JPH02292255A - 光学活性β―ラクタム化合物の製造法 - Google Patents
光学活性β―ラクタム化合物の製造法Info
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- JPH02292255A JPH02292255A JP1115677A JP11567789A JPH02292255A JP H02292255 A JPH02292255 A JP H02292255A JP 1115677 A JP1115677 A JP 1115677A JP 11567789 A JP11567789 A JP 11567789A JP H02292255 A JPH02292255 A JP H02292255A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は3一位にアルキル基を有し、4一位にアセトキ
シ基を有する光学活性β−ラクタム化合物の製造法に関
するものである。
シ基を有する光学活性β−ラクタム化合物の製造法に関
するものである。
本発明によって製造される光学活性β−ラクタム化合物
は4一位に反応性に富むアセトキシ基を有し、種々な誘
導体に変換できる有用な中間体である。本発明の例えば
3一位にエチル基又はイソプロビル基を有している光学
活性体は4一位のアセトキシ基に置換反応を行うことに
よってカルパベネム抗生物質へ誘導することができる。
は4一位に反応性に富むアセトキシ基を有し、種々な誘
導体に変換できる有用な中間体である。本発明の例えば
3一位にエチル基又はイソプロビル基を有している光学
活性体は4一位のアセトキシ基に置換反応を行うことに
よってカルパベネム抗生物質へ誘導することができる。
β−ラクタムの抗生物質のうち、長い間抗生物質の主要
な地位を占めていたペニシリン、セファロスポリン類に
対してチェナマイシンに代表されるカルバベネム系抗生
物質は幅広い抗菌スペクトル、強い抗菌力、そしてβ−
2クタマーゼに対する強い抵抗性を有するという非常に
優れたβ−ラクタム抗生物質である。
な地位を占めていたペニシリン、セファロスポリン類に
対してチェナマイシンに代表されるカルバベネム系抗生
物質は幅広い抗菌スペクトル、強い抗菌力、そしてβ−
2クタマーゼに対する強い抵抗性を有するという非常に
優れたβ−ラクタム抗生物質である。
しかしながらペニシリン、セファロスポリン傾は発酵法
で大量かつ安随に医薬原料として供給され、これらから
6−アミノベリシラン酸(6一ルバベネム抗生物質は微
生物による生産性が低いため、全合成によって製造する
方法が主流になっている。
で大量かつ安随に医薬原料として供給され、これらから
6−アミノベリシラン酸(6一ルバベネム抗生物質は微
生物による生産性が低いため、全合成によって製造する
方法が主流になっている。
光学活性なカルパベネム抗生物質の合成法は数多く報告
されている。その合成法のうち代表的なものは6−アミ
ノベニシラン酸(a−APA)の光学活性な骨格を利用
する方法、C SXarady, J.S.Amano
tR. A. Reamer, L.M.Weinst
ock, J.A. C.A. 103. 6756(
1980) )光学活性なアミノ酸、天然の糖類等を
原料として使用する方法である。(T.S.Salzm
ann+ FLW:RatcliffelB.G.Ch
ri s tenjlen+ F.A.Bouffaa
rd, J.A.C.S. 102. 61 61(
1980) )〔発明が解決しようとする課題〕 本発明のジアステレオマー及びラセミ体のβ一ラクタム
化合物をキラルカラムを用いて光学活性な化合物に変換
する製造法は未だ何等の報告も記載もない。
されている。その合成法のうち代表的なものは6−アミ
ノベニシラン酸(a−APA)の光学活性な骨格を利用
する方法、C SXarady, J.S.Amano
tR. A. Reamer, L.M.Weinst
ock, J.A. C.A. 103. 6756(
1980) )光学活性なアミノ酸、天然の糖類等を
原料として使用する方法である。(T.S.Salzm
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rd, J.A.C.S. 102. 61 61(
1980) )〔発明が解決しようとする課題〕 本発明のジアステレオマー及びラセミ体のβ一ラクタム
化合物をキラルカラムを用いて光学活性な化合物に変換
する製造法は未だ何等の報告も記載もない。
発明者等は既知の方法によってエノールアセテ− }類
トクロ・ロスルホニルイソシアナートの反応によって合
成された3一位にアルキル基、4一位にアセトキシ基を
有するβ−ラクタム化合物を合成し、更にカルバベネム
抗生物質の有用な前駆体となる純粋な1種類の光学異性
体の製造法について鋭意研究した結果見出した後記特定
のセルロース誘導体中)又は特定のアミロース誘導体(
自)を使用することによってβ−ラクタム化合物を光学
分割することによって、光学活性β−ラクタム化合物の
製造法を提供することを目的とするものである。
トクロ・ロスルホニルイソシアナートの反応によって合
成された3一位にアルキル基、4一位にアセトキシ基を
有するβ−ラクタム化合物を合成し、更にカルバベネム
抗生物質の有用な前駆体となる純粋な1種類の光学異性
体の製造法について鋭意研究した結果見出した後記特定
のセルロース誘導体中)又は特定のアミロース誘導体(
自)を使用することによってβ−ラクタム化合物を光学
分割することによって、光学活性β−ラクタム化合物の
製造法を提供することを目的とするものである。
本発明の第1は下記一般式(I)で表わされるβ一ラク
タム化合物のそれぞれの光学活性異性体混合物を下記一
般式(mで表わされるセルローストリス置換フェニルカ
ルバメート又は下記一般式(III)で表わされるアミ
ローストリス置換フェニルカルバメートを使用して光学
分割を行ない採取する光学活性β−ラクタム化合物の製
造方法である。
タム化合物のそれぞれの光学活性異性体混合物を下記一
般式(mで表わされるセルローストリス置換フェニルカ
ルバメート又は下記一般式(III)で表わされるアミ
ローストリス置換フェニルカルバメートを使用して光学
分割を行ない採取する光学活性β−ラクタム化合物の製
造方法である。
ここにβ−ラクタム化合物としては一般式である。
ここにR,, R.は水素原子又はC数1〜10個のア
ルキル基を示す。但しC R, H , R2 (CH
!)z CH,)又はC RI C迅− & C Hg
C Hs )又はC RI CH3,R!( CHz
)z CH3)の場合を除く、 一般式(I)で示す代表的なβ−ラクタム化合物の具体
的なRt,Rtは下記第一表に示す通りである。
ルキル基を示す。但しC R, H , R2 (CH
!)z CH,)又はC RI C迅− & C Hg
C Hs )又はC RI CH3,R!( CHz
)z CH3)の場合を除く、 一般式(I)で示す代表的なβ−ラクタム化合物の具体
的なRt,Rtは下記第一表に示す通りである。
第一表
−ff式CD)又は(1)で示すセルロース} IJス
置換フェニルカルバメート、又はアミローストリス置換
フェニルカルバメートは下記の構造式を有するものであ
る。
置換フェニルカルバメート、又はアミローストリス置換
フェニルカルバメートは下記の構造式を有するものであ
る。
(XはC数1〜4個の低級 (XはC数1〜2個
のアルキル基又はF,Br等 低級アルキル基
を表のハロゲンを表わす) わす)甫
(至)その第2は一般式(It
)で表わされるセルロス} IJス置換フエニルカルバ
メートがセルローストリス(4−t−7’チルフェニル
カルバメート)、セルローストリス(3,S−ジメチル
フェニルカルバメート)、セルローストリス(フエニル
カルバメート)、セルローストリス(4−フルオロフェ
ニルカルバメート)、セルローストリス(4−プロモフ
ェニルカルバメート)、セルローストリス(4−}リフ
ルオロメチルフェニルカルバメート)の何れかであυ、
また一般式(転)で表わされるアミローストリス匝換フ
エニルカルバメートがアルローストリス(3.5−ジメ
チルフェニルカルバメート)である第1発男記載の光学
活性β−ラクタム化合物の製造法である。
のアルキル基又はF,Br等 低級アルキル基
を表のハロゲンを表わす) わす)甫
(至)その第2は一般式(It
)で表わされるセルロス} IJス置換フエニルカルバ
メートがセルローストリス(4−t−7’チルフェニル
カルバメート)、セルローストリス(3,S−ジメチル
フェニルカルバメート)、セルローストリス(フエニル
カルバメート)、セルローストリス(4−フルオロフェ
ニルカルバメート)、セルローストリス(4−プロモフ
ェニルカルバメート)、セルローストリス(4−}リフ
ルオロメチルフェニルカルバメート)の何れかであυ、
また一般式(転)で表わされるアミローストリス匝換フ
エニルカルバメートがアルローストリス(3.5−ジメ
チルフェニルカルバメート)である第1発男記載の光学
活性β−ラクタム化合物の製造法である。
本発明に使用されるセルローストリス置換フェニルカル
バメート又はアミローストリス瞠換フエニルカルバメー
トは置換イソシアナートをセルロース又はアミロースと
反応させることによって合成される。
バメート又はアミローストリス瞠換フエニルカルバメー
トは置換イソシアナートをセルロース又はアミロースと
反応させることによって合成される。
本発明の製造法を更に説明すると一般式(II)で表ワ
サレるセルローストリス置換フェニルカルバメート又は
一般式(ホ)で表わされるアミローストリス置換フェニ
ルカルバメートを多孔質球状シリカゲルに担持せしめ、
これをカラムK充填して高速液体クロマトグラフィー用
のキラル々固定相として使用する。
サレるセルローストリス置換フェニルカルバメート又は
一般式(ホ)で表わされるアミローストリス置換フェニ
ルカルバメートを多孔質球状シリカゲルに担持せしめ、
これをカラムK充填して高速液体クロマトグラフィー用
のキラル々固定相として使用する。
このように調製されたキラルな固定相を高速液体クロマ
トグラ7イー用カラムとして、種々な極性の異なる溶媒
を用いて極性を調整した溶媒系を使用すると本発明の原
料のβ−ラクタム化合物を光学活性な異性体に分割一製
造することができる。
トグラ7イー用カラムとして、種々な極性の異なる溶媒
を用いて極性を調整した溶媒系を使用すると本発明の原
料のβ−ラクタム化合物を光学活性な異性体に分割一製
造することができる。
クロマトグラム用機器としてはクロマトグラフ(JAS
CO−TRIROTAR It )、IJV検出H(.
JASCO−UV − 100−1[ )、Mi光Fr
( J AS Co T) I P−18IC,光
源珈〔フィルターなし〕)を使用した。光学分割したク
ロマトグラムの評価方法の一例として第1図に分割結果
を示した。
CO−TRIROTAR It )、IJV検出H(.
JASCO−UV − 100−1[ )、Mi光Fr
( J AS Co T) I P−18IC,光
源珈〔フィルターなし〕)を使用した。光学分割したク
ロマトグラムの評価方法の一例として第1図に分割結果
を示した。
分割した化合物( Ib)はジアステレオマーであり、
ト2ンスの(→体と(ヘ)体、シスの(+)体と←)体
の4成分の混合物であり、クロマトグラムのピークは4
本となる。なおトランスとシスの識別は’HNMRで行
った。
ト2ンスの(→体と(ヘ)体、シスの(+)体と←)体
の4成分の混合物であり、クロマトグラムのピークは4
本となる。なおトランスとシスの識別は’HNMRで行
った。
固定相と溶質との相互作用の強さを表わす溶量比kl.
とk−は一股式(lv)で評価され、固定相の不斉識別
能を表わす分離係数αは一般式(V)で評価される。又
ビークの分れる程度を示す分離度R,は一般式(Vt)
で評価される。
とk−は一股式(lv)で評価され、固定相の不斉識別
能を表わす分離係数αは一般式(V)で評価される。又
ビークの分れる程度を示す分離度R,は一般式(Vt)
で評価される。
tlt j2 :鏡像体の保持時聞
Vi) * w2 :ビーク幅
t0:固定相に吸着せずに素通シしてくる化合物の保持
時間(非極性な溶離液では1,3.5−}リーt−プチ
ルベンゼンの保持時間がt0に近い。) 全く分離されない場合にはαは1であり、lより大きけ
れば大きいほどよい。通常αが1,2以上であれば完全
分割の可能性が高い。Rs=1ではピークのすそ札が僅
かに重なっておp 、t.zs以上ならばほぼ完全分割
が行なわれている。
時間(非極性な溶離液では1,3.5−}リーt−プチ
ルベンゼンの保持時間がt0に近い。) 全く分離されない場合にはαは1であり、lより大きけ
れば大きいほどよい。通常αが1,2以上であれば完全
分割の可能性が高い。Rs=1ではピークのすそ札が僅
かに重なっておp 、t.zs以上ならばほぼ完全分割
が行なわれている。
光学分割の対象となるβ−ラクタム化合物はO
子、C,〜C,の低級アルキル基)
で表わされるエノールアセテート類をクロロスルホニル
イソシアナートと反応させ、ついで還元することによっ
て製造されるその一般式は(式中R,,R.は上記と同
一) 上記を反応式で示すと下記の通りである。
イソシアナートと反応させ、ついで還元することによっ
て製造されるその一般式は(式中R,,R.は上記と同
一) 上記を反応式で示すと下記の通りである。
ここにR,,R2は上記と同一、代表的には第一表の通
υである。又還元剤としては従来から使用されている亜
硫酸ナ} IJウム等が使用される。
υである。又還元剤としては従来から使用されている亜
硫酸ナ} IJウム等が使用される。
前記一般弐田)で示すセルローストリス置換フエニルカ
ルバメート又は一般式(ト)で示すアミローストリス置
換クエニルカルパメートを使用して前記β−ラクタム化
合物の光学異性体を光学分割する方法はなんら制約され
ることなく如何なる方法を使用しても差支えない。
ルバメート又は一般式(ト)で示すアミローストリス置
換クエニルカルパメートを使用して前記β−ラクタム化
合物の光学異性体を光学分割する方法はなんら制約され
ることなく如何なる方法を使用しても差支えない。
本発明の前記一般式文(ロ)で衣わされるセルロースト
リス置換フエニルカルバメート及び一般式@)で表わさ
れるアミローストリス置換フエニルカルバメートのキラ
ムカラムの作製法は次の通りである。
リス置換フエニルカルバメート及び一般式@)で表わさ
れるアミローストリス置換フエニルカルバメートのキラ
ムカラムの作製法は次の通りである。
{(イ) ピリジン3 5 mlにセルロース0.70
3.5−ジメチルフエニルイソシアナー} 2.
semI!を加え、約100℃で21時間反応させた。
3.5−ジメチルフエニルイソシアナー} 2.
semI!を加え、約100℃で21時間反応させた。
反応溶液をメタノールに注ぎ入れて生成物を析出させ、
グラスフィルターで濾取し、60℃で真空乾燥し、白色
結晶のセルローストリス(3.5−ジメチル7エニルカ
ルバメート) f: 2.09 1−得*。
グラスフィルターで濾取し、60℃で真空乾燥し、白色
結晶のセルローストリス(3.5−ジメチル7エニルカ
ルバメート) f: 2.09 1−得*。
そして3−アミノプロビルトリエトキシシランで表面処
理した多孔質球状シリカゲル(粒子径7/irrL,孔
径4000A)3.0iにセルローストリス(3.5一
ジメチルフェニルカルバメート)を25重世%担持せし
め、スラリー充填法により長さ25σ、内径0.46C
II1のクロマト管に充填し、キラムカラムを調製した
。
理した多孔質球状シリカゲル(粒子径7/irrL,孔
径4000A)3.0iにセルローストリス(3.5一
ジメチルフェニルカルバメート)を25重世%担持せし
め、スラリー充填法により長さ25σ、内径0.46C
II1のクロマト管に充填し、キラムカラムを調製した
。
同様にして一般式(II)で表わされるセルローストリ
ス(4−t−プチルフエニルカルバメート)、セルロー
ストリス(フエニルカルバメート)、セルロースト リ
ス(4−フルオロフェニルカルバメート)、セルロース
トリス(4−プロモフエニルカルパメ−}),セルロー
ストリス(4−}リフルオロメチルフエニルカルバメー
ト)を合成した。
ス(4−t−プチルフエニルカルバメート)、セルロー
ストリス(フエニルカルバメート)、セルロースト リ
ス(4−フルオロフェニルカルバメート)、セルロース
トリス(4−プロモフエニルカルパメ−}),セルロー
ストリス(4−}リフルオロメチルフエニルカルバメー
ト)を合成した。
モして3−アミノプロビルトリエトキシシランで表面処
理した多孔質球状シリカゲル(粒子径77m又はIQ)
t1n,孔径4000A)に上記−1!ル0−7.トリ
ス置換フェニルカルバメートを25重量%担持せしめス
ラリー充填法によシ長さ25a,内径0.46txtの
クロマト管に充填し、キラルカラムをU8製した。
理した多孔質球状シリカゲル(粒子径77m又はIQ)
t1n,孔径4000A)に上記−1!ル0−7.トリ
ス置換フェニルカルバメートを25重量%担持せしめス
ラリー充填法によシ長さ25a,内径0.46txtの
クロマト管に充填し、キラルカラムをU8製した。
←) ビリジン35m/にアミロース0.72ノ、3.
5−ジメチルフエニルインシアナート2.86魔を加え
約100℃で24時1ml反応させた。反応溶液をメタ
ノールに注ぎ入れて生成物を析出させ、グラスフィルタ
ーで濾取し、60℃で真空乾燥し、白色結晶のアミロー
ストリス(3.5−ジメチルフエニルカルバメート)
1.70,}が得られた。
5−ジメチルフエニルインシアナート2.86魔を加え
約100℃で24時1ml反応させた。反応溶液をメタ
ノールに注ぎ入れて生成物を析出させ、グラスフィルタ
ーで濾取し、60℃で真空乾燥し、白色結晶のアミロー
ストリス(3.5−ジメチルフエニルカルバメート)
1.70,}が得られた。
かつ3−アミノブ口ピルトリエトキシシランで表面処理
した多孔質球状シリカゲル(粒子径77m1孔径400
0人)a.o/にセルローストリス(3.5−ジメチル
フェニルカルバメート)を25重量%担持せしめ、スラ
リー充填法によシ長さ25口、内径0.464のクロマ
ト管に充填しキラルカラムを調製した。
した多孔質球状シリカゲル(粒子径77m1孔径400
0人)a.o/にセルローストリス(3.5−ジメチル
フェニルカルバメート)を25重量%担持せしめ、スラ
リー充填法によシ長さ25口、内径0.464のクロマ
ト管に充填しキラルカラムを調製した。
実施例1
ヘキサン−2−デロバノール( 90 : 10)t−
1離液として前記第一表化合物Iaの溶液(濃度5〜
10重量%)を5plから2filを検出器UV(23
0nm)、25℃、流速o.sml/min又は1.0
m/Ainで一般式(Wで表わされるセルローストリス
[!7エニルカルバメートのキジルカラムを通した。得
られたクロマトグラムよシ溶量比(k′1)、分離係数
(α)、分離度(R3)の各値を求めた。その結果を第
二表に示した。
1離液として前記第一表化合物Iaの溶液(濃度5〜
10重量%)を5plから2filを検出器UV(23
0nm)、25℃、流速o.sml/min又は1.0
m/Ainで一般式(Wで表わされるセルローストリス
[!7エニルカルバメートのキジルカラムを通した。得
られたクロマトグラムよシ溶量比(k′1)、分離係数
(α)、分離度(R3)の各値を求めた。その結果を第
二表に示した。
化合物Iaのトランス体はセルローストリス(フェニル
カルバメート)、セルローストリス(4一(4−フルオ
ロフエニルカルバメート)、セルローストリス(4−プ
ロモフエニルカルバメート)、セルロース(4−}リフ
ルオロメチルフェニルカルパメート)れた。
カルバメート)、セルローストリス(4一(4−フルオ
ロフエニルカルバメート)、セルローストリス(4−プ
ロモフエニルカルバメート)、セルロース(4−}リフ
ルオロメチルフェニルカルパメート)れた。
実施例2〜4
化合物Ib, Idl Igを実施例1と同様に数種の
一般式(■で表わされるセルローストリス置換フエニル
カルバメートのカラムを使用して光学分割し、得られた
クロマトグラムよシ溶量比<Q.)、分離係数(α)、
分離度(Rs)の各値を求めた。その結果を同様に第二
表に示す。
一般式(■で表わされるセルローストリス置換フエニル
カルバメートのカラムを使用して光学分割し、得られた
クロマトグラムよシ溶量比<Q.)、分離係数(α)、
分離度(Rs)の各値を求めた。その結果を同様に第二
表に示す。
化合物Ibのトランス体はセルローストリス(3.5−
ジメチルフェニルカルバメート)以外の一般式■)で表
わされるセルローストリス置換7工二ルカルパメートの
カラムの使用により(+)体と(ハ)体の光学活性異性
体に完全分割された。化合物Idのトランス体は一般弐
Φ)で聚わされるセルローストリス置換7エニルカルバ
メートのカラムの使用により←)体と(ハ)体の光学活
性異性体に完全分割された。
ジメチルフェニルカルバメート)以外の一般式■)で表
わされるセルローストリス置換7工二ルカルパメートの
カラムの使用により(+)体と(ハ)体の光学活性異性
体に完全分割された。化合物Idのトランス体は一般弐
Φ)で聚わされるセルローストリス置換7エニルカルバ
メートのカラムの使用により←)体と(ハ)体の光学活
性異性体に完全分割された。
化合物工gはセルローストリス(4−フルオロフェニル
カルバメート)、セルローストリス(4−プロモフエニ
ルカルバメート)、セルロース(4−}’Jフルオロメ
チルフェニルカルバメート)のカラムの使用によシ完全
分割された。
カルバメート)、セルローストリス(4−プロモフエニ
ルカルバメート)、セルロース(4−}’Jフルオロメ
チルフェニルカルバメート)のカラムの使用によシ完全
分割された。
実施例5
ヘキサン−2−プロバノール(90 : 10)ヲfg
m液として化合物Ia+ Ib+ I+L Igの溶液
(濃度5〜10重社96)を5)1lから’IJ)11
を検出器(UV 23oytm)、25℃、流速o.s
yB/minでアミローストリス(3.5一ジメチルフ
エニルカルバメート)のキラムカラムを通した。得られ
たクロマトグラムよシ溶量比Qc’+)、分離係数(α
)、分離度(R3)の各値を求めた。その結果を第3表
に示した。
m液として化合物Ia+ Ib+ I+L Igの溶液
(濃度5〜10重社96)を5)1lから’IJ)11
を検出器(UV 23oytm)、25℃、流速o.s
yB/minでアミローストリス(3.5一ジメチルフ
エニルカルバメート)のキラムカラムを通した。得られ
たクロマトグラムよシ溶量比Qc’+)、分離係数(α
)、分離度(R3)の各値を求めた。その結果を第3表
に示した。
一般式(r1)で表わされるセルローストリス置換フエ
ニルカルバメートのカラムでは分割されなかった化合物
Ib, Idのシス体がアミロースト リス( a.S
−ジメチルフエニルカルバメート)の力ラムの使用によ
シ(→体と←)体の光学活性異性体に完全分割された。
ニルカルバメートのカラムでは分割されなかった化合物
Ib, Idのシス体がアミロースト リス( a.S
−ジメチルフエニルカルバメート)の力ラムの使用によ
シ(→体と←)体の光学活性異性体に完全分割された。
第二表 セルローストリス置換フェニルカルバメート誘
導体Kよるβ−ラクタム化合物( Ia,Ib+ Id
,Ig)の光学分割i : 溶離液 ヘキサン−2−グ
ロバノール(90:10)流速a) 0.5m//mi
n b) I.Oml’/min第三表 アミローストリス(3.S−ジメチルフェニルカルバメ
ート)によるβ−ラクタム化合物(Ia,Ib.Id.
Ig)の光学分割〔発明の効果〕 本発明はグ2ム陽性菌、グラム陰性菌に対して幅広い抗
菌スペクトルを有するβ−ラクタム抗生物質の光学活性
な前駆体として使用される種々な光学活性β−ラクタム
化合物及び3一位K!l換基を有する光学活性β−ラク
タム化合物をジアステレオマーもしくはラセミ体のβ−
ラクタム化合物よりセルローストリス置換7工二ルカル
パメート又はアミローストリス置換フェニルカルバメー
トを使用してそれぞれβ−ラクタム化合物の←》体と←
)体との光学活性異性体K光学分割して製造することに
成功したもので従来にない画期的な発明である。
導体Kよるβ−ラクタム化合物( Ia,Ib+ Id
,Ig)の光学分割i : 溶離液 ヘキサン−2−グ
ロバノール(90:10)流速a) 0.5m//mi
n b) I.Oml’/min第三表 アミローストリス(3.S−ジメチルフェニルカルバメ
ート)によるβ−ラクタム化合物(Ia,Ib.Id.
Ig)の光学分割〔発明の効果〕 本発明はグ2ム陽性菌、グラム陰性菌に対して幅広い抗
菌スペクトルを有するβ−ラクタム抗生物質の光学活性
な前駆体として使用される種々な光学活性β−ラクタム
化合物及び3一位K!l換基を有する光学活性β−ラク
タム化合物をジアステレオマーもしくはラセミ体のβ−
ラクタム化合物よりセルローストリス置換7工二ルカル
パメート又はアミローストリス置換フェニルカルバメー
トを使用してそれぞれβ−ラクタム化合物の←》体と←
)体との光学活性異性体K光学分割して製造することに
成功したもので従来にない画期的な発明である。
第1図は本発明のアミローストリス(3.5−ジメチル
7エニルカルバメート)による4−アセトキシー3一エ
チル−2−アゼチジノン(Ib)の光学分割を示すクロ
マトグ2ムである。 Ll,F }ランスのピーク CI,Ct シスのピーク 特許出願人 東洋化成工業株式会社 手 統 補 正 書(自発) 平成1年7月7日 薦 図 トランス 1. 2. 3. 事件の表示 平成1年 特許顛 第1−115677号発男の名称 光学活性β−ラクタム化合物の製造法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 保持時閏 (mi n 1 5. 補正の対象 6.補正の内容 (1)4頁13行目 「をともに化学」を「をもとに化学」に訂正(2)5頁
1行目 「J.A.C.A. 103. 6756 (1980
) Jをr J.A.C.S. 103.6765(
1981) Jに訂正5頁3行目 r(T.S. )JをrcT.N. )Jに
訂正i41 to頁6行目 「R5」をrRsjに訂正 (51 12頁下から6行目 [セルロース0.70 Jを[セルロースoy7ogJ
に訂正 [6) 15頁l行目 「2メl」を[zoplJkC訂正 t7)lg頁第2表中 第2行目、第2欄、第3欄、第4欄、第5欄、第6欄、
第7欄、すべての rKrJを「k′l」に訂正 (8)第2表中 (1)5行(Id)の3欄の2行目、αの項「t.so
Jを[1.09 Jに訂正(■)3行(Ia)の6m
l行目、αノ項「1.01」を「1.61」に訂正 +91 19頁第3表中タテの1行目「K1」をrk
’+’に訂正
7エニルカルバメート)による4−アセトキシー3一エ
チル−2−アゼチジノン(Ib)の光学分割を示すクロ
マトグ2ムである。 Ll,F }ランスのピーク CI,Ct シスのピーク 特許出願人 東洋化成工業株式会社 手 統 補 正 書(自発) 平成1年7月7日 薦 図 トランス 1. 2. 3. 事件の表示 平成1年 特許顛 第1−115677号発男の名称 光学活性β−ラクタム化合物の製造法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 保持時閏 (mi n 1 5. 補正の対象 6.補正の内容 (1)4頁13行目 「をともに化学」を「をもとに化学」に訂正(2)5頁
1行目 「J.A.C.A. 103. 6756 (1980
) Jをr J.A.C.S. 103.6765(
1981) Jに訂正5頁3行目 r(T.S. )JをrcT.N. )Jに
訂正i41 to頁6行目 「R5」をrRsjに訂正 (51 12頁下から6行目 [セルロース0.70 Jを[セルロースoy7ogJ
に訂正 [6) 15頁l行目 「2メl」を[zoplJkC訂正 t7)lg頁第2表中 第2行目、第2欄、第3欄、第4欄、第5欄、第6欄、
第7欄、すべての rKrJを「k′l」に訂正 (8)第2表中 (1)5行(Id)の3欄の2行目、αの項「t.so
Jを[1.09 Jに訂正(■)3行(Ia)の6m
l行目、αノ項「1.01」を「1.61」に訂正 +91 19頁第3表中タテの1行目「K1」をrk
’+’に訂正
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I )で表わされるβ−ラクタム化合物の
それぞれの光学活性異性体混合物を下記一般式(II)で
表わされるセルローストリス置換フェニルカルバメート
又は下記一般式(III)で表わされる構造単位を有する
アミローストリス置換フェニルカルバメートを使用して
光学分割を行ない採取することを特徴とする光学活性β
−ラクタム化合物の製造方法。 ここにβ−ラクタム化合物としては一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )で表わされ
る。 ここにR_1、R_2は水素原子又はC数1〜10個の
アルキル基を示す。但し、〔R_1H,R_2(CH_
2)_2CH_3〕又は〔R_1CH_3,R_2CH
_2CH_3〕又は〔R_1CH_3,R_2(CH_
2)_2CH_3〕の場合を除く。 一般式(II)で示すセルローストリス置換フエニルカル
バメート又は一般式(III)で示すアミローストリス置
換フエニルカルバメートは下記の構造式を有するもので
ある。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ここにXはC数1〜4個の 低級アルキル基、又はF、 Br等のハロゲンを表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (ここにxはC数1〜2個 の低級アルキル基を表わ す。) 2、請求項1記載の一般式(II)で表わされるセルロー
ストリス置換フエニルカルバメートがセルローストリス
(4−t−ブチルフェニルカルバメート)、セルロース
トリス(3,5−ジメチルフェニルカルバメート)、セ
ルローストリス(フエニルカルバメート)、セルロース
トリス(4−フルオロフェニルカルバメート)、セルロ
ーストリス(4−ブロモフェニルカルバメート)、セル
ローストリス(4−トリフルオロメチルフェニルカルバ
メート)の何れかであり、また一般式(III)で表わさ
れるアミローストリス置換フェニルカルバメートがアミ
ローストリス(3,5−ジメチルフェニルカルバメート
)である請求項1記載の光学活性β−ラクタム化合物の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1115677A JPH02292255A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 光学活性β―ラクタム化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1115677A JPH02292255A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 光学活性β―ラクタム化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02292255A true JPH02292255A (ja) | 1990-12-03 |
Family
ID=14668553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1115677A Pending JPH02292255A (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 光学活性β―ラクタム化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02292255A (ja) |
-
1989
- 1989-05-08 JP JP1115677A patent/JPH02292255A/ja active Pending
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