JPH02289695A - 溶剤 - Google Patents
溶剤Info
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- JPH02289695A JPH02289695A JP33197689A JP33197689A JPH02289695A JP H02289695 A JPH02289695 A JP H02289695A JP 33197689 A JP33197689 A JP 33197689A JP 33197689 A JP33197689 A JP 33197689A JP H02289695 A JPH02289695 A JP H02289695A
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- Japan
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- tetrafluoropropane
- dichloro
- solvent
- composition
- dichlorotetrafluoropropane
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- Detergent Compositions (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジクロロテトラフルオロプロパンよりなる溶剤
に関する。
に関する。
クロロフルオ口エタン系化合物であるＣＦＣ一１１３は
不燃性で生体毒性が少ないほか、プラスチックやゴムな
どの高分子物質を侵すことなく、油脂、グリース、ワッ
クスなどを溶解するという選択溶解性に優れており、単
独または他の有機溶剤との混合あるいは共沸組成物の形
で、従来より溶剤、洗浄剤などとして広く用いられてい
る。
不燃性で生体毒性が少ないほか、プラスチックやゴムな
どの高分子物質を侵すことなく、油脂、グリース、ワッ
クスなどを溶解するという選択溶解性に優れており、単
独または他の有機溶剤との混合あるいは共沸組成物の形
で、従来より溶剤、洗浄剤などとして広く用いられてい
る。
一方、ジクロ口テトラフルオ口ブロバン（以下、ＩＣＰ
Ｃ−２３４ともいう）は従来より知られている化合物で
はあるが、溶剤として使用されていなかった。
Ｃ−２３４ともいう）は従来より知られている化合物で
はあるが、溶剤として使用されていなかった。
近年、ＣＰＣ−１１３などの水素がすべて塩素およびフ
ッ素で置換されたクロロフルオ口エタン系化合物（以下
、バー八口エタンという）が地球を取り巻くオゾン層を
破壊するという地球規模での環境汚染が問題となり、そ
うしたバーハロエタンの使用を低減することが急務とな
っている。
ッ素で置換されたクロロフルオ口エタン系化合物（以下
、バー八口エタンという）が地球を取り巻くオゾン層を
破壊するという地球規模での環境汚染が問題となり、そ
うしたバーハロエタンの使用を低減することが急務とな
っている。
そこでＣＰＣ−１１３に代わる物質が種々検討されてい
るが、溶剤として使用するためには使用時の液管理が容
易で、容易に回収、再使用できることが重要であり、さ
らに蒸気洗浄も可能であることが望まれるなど、種々の
要件を満たす必要があり、未だ有効な代替物は見出され
ていない。
るが、溶剤として使用するためには使用時の液管理が容
易で、容易に回収、再使用できることが重要であり、さ
らに蒸気洗浄も可能であることが望まれるなど、種々の
要件を満たす必要があり、未だ有効な代替物は見出され
ていない。
本発明は、ＣＦＣ−１１３のワックス洗浄性、不燃性、
低毒性、化学的安定性などと同等以上の性能を有し、プ
ラスチックやゴム、金属などに影響を与えず、ワックス
などによる汚れだけを洗浄・除去しうる選択溶解性を有
し、かつＣＦＣ−１１３と比較してオゾン層破壊性の小
さい溶剤を提供するためになされたものであり、 ジクロロテトラフルオロプロパンよりなる溶剤に関する
。
低毒性、化学的安定性などと同等以上の性能を有し、プ
ラスチックやゴム、金属などに影響を与えず、ワックス
などによる汚れだけを洗浄・除去しうる選択溶解性を有
し、かつＣＦＣ−１１３と比較してオゾン層破壊性の小
さい溶剤を提供するためになされたものであり、 ジクロロテトラフルオロプロパンよりなる溶剤に関する
。
本発明に用いるＩＩｃＦｃ−２３４は、不燃性で生体へ
の毒性が少なく、化学的に安定であり、プラスチックや
ゴム、金属などに影響を与えることなく油脂などの汚れ
だけを洗浄、除去できる選択溶解性をもち、しかもＣＦ
Ｃ−１１３に比してオゾン層の破壊性が小さい溶剤であ
る。したがって、従来ＣＦＣ−１１３が使用されていた
用途、たとえばバラフィン、動植物油、加工油などの脱
脂洗浄剤として、プリント基板のフラックスの除去、半
導体に用いるシリコンウエハーや水晶、セラミックスな
どのカッティングや研磨などの加工時の仮止め用ワック
ス類の除去、粘着テープの除去、塗料、インクなどの除
去などに用いる洗浄剤として、また塗料、インクなどの
溶剤や希釈剤、セラミック、金属粉の分散媒、水切り乾
燥剤などとして有用である。さらに、熱媒、絶縁剤、圧
媒体などとしても使用しうるものである。
の毒性が少なく、化学的に安定であり、プラスチックや
ゴム、金属などに影響を与えることなく油脂などの汚れ
だけを洗浄、除去できる選択溶解性をもち、しかもＣＦ
Ｃ−１１３に比してオゾン層の破壊性が小さい溶剤であ
る。したがって、従来ＣＦＣ−１１３が使用されていた
用途、たとえばバラフィン、動植物油、加工油などの脱
脂洗浄剤として、プリント基板のフラックスの除去、半
導体に用いるシリコンウエハーや水晶、セラミックスな
どのカッティングや研磨などの加工時の仮止め用ワック
ス類の除去、粘着テープの除去、塗料、インクなどの除
去などに用いる洗浄剤として、また塗料、インクなどの
溶剤や希釈剤、セラミック、金属粉の分散媒、水切り乾
燥剤などとして有用である。さらに、熱媒、絶縁剤、圧
媒体などとしても使用しうるものである。
前記ＩＣＦＣ−２３４には、たとえば１．１−ジクロロ
ー２．２．３．３−テトラフルオロプロパン（ｂｐ ７
７．５℃）、１．１−ジクロロー１．３．３．３−テト
ラフルオ口プロパン（ｂｐ ８７℃） 、１．２−ジク
ロロ ー１．２，３．３−テトラフルオ口プロパン（ｂ
ｐ ７Ｂ”Ｃ） 、１．３−ジクロロー２．２．３．３
−テトラフルオ口プロパン（ｂｐ ８ｇ℃’） （｝Ｉ
ＣＦＣ−２４３ｃｃ） 、１．２−ジクロロー２．３，
３．３−テトラフルオ口プロパン（ｂｐ ８４℃）（Ｉ
ＣＦＣ−２３４ｂｂ） 、２．２−ジクロロー１．１．
３．１−テトラフルオ口プロパン（ｂｐ７４℃） 、２
．２−ジクロロー２．２．３．３−テトラフルオロプロ
パン（ｂｐ ７０℃） ， ２．３−ジクロロー１．２
．３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ７１℃）
、３．３−ジクロロ−１．２，２．３−テトラフルオ口
ブロバン（ｂｐ７３℃） 、１．１−ジクロロー２．３
．３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ７０℃）
、１．２−ジクロロ−１．３．３．３−テトラフルオ口
プロパン（ｂｐ ７０℃） 、１．３−ジクロロー１．
２，３．３−テトラフルオロプロパン（ｂｐ７１℃）、
１．３−ジクロロー１．２， ２．３−テトラフルオロ
ブロバン（ｂｐ ｙｏ℃’） 、２．３−ジクロロー１
，ｌ．３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ７２℃
） 、３．３−ジクロロー１．１．２．３−テトラフル
オ口プロパン（ｂｐＩ４℃） 、１．３−ジクロロー１
．１． ３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ４７
℃） （ＩＣＦＣ−２３４ｆａ）などの異性体がある。
ー２．２．３．３−テトラフルオロプロパン（ｂｐ ７
７．５℃）、１．１−ジクロロー１．３．３．３−テト
ラフルオ口プロパン（ｂｐ ８７℃） 、１．２−ジク
ロロ ー１．２，３．３−テトラフルオ口プロパン（ｂ
ｐ ７Ｂ”Ｃ） 、１．３−ジクロロー２．２．３．３
−テトラフルオ口プロパン（ｂｐ ８ｇ℃’） （｝Ｉ
ＣＦＣ−２４３ｃｃ） 、１．２−ジクロロー２．３，
３．３−テトラフルオ口プロパン（ｂｐ ８４℃）（Ｉ
ＣＦＣ−２３４ｂｂ） 、２．２−ジクロロー１．１．
３．１−テトラフルオ口プロパン（ｂｐ７４℃） 、２
．２−ジクロロー２．２．３．３−テトラフルオロプロ
パン（ｂｐ ７０℃） ， ２．３−ジクロロー１．２
．３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ７１℃）
、３．３−ジクロロ−１．２，２．３−テトラフルオ口
ブロバン（ｂｐ７３℃） 、１．１−ジクロロー２．３
．３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ７０℃）
、１．２−ジクロロ−１．３．３．３−テトラフルオ口
プロパン（ｂｐ ７０℃） 、１．３−ジクロロー１．
２，３．３−テトラフルオロプロパン（ｂｐ７１℃）、
１．３−ジクロロー１．２， ２．３−テトラフルオロ
ブロバン（ｂｐ ｙｏ℃’） 、２．３−ジクロロー１
，ｌ．３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ７２℃
） 、３．３−ジクロロー１．１．２．３−テトラフル
オ口プロパン（ｂｐＩ４℃） 、１．３−ジクロロー１
．１． ３．３−テトラフルオ口ブロバン（ｂｐ ４７
℃） （ＩＣＦＣ−２３４ｆａ）などの異性体がある。
これらは単品として用いてもよく、２種以上の混合物と
して用いてもよいが、塩化炭化水素類、アルコール類、
ケトン類、石油系溶剤などと併用してもよい。なかんず
く、通常使用時の液管理の容易さなどの点から単一成分
ないし共沸組成として用いるのが好ましい。
して用いてもよいが、塩化炭化水素類、アルコール類、
ケトン類、石油系溶剤などと併用してもよい。なかんず
く、通常使用時の液管理の容易さなどの点から単一成分
ないし共沸組成として用いるのが好ましい。
ＨＣＰＣ−２３４は化学的にはＣＦＣ−１１｛と同程度
に安定であるためそのまま使用しうるが、さらに安定剤
を添加して使用してもよい。
に安定であるためそのまま使用しうるが、さらに安定剤
を添加して使用してもよい。
前記のごとき安定剤の具体例としては、たとエハニトロ
メタン、ニトロエタン、ニトロプロバンなどの脂肪族二
トロ化合物、３−メチル−■−ブチンー３−オール、３
−メチル−１−ベンチン−３−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フエニルグリシジルエ
ーテル、１．２−プチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エビクロルヒドリンなどのエボキシド類、ジメ
トキシメタン、ｌ，２−ジメトキシエタン、１．４−ジ
オキサン、１．３．５−｝リオキサンなどのエーテル類
、ヘキセン、ヘブテン、オクテン、２，４．４− ｝リ
メチル−１−ベンテン、ペンタジエン、１オクタジエン
、シクロヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水
素類、アリルアルコール、■−ブテンー３−オール、３
−メチル−１−ブテンー３−オールなどのオレフィン系
アルコール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあ
げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上併用し
てもよい。またこれらとフェノール、トリメチルフェノ
ール、シクロヘキシルフェノール、チモール、２．６−
ジーｔ−ブチルー４−メチルフェノール、プチルヒドロ
キシアニソール、イソオイゲノールなどのフェノール類
や、ヘキシルアミン、ペンチルアミン、ジブロピルアミ
ン、ジイソブ口ピルアミン、ジイソブチルアミン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ビリジン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、シクロヘキシルアミン、２，２，６．８
−テトラメチルビペリジン、Ｎ，Ｎ’−ジアリルーｐ−
フエニレンジアミンなどのアミン類、ペンゾトリアゾー
ル、２−（２”−ヒドロキシ−５゜−メチルフェニル）
ペンゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾールなどの
トリアゾール類などと併用してもよく、併用するとさら
に優れた相乗的安定化効果が発揮されうる。
メタン、ニトロエタン、ニトロプロバンなどの脂肪族二
トロ化合物、３−メチル−■−ブチンー３−オール、３
−メチル−１−ベンチン−３−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フエニルグリシジルエ
ーテル、１．２−プチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エビクロルヒドリンなどのエボキシド類、ジメ
トキシメタン、ｌ，２−ジメトキシエタン、１．４−ジ
オキサン、１．３．５−｝リオキサンなどのエーテル類
、ヘキセン、ヘブテン、オクテン、２，４．４− ｝リ
メチル−１−ベンテン、ペンタジエン、１オクタジエン
、シクロヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水
素類、アリルアルコール、■−ブテンー３−オール、３
−メチル−１−ブテンー３−オールなどのオレフィン系
アルコール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあ
げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上併用し
てもよい。またこれらとフェノール、トリメチルフェノ
ール、シクロヘキシルフェノール、チモール、２．６−
ジーｔ−ブチルー４−メチルフェノール、プチルヒドロ
キシアニソール、イソオイゲノールなどのフェノール類
や、ヘキシルアミン、ペンチルアミン、ジブロピルアミ
ン、ジイソブ口ピルアミン、ジイソブチルアミン、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ビリジン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、シクロヘキシルアミン、２，２，６．８
−テトラメチルビペリジン、Ｎ，Ｎ’−ジアリルーｐ−
フエニレンジアミンなどのアミン類、ペンゾトリアゾー
ル、２−（２”−ヒドロキシ−５゜−メチルフェニル）
ペンゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾールなどの
トリアゾール類などと併用してもよく、併用するとさら
に優れた相乗的安定化効果が発揮されうる。
このような安定剤として好ましいものは、１１ｃＰｃ−
２３４を安定化する効果の大きいものであることはもち
ろんであるが、蒸留操作により同伴留出されるものや、
さらには共沸を形成するものが望ましいが、これらに限
定されるものではない。好ましい安定剤の具体例として
は、たとえばニトロメタン、ニトロメタンと他の安定剤
との併用系があげられる。
２３４を安定化する効果の大きいものであることはもち
ろんであるが、蒸留操作により同伴留出されるものや、
さらには共沸を形成するものが望ましいが、これらに限
定されるものではない。好ましい安定剤の具体例として
は、たとえばニトロメタン、ニトロメタンと他の安定剤
との併用系があげられる。
前記安定剤の使用量としては、安定剤の種類により異な
るため一概にはきめられないが、通常、ＩＣＰＣ−２３
４に対して０．１−１０重量％用いるのが好まし＜、０
．５〜５重量％用いるのがさらに好ましい。
るため一概にはきめられないが、通常、ＩＣＰＣ−２３
４に対して０．１−１０重量％用いるのが好まし＜、０
．５〜５重量％用いるのがさらに好ましい。
前記のごとき本発明の溶剤を、たとえば洗浄剤として使
用したぱあいには、前述のごとく生体毒性が少なく、脱
脂洗浄性などが良好でＣＦＣ−１１３と同程度にプラス
チックやゴム、金属などへの影響が少ないので被洗浄物
を丸洗いすることができる上、化学的に安定で、蒸留回
収に適度な沸点であるため、液管理、回収、再使用が容
昌であり、蒸気洗浄にも適用できる。しかもオゾン層の
破壊というような地球規模での環境汚染をおこしにくい
という顕著な効果が達成される。
用したぱあいには、前述のごとく生体毒性が少なく、脱
脂洗浄性などが良好でＣＦＣ−１１３と同程度にプラス
チックやゴム、金属などへの影響が少ないので被洗浄物
を丸洗いすることができる上、化学的に安定で、蒸留回
収に適度な沸点であるため、液管理、回収、再使用が容
昌であり、蒸気洗浄にも適用できる。しかもオゾン層の
破壊というような地球規模での環境汚染をおこしにくい
という顕著な効果が達成される。
つぎに実施例をあげて本発明の溶剤を説明するが、本発
明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例１および比較例１
スピンドル油の付着したボルトおよびナット（Ｍ５）１
００ｇを第１表に示す溶剤５ ０ ０ ｍｌに浸漬し、
超音波を６０秒間かけたのち別の槽の溶剤５ ０ ０
ｍｌに６０秒間浸漬し、ついで蒸気洗浄を６０秒間行な
うことにより脱脂洗浄試験を行なった。そののちボルト
およびナットに残留している油分量を油分濃度計（■堀
場製作所製）にて測定した。
００ｇを第１表に示す溶剤５ ０ ０ ｍｌに浸漬し、
超音波を６０秒間かけたのち別の槽の溶剤５ ０ ０
ｍｌに６０秒間浸漬し、ついで蒸気洗浄を６０秒間行な
うことにより脱脂洗浄試験を行なった。そののちボルト
およびナットに残留している油分量を油分濃度計（■堀
場製作所製）にて測定した。
結果を第１表に示す。
実施例２および比較例２
１０ＣＩＩＸＩＯＣＩ＋のプリント基板に■タムラ製作
所製のフラックス（Ｆ−２００Ｖ）を塗布し、２５０℃
ではんだ（６３Ｓｎ）付けを行なった。次に、第１表に
示す溶剤（１ｇ）を用いて沸点下で１分間浸漬洗浄する
ことによりフラックス洗浄試験を行なった。そののちイ
オン性残渣を、オメガメーター５００（ケンコー社製）
を用いて測定した。結果を第１表に示す。
所製のフラックス（Ｆ−２００Ｖ）を塗布し、２５０℃
ではんだ（６３Ｓｎ）付けを行なった。次に、第１表に
示す溶剤（１ｇ）を用いて沸点下で１分間浸漬洗浄する
ことによりフラックス洗浄試験を行なった。そののちイ
オン性残渣を、オメガメーター５００（ケンコー社製）
を用いて測定した。結果を第１表に示す。
実施例３および比較例３
高分子材料に対する溶剤の影響を調べるために、第１表
に示す溶剤１００ｇに第１表に示すプラスチック試験片
（５ｍ鳳×５０■ｇｘ２■層）を浸漬し、５０℃の恒温
槽中に４時間放置した。そののち取出し、ただちに重量
変化および体積変化を調べ、下記基準により評価した。
に示す溶剤１００ｇに第１表に示すプラスチック試験片
（５ｍ鳳×５０■ｇｘ２■層）を浸漬し、５０℃の恒温
槽中に４時間放置した。そののち取出し、ただちに重量
変化および体積変化を調べ、下記基準により評価した。
結果を第１表に示す。
（プラスチックへの影響の評価基準）
◎：重量または体積増加θ〜２％未満
Ｏ：重量または体積増加２〜５％未満
Δ：重量または体積増加５％以上
〔以下余白］
なお、他のＩＣＦＣ−２３４の異性体についても第１表
とほぼ同様の結果かえられた。
とほぼ同様の結果かえられた。
本発明の溶剤は、生体毒性が小さ＜ 、ｃｐｃ−１１３
のワックス洗浄性、不燃性、低毒性、化学的安定性など
と同等以上の性能を有し、プラスチックやゴム、金属な
どに影響を与えず、ワックスなどによる汚れだけを洗浄
・除去しうる選択溶解性を有し、かつＣＦＣ−１１３と
比較してオゾン層破壊性の小さい溶剤である。
のワックス洗浄性、不燃性、低毒性、化学的安定性など
と同等以上の性能を有し、プラスチックやゴム、金属な
どに影響を与えず、ワックスなどによる汚れだけを洗浄
・除去しうる選択溶解性を有し、かつＣＦＣ−１１３と
比較してオゾン層破壊性の小さい溶剤である。
また、本発明の溶剤は、希釈剤、除去剤、セラミックや
金属粉の分散媒、水切り乾燥剤としても好適に使用しう
るちのである。
金属粉の分散媒、水切り乾燥剤としても好適に使用しう
るちのである。
Claims (1)
- １ ジクロロテトラフルオロプロパンよりなる溶剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33197689A JPH02289695A (ja) | 1988-12-20 | 1989-12-20 | 溶剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32239588 | 1988-12-20 | ||
| JP63-322395 | 1988-12-20 | ||
| JP33197689A JPH02289695A (ja) | 1988-12-20 | 1989-12-20 | 溶剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02289695A true JPH02289695A (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=26570798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33197689A Pending JPH02289695A (ja) | 1988-12-20 | 1989-12-20 | 溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02289695A (ja) |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP33197689A patent/JPH02289695A/ja active Pending
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