからなる不飽和ポリエステル−イミドを
主成分とすることを特徴とする耐熱性感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21416283A JPS60108423A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 耐熱性感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21416283A JPS60108423A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 耐熱性感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60108423A JPS60108423A (ja) | 1985-06-13 |
| JPH022884B2 true JPH022884B2 (ja) | 1990-01-19 |
Family
ID=16651259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21416283A Granted JPS60108423A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 耐熱性感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60108423A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9133431B2 (en) | 2009-05-01 | 2015-09-15 | Bimini Technologies Llc | Systems, methods and compositions for optimizing tissue and cell enriched grafts |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101015112B1 (ko) | 2004-07-12 | 2011-02-16 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 밀착력과 텐팅성이 향상된 감광성 수지조성물 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5839445B2 (ja) * | 1980-02-28 | 1983-08-30 | 日東電工株式会社 | 保存安定性にすぐれる耐熱性感光材料 |
| JPS5849748A (ja) * | 1981-09-19 | 1983-03-24 | Nitto Electric Ind Co Ltd | ふく射線感応型のポリアミドイミド系硬化性材料 |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP21416283A patent/JPS60108423A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9133431B2 (en) | 2009-05-01 | 2015-09-15 | Bimini Technologies Llc | Systems, methods and compositions for optimizing tissue and cell enriched grafts |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60108423A (ja) | 1985-06-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0020773B1 (en) | Light-sensitive polymer composition | |
| US4540650A (en) | Photoresists suitable for forming relief structures of highly heat-resistant polymers | |
| CN101616951B (zh) | 基于芴的树脂聚合物及其制备方法 | |
| US4430418A (en) | Radiation-sensitive polyimide precursor composition derived from a diaryl fluoronated diamine compound | |
| TW201445247A (zh) | 光硬化性樹脂組成物、光硬化性乾薄膜、圖型形成方法、電氣電子零件保護用皮膜及電氣電子零件 | |
| JPH022884B2 (ja) | ||
| JPS5910732B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| KR910007246B1 (ko) | 감광성 내식막 조성물 | |
| TW581936B (en) | New acid generator and thin film composition containing the same | |
| CH617950A5 (ja) | ||
| JPS5910733B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| JPS5910731B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| WO2006030630A1 (ja) | アルカリ現像性樹脂組成物 | |
| JPS5950249B2 (ja) | 紫外線硬化可能な樹脂組成物 | |
| JPS6121490B2 (ja) | ||
| JPS5843449A (ja) | 感光性重合体組成物 | |
| JPS5910730B2 (ja) | 耐熱性感光材料 | |
| JPS5839446B2 (ja) | 保存安定性にすぐれる耐熱性感光材料 | |
| CN1616519A (zh) | 一类烯丙基醚改性不饱和聚酯及其用途 | |
| JPS5839445B2 (ja) | 保存安定性にすぐれる耐熱性感光材料 | |
| JPS61238809A (ja) | 感光性ポリイミドの樹脂液組成物 | |
| JP2021084992A (ja) | 樹脂組成物、硬化物の製造方法、硬化物、カバーコート層、表面保護膜及び電子部品 | |
| JPH07238135A (ja) | 感光性ポリアミドエポキシ樹脂の製造法、その製造法により得られる感光性ポリアミドエポキシ樹脂及び感光性ポリアミドエポキシ樹脂組成物 | |
| JPH01129246A (ja) | 感光性耐熱樹脂組成物 | |
| JP2026051942A (ja) | 硬化性組成物 |