JPH0225475A - ヒドロキシラクトンｆｋ―５０６中間体の製造方法 - Google Patents
ヒドロキシラクトンｆｋ―５０６中間体の製造方法Info
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- JPH0225475A JPH0225475A JP1127978A JP12797889A JPH0225475A JP H0225475 A JPH0225475 A JP H0225475A JP 1127978 A JP1127978 A JP 1127978A JP 12797889 A JP12797889 A JP 12797889A JP H0225475 A JPH0225475 A JP H0225475A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、紫外線照射吸収剤を製造するための前駆体と
して及び、免疫調節剤ＦＫ −５０６及びその類似体の
Ｃ，、、−Ｃ，、、断片の合成中間体として有用な光学
的に純粋な形での、ヒドロキシラクトン３ １Ｒ，２Ｒ
，５Ｒ−２−ヒドロキシ−６オキソー７−オキザビシク
ロ［３，２，１］−オクタンの製造方法に関する。
して及び、免疫調節剤ＦＫ −５０６及びその類似体の
Ｃ，、、−Ｃ，、、断片の合成中間体として有用な光学
的に純粋な形での、ヒドロキシラクトン３ １Ｒ，２Ｒ
，５Ｒ−２−ヒドロキシ−６オキソー７−オキザビシク
ロ［３，２，１］−オクタンの製造方法に関する。
タナカ、クログ及び協力者により、ごく最近単離され、
その特性が示された新規２３員環トリジクローマクロラ
イドＦＫ−５０６が例外的な免疫抑制活性を有する事が
明らかにされた（ ＪＡＣ３，１０９，５０３１，１９
８７及び、ＩＥ Ｐ Ｏ出願０．１８４，１６２参照）
。その特異な構造形態と結びつけた、骨髄移植、臓器移
植におけるこのような薬物の、可能性ある有用性により
、ＦＫ５０６の全合成を行う努力を始めるため、この分
野で多くのものが喚起されたその正確な絶対配置、すな
わち・ ての、Ｃ２ｏ” Ｃ３４のサブユニットΔの高度ジアス
テレオ選択的な合成はすでにニス、ミリス、アール デ
スモンド、アール、ニー、リーマ−、アール、ビー、ボ
ランテ及びアイ ジンカイ（Ｓ、 ＭｉｌＩｓ、 Ｒ，
ｌ）ｅｓｍｏｎｄ、 ｔＬ Ａ、 Ｒｅａｍｅｒ、 Ｒ
，Ｐ、 Ｖｏｌａｎｔ、ｅａｎｄ １．５ｈｉｎｋａｉ
）テトラヘドロンレターズ（泄ａｂｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ ） 、 １９８８、且、２８１に報告され、
成功している。
その特性が示された新規２３員環トリジクローマクロラ
イドＦＫ−５０６が例外的な免疫抑制活性を有する事が
明らかにされた（ ＪＡＣ３，１０９，５０３１，１９
８７及び、ＩＥ Ｐ Ｏ出願０．１８４，１６２参照）
。その特異な構造形態と結びつけた、骨髄移植、臓器移
植におけるこのような薬物の、可能性ある有用性により
、ＦＫ５０６の全合成を行う努力を始めるため、この分
野で多くのものが喚起されたその正確な絶対配置、すな
わち・ ての、Ｃ２ｏ” Ｃ３４のサブユニットΔの高度ジアス
テレオ選択的な合成はすでにニス、ミリス、アール デ
スモンド、アール、ニー、リーマ−、アール、ビー、ボ
ランテ及びアイ ジンカイ（Ｓ、 ＭｉｌＩｓ、 Ｒ，
ｌ）ｅｓｍｏｎｄ、 ｔＬ Ａ、 Ｒｅａｍｅｒ、 Ｒ
，Ｐ、 Ｖｏｌａｎｔ、ｅａｎｄ １．５ｈｉｎｋａｉ
）テトラヘドロンレターズ（泄ａｂｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ ） 、 １９８８、且、２８１に報告され、
成功している。
この研究の課程で、構造式：
％式％
ソー７−オギザビシクロ［３，２，１］−オクタンの光
学的に純粋な形が必要であった。
学的に純粋な形が必要であった。
ラセミ形は既に知られていたが（タナ力、エッチ、等、
ジェー アム、ケム、ツク、 （Ｔａｎａｋａ。
ジェー アム、ケム、ツク、 （Ｔａｎａｋａ。
Ｉｔ、 ｅｔ ａｌ、 Ｊ、 Ａｍ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓ
ｏｃ、１． ｌ ９８７．１０９．５０３１及びブレ
ウニ、アール ヘインケ、ニー１、ツマ−、シー ダム
。ベル、 （Ｇｒｅｗｅ、 ｎ、。
ｏｃ、１． ｌ ９８７．１０９．５０３１及びブレ
ウニ、アール ヘインケ、ニー１、ツマ−、シー ダム
。ベル、 （Ｇｒｅｗｅ、 ｎ、。
Ｈｅ１ｎｋｅ、 Ａ、、 Ｓｏｍｍｅｒ、 Ｃ，Ｃｈｅ
ｍ、 Ｂｅｒ、ｌ、１９５６、且、１９７８−１９８８
参照）、光学的に純粋な３の合成法については記載がな
い。
ｍ、 Ｂｅｒ、ｌ、１９５６、且、１９７８−１９８８
参照）、光学的に純粋な３の合成法については記載がな
い。
必要とされるのは、ヒドロキシラクトン３、ｌＲ１２Ｒ
５５Ｒ−２−ヒドロキシ−６−オキソ７−オキサビシク
ロ［３，２，１］−オクタンを望ましい光学的純粋な形
で合成するための、容易に入手できる出発物質を利用し
た全合成である。
５５Ｒ−２−ヒドロキシ−６−オキソ７−オキサビシク
ロ［３，２，１］−オクタンを望ましい光学的純粋な形
で合成するための、容易に入手できる出発物質を利用し
た全合成である。
本発明では、キニン酸ラクトン１を３当量のチオカルボ
ニルジイミダゾール（ＴＣＤＩ）と還流乾燥１．２−ジ
クロロエタン中窒素雰囲気下処理して好収率でジチオカ
ルボニル化合物２が得られる事が判明した。ジチオカル
ボニル化合物２は還流乾燥キシレン中、窒素雰囲気下ト
リー〇−ブヂル錫ハイドライド及びアゾビスイソブチロ
ニトリルと処理すると、おどろくべき事に、選択的にビ
ス−脱酸素化され好収率で高純度の光学活性体３を得る
事ができる。この事は、単にラセミ体を製造する従来の
方法（上述のタナ力等の文献）とは対照的である。
ニルジイミダゾール（ＴＣＤＩ）と還流乾燥１．２−ジ
クロロエタン中窒素雰囲気下処理して好収率でジチオカ
ルボニル化合物２が得られる事が判明した。ジチオカル
ボニル化合物２は還流乾燥キシレン中、窒素雰囲気下ト
リー〇−ブヂル錫ハイドライド及びアゾビスイソブチロ
ニトリルと処理すると、おどろくべき事に、選択的にビ
ス−脱酸素化され好収率で高純度の光学活性体３を得る
事ができる。この事は、単にラセミ体を製造する従来の
方法（上述のタナ力等の文献）とは対照的である。
本発明に従い、工程・
Ｔ（：ＤＩ
ａ）キニン酸ラクトンｌをチオカルボニルジイミダゾー
ルと一１Ｏ°〜９０°Ｃて不活性無水溶媒中不活性雰囲
気下、十分な時間接触せしめ、ジチオカルボニル生成物
２を得る： の紫外線照射吸収剤製造のための前駆体として有用であ
る。
ルと一１Ｏ°〜９０°Ｃて不活性無水溶媒中不活性雰囲
気下、十分な時間接触せしめ、ジチオカルボニル生成物
２を得る： の紫外線照射吸収剤製造のための前駆体として有用であ
る。
本発明の方法は、以下の製造工程図Ａを参照すれば容易
に理解する事ができる。
に理解する事ができる。
聚辺玉里区込
ｂ）工程ａ）から得た生成物２をトリヒドロカルピル錫
ハイドライド、及びアゾビスアルキルニトリルと、不活
性雰囲気上十分な時間接触せしめて旦を得る事を特徴と
する方法を提供する。本ラクトン３は、同アサイニーの
、同時係属中出願（ケースドケットＮｏ、 １７７３
６ ） ５Ｎ１９７，５４９．出願口１９８８￥：
５月２３日（本特定の目的に対する引用文献としてここ
に記載する）に記載の如く、式： 本製造工程図において、出発物質１のキニン酸ラクトン
は、ここに引用文献として示すフィリップ（Ｐｈｉｌｉ
ｐｐｅｌ等による後述の実施例１の方法により、市販の
容易に入手できる生成物、ＪＲ１３Ｒ１４Ｒ１５Ｒ−キ
ニン酸のラク！−ン化にＪ：り製造される。
ハイドライド、及びアゾビスアルキルニトリルと、不活
性雰囲気上十分な時間接触せしめて旦を得る事を特徴と
する方法を提供する。本ラクトン３は、同アサイニーの
、同時係属中出願（ケースドケットＮｏ、 １７７３
６ ） ５Ｎ１９７，５４９．出願口１９８８￥：
５月２３日（本特定の目的に対する引用文献としてここ
に記載する）に記載の如く、式： 本製造工程図において、出発物質１のキニン酸ラクトン
は、ここに引用文献として示すフィリップ（Ｐｈｉｌｉ
ｐｐｅｌ等による後述の実施例１の方法により、市販の
容易に入手できる生成物、ＪＲ１３Ｒ１４Ｒ１５Ｒ−キ
ニン酸のラク！−ン化にＪ：り製造される。
キニン酸ラクトン］をヂオカルポニルジイミダゾール（
ＴＣＤｒ）（市販品）、！＝、］゛ＣＤＩ／＋のモル比
、約２＝１〜５．１で反応セしめる３、この場合３：１
が望ましい。
ＴＣＤｒ）（市販品）、！＝、］゛ＣＤＩ／＋のモル比
、約２＝１〜５．１で反応セしめる３、この場合３：１
が望ましい。
１及びＴＣＤ Ｉの両者に対して用いられる不活性有機
溶媒は無水で沸点約１６°〜１２０℃を有するものであ
る。
溶媒は無水で沸点約１６°〜１２０℃を有するものであ
る。
上述不活性、無水有機溶媒の代表的な例は、例えば、ヘ
キサン、シクロヘキ勺ン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の如きＣ５〜ＣＩ２の環式又は非環式炭化水素、例
えば塩素、フッ素を含むハロゲン数１〜６のＣ３〜Ｃ４
ハロゲン化アルカンである。代表的なハロゲン化アルカ
ンは、クロロホルム、四塩化炭素、メチレンクロライド
、クロロベンゼン、テトラクロロエタン、及びジクロロ
エタンである。
キサン、シクロヘキ勺ン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の如きＣ５〜ＣＩ２の環式又は非環式炭化水素、例
えば塩素、フッ素を含むハロゲン数１〜６のＣ３〜Ｃ４
ハロゲン化アルカンである。代表的なハロゲン化アルカ
ンは、クロロホルム、四塩化炭素、メチレンクロライド
、クロロベンゼン、テトラクロロエタン、及びジクロロ
エタンである。
溶媒中の１の濃度は０．０５Ｍ〜０．５Ｍの範囲であり
、０．２Ｍが望ましい。
、０．２Ｍが望ましい。
混合物を十分な時間加熱して２を製造するが、５０’〜
１００℃て還流するのが望ましい。
１００℃て還流するのが望ましい。
反応に必要な時間は一般的には、１〜４時間の範囲であ
る。上述の濃度で、−射的には、約４０〜８０％の範囲
の収率を実質的に得るのには、２坏時間で十分である。
る。上述の濃度で、−射的には、約４０〜８０％の範囲
の収率を実質的に得るのには、２坏時間で十分である。
生成した固形物２を取り、例えばメチルエヂルケ１−ン
の如き２に対する溶媒でない有機溶媒で洗浄し、乾燥す
る。更に、固形物を反応液すなち母液中から得る事がで
きる。
の如き２に対する溶媒でない有機溶媒で洗浄し、乾燥す
る。更に、固形物を反応液すなち母液中から得る事がで
きる。
２のビス−脱酸素化反応は、所望されるトリヒドロカル
ピル錫ハイドライド、（例えばトリーｎブチル錫ハイド
ライドの如きトリアルキル錫ハイドライドが望ましい）
及び例えばアゾビスイソブチロニトリルの如きアゾジア
ルキルニトリルと、キシレン、■、−ブヂルベンゼン、
ジエチルベンゼン、等の望ましい乾燥有機溶媒中にて加
熱して行われる。
ピル錫ハイドライド、（例えばトリーｎブチル錫ハイド
ライドの如きトリアルキル錫ハイドライドが望ましい）
及び例えばアゾビスイソブチロニトリルの如きアゾジア
ルキルニトリルと、キシレン、■、−ブヂルベンゼン、
ジエチルベンゼン、等の望ましい乾燥有機溶媒中にて加
熱して行われる。
所望のトリアルキル錫ラジカル源及び水素ラシ］ ２
カル源として機能するトリヒドロカルピル錫ハイドライ
ドはトリーローブチル錫ハイドライド、トノフェニル錫
ハイドライド、トリメチル錫ハイドライド、トリエチル
錫ハイドライド等でありトリｎ−ブチル錫ハイドライド
が望ましい。
ドはトリーローブチル錫ハイドライド、トノフェニル錫
ハイドライド、トリメチル錫ハイドライド、トリエチル
錫ハイドライド等でありトリｎ−ブチル錫ハイドライド
が望ましい。
ラジカル反応開始剤として機能するのは、アゾジアルキ
ルニトリルとしてはアゾビスイソブチロニトリル等、ま
たライト（ｌｉｇｈｔ）等であるが、アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ）が望ましい。
ルニトリルとしてはアゾビスイソブチロニトリル等、ま
たライト（ｌｉｇｈｔ）等であるが、アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ）が望ましい。
−１１９には、キシレン中で加熱したＺの溶液に、試薬
、トリアルキル錫ハイドライドを最初に一部分を加え、
次に、残りの錫ハイドライドとともに、アゾニトリルを
加える。反応は外的な触媒反応をさけるため、光の無い
条件で行うのが一般的である。一般に、反応は、８０°
〜１５０℃で行われるが、１２５°〜１３５℃が望まし
く、特に、キシレン（沸点１３８°Ｃ）の還流温度が望
ましい。
、トリアルキル錫ハイドライドを最初に一部分を加え、
次に、残りの錫ハイドライドとともに、アゾニトリルを
加える。反応は外的な触媒反応をさけるため、光の無い
条件で行うのが一般的である。一般に、反応は、８０°
〜１５０℃で行われるが、１２５°〜１３５℃が望まし
く、特に、キシレン（沸点１３８°Ｃ）の還流温度が望
ましい。
試薬添加後、反応混合物を０〜３時間加熱還流せしめる
が、０．７５時間が望ましい。
が、０．７５時間が望ましい。
３の収率は、−射的には３０〜７０％の範囲内である。
３の精製は、従来通りの、例えばカラムクロマトグラフ
ィーで行う。
ィーで行う。
本方法を行うのに、従来の装置を用いる。
本化合物は、例えば、光にあたって色が変色しないよう
に紫外線を吸収させるため、色ペンキと混合して用いる
事のできる、上述の紫外線吸収剤を製造するための前駆
体として有用である。
に紫外線を吸収させるため、色ペンキと混合して用いる
事のできる、上述の紫外線吸収剤を製造するための前駆
体として有用である。
以下の実施例は、本発明を例示するものであり、本発明
の態様として、制限を加えるものと考えるべきではない
。
の態様として、制限を加えるものと考えるべきではない
。
実施例
■
ＴＣＤＴ
２８０ｍβの乾燥１，２−ジクロロエタン中に懸濁さゼ
た１０．０ｇ （５７，４ミリモル）のギニン酸ラクト
ン１ （既知のフィリップ、エム。
た１０．０ｇ （５７，４ミリモル）のギニン酸ラクト
ン１ （既知のフィリップ、エム。
セプルヂレ、ニー エム０．ジエロ、ニス デ（Ｐｈｉ
Ｌｉｐｐｅ、 Ｍ、： ５ｅｐｕｌｃｈｒｅ、 Ａ、
Ｍ、： Ｇｅｒｏ、 Ｓ、Ｄ、１：ロイブネル、エッチ
８．ストレイチャダヴリュー；スッッ、ビー（Ｌｏｉｂ
ｎｅｒ、 Ｈ。
Ｌｉｐｐｅ、 Ｍ、： ５ｅｐｕｌｃｈｒｅ、 Ａ、
Ｍ、： Ｇｅｒｏ、 Ｓ、Ｄ、１：ロイブネル、エッチ
８．ストレイチャダヴリュー；スッッ、ビー（Ｌｏｉｂ
ｎｅｒ、 Ｈ。
５Ｌｒｅｉｃｈｅｒ、 Ｗ、 ； ５ｔｕｔｚ、 Ｐ、
ｌによるジェ、アンチバイオティックス（Ｊ、 Ａｎ
ｔ、１ｂｊｎｔｉｃＳｌ 、 １９８２．３５．１．５
０７−１５１２の方法により得られる）の懸濁液に、窒
素雰囲気下、還流しながら３０．０ｇ Ｎ６８．３ミリ
モル）のチオカルボニルジイミダゾール（ＴＣＤＴ）を
少しずつ加えた。出来た溶液を更に２時間、暗所にて還
流した。次にこの器物を室温にまで冷却した。溶媒を真
空下、ロータリーエバポレーターにて除去した。褐色の
ペースト状残ザな２０ｍ℃の、アセｌ−二トリル メチ
ルエチルケトン５０・５０ （ｖ／Ｖ）混合溶液で処理
した。出来た懸濁液を０°Ｃで２０分間撹拌した。固形
物を濾過して取り、５ｍｇの１・１、アセｌ−二トリル
メチルエチルケトンて洗浄し次にメチルエチルケトン
で洗浄した。得られた淡黄色固形物２を濾過ロウ耳中て
窒素気流下乾燥し、乾燥固形物を窒素気流下、２０ｍ℃
のメチルエチルケトンで洗浄し、１０７０ｇの淡黄色粉
末を得た。合併した母液を濃縮し、酢酸エチルを流出液
として用いた、シリカゲル１７８ｇのクロマトグラフィ
ーを直ちに行い精製した。関連した分画を真空下濃縮し
た。残すな４０ｍ℃の沸とうトルエンで溶かし、得られ
た懸濁液を一晩フリーザー中に置く。固形物を取り、更
に３２４ｇの生成物スを得、全収量１：Ｌ９４ ｇを得
た（７４％）。
ｌによるジェ、アンチバイオティックス（Ｊ、 Ａｎ
ｔ、１ｂｊｎｔｉｃＳｌ 、 １９８２．３５．１．５
０７−１５１２の方法により得られる）の懸濁液に、窒
素雰囲気下、還流しながら３０．０ｇ Ｎ６８．３ミリ
モル）のチオカルボニルジイミダゾール（ＴＣＤＴ）を
少しずつ加えた。出来た溶液を更に２時間、暗所にて還
流した。次にこの器物を室温にまで冷却した。溶媒を真
空下、ロータリーエバポレーターにて除去した。褐色の
ペースト状残ザな２０ｍ℃の、アセｌ−二トリル メチ
ルエチルケトン５０・５０ （ｖ／Ｖ）混合溶液で処理
した。出来た懸濁液を０°Ｃで２０分間撹拌した。固形
物を濾過して取り、５ｍｇの１・１、アセｌ−二トリル
メチルエチルケトンて洗浄し次にメチルエチルケトン
で洗浄した。得られた淡黄色固形物２を濾過ロウ耳中て
窒素気流下乾燥し、乾燥固形物を窒素気流下、２０ｍ℃
のメチルエチルケトンで洗浄し、１０７０ｇの淡黄色粉
末を得た。合併した母液を濃縮し、酢酸エチルを流出液
として用いた、シリカゲル１７８ｇのクロマトグラフィ
ーを直ちに行い精製した。関連した分画を真空下濃縮し
た。残すな４０ｍ℃の沸とうトルエンで溶かし、得られ
た懸濁液を一晩フリーザー中に置く。固形物を取り、更
に３２４ｇの生成物スを得、全収量１：Ｌ９４ ｇを得
た（７４％）。
分析： ＩＲ（フィルム） ３０００．１８１０．１３
９６．１３０５゜１２９０ ｃｍ ’Ｉｆ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、 ｆｃＤ３） ｇｓｏ
、ｆｃｌ１３１−５ｉｔ δ８．５１Ｎｄ、ｌｌ（、
Ｊ＝０．８１．７．８０（ｄ、ｌＨ，Ｊ＝１．４１．７
．０８（ｄ、１）１．Ｊ＝１．１１．５．６５（ｔｄ、
ＬＨ，Ｊ＝８．１．２．７）、５．３４［ａｐｐｔ、
２Ｈ，Ｊ＝８）、３．８２ｆｄｄ、ＬＨ，Ｊ＝１２．６
．６．１１．３．０３（ｄｄ、ｌＨ，Ｊ＝１５．３．２
．８）、２．８２ ｆｄｄｄ、 ＩＩｌ、 Ｊ＝１５．
２．８．２゜２．４）、２．４１ （ｄ、 ＬＨ，Ｊ＝
１２．７１ＴＬＣ−Ｒ，＝０．４５ （８０：２０酢酸
エチル：ヘキサン）実施例２ １００ｍβの乾燥キンレンに溶かした１、００ｇ （３
，０６ミリモル）のジチオカルボニル化合物２の溶液に
、乾燥窒素雰囲気下、還流しながら０．６２ｍｆｆ （
２，３０ミリモル）のトリーｎブチル錫ハイドライドを
加えた。２０分後、史に０．６２ｒｎｆ２のトリーｎ−
ブチル錫ハイドライドを加えた。全５０分後、１．６５
ｍ℃２（６，１，２ミリモル）のトリーｒ１−ブチル錫
ハイドライド及び約２ｍｇのアゾビスイソブチロニトリ
ルを加えた。更に７５分後、混合物を室温にまで冷却し
、高真空下濃縮した。１００ｍｆｆのアセトニトリル、
８０ ｍ （２のヘキサジの熱混合液に残すを溶かし層
を分離した。下層（アセトニトリル）を６０ｍ℃のエキ
サンで１回洗浄した。アセトニトリル層を真空濃縮し、
０５５ｇの油状物を得た。３：１（ｖ／ｖ）の酢酸エチ
ル、ヘキサジを用い、２９ｇのシリカゲルでクロマトグ
ラフィーを行い、油状物を精製した。関連分画を集め、
１８４ｍｇ（４３％）の白色固形物旦を得た。’ Ｈ−
ＮＭＲでは、純度的９５％であった。
９６．１３０５゜１２９０ ｃｍ ’Ｉｆ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、 ｆｃＤ３） ｇｓｏ
、ｆｃｌ１３１−５ｉｔ δ８．５１Ｎｄ、ｌｌ（、
Ｊ＝０．８１．７．８０（ｄ、ｌＨ，Ｊ＝１．４１．７
．０８（ｄ、１）１．Ｊ＝１．１１．５．６５（ｔｄ、
ＬＨ，Ｊ＝８．１．２．７）、５．３４［ａｐｐｔ、
２Ｈ，Ｊ＝８）、３．８２ｆｄｄ、ＬＨ，Ｊ＝１２．６
．６．１１．３．０３（ｄｄ、ｌＨ，Ｊ＝１５．３．２
．８）、２．８２ ｆｄｄｄ、 ＩＩｌ、 Ｊ＝１５．
２．８．２゜２．４）、２．４１ （ｄ、 ＬＨ，Ｊ＝
１２．７１ＴＬＣ−Ｒ，＝０．４５ （８０：２０酢酸
エチル：ヘキサン）実施例２ １００ｍβの乾燥キンレンに溶かした１、００ｇ （３
，０６ミリモル）のジチオカルボニル化合物２の溶液に
、乾燥窒素雰囲気下、還流しながら０．６２ｍｆｆ （
２，３０ミリモル）のトリーｎブチル錫ハイドライドを
加えた。２０分後、史に０．６２ｒｎｆ２のトリーｎ−
ブチル錫ハイドライドを加えた。全５０分後、１．６５
ｍ℃２（６，１，２ミリモル）のトリーｒ１−ブチル錫
ハイドライド及び約２ｍｇのアゾビスイソブチロニトリ
ルを加えた。更に７５分後、混合物を室温にまで冷却し
、高真空下濃縮した。１００ｍｆｆのアセトニトリル、
８０ ｍ （２のヘキサジの熱混合液に残すを溶かし層
を分離した。下層（アセトニトリル）を６０ｍ℃のエキ
サンで１回洗浄した。アセトニトリル層を真空濃縮し、
０５５ｇの油状物を得た。３：１（ｖ／ｖ）の酢酸エチ
ル、ヘキサジを用い、２９ｇのシリカゲルでクロマトグ
ラフィーを行い、油状物を精製した。関連分画を集め、
１８４ｍｇ（４３％）の白色固形物旦を得た。’ Ｈ−
ＮＭＲでは、純度的９５％であった。
分析： ＩＲ（ＣＨＣ１３１３６００，３４５０，３ｆ
ｌｌＯ，２９８０，２９５０゜１７７５、１１５５．１
０７０．１０３０．１０１０ｍ
ｌｌＯ，２９８０，２９５０゜１７７５、１１５５．１
０７０．１０３０．１０１０ｍ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、工程ａ）： ▲数式、化学式、表等があります▼１→▲数式、化学式
、表等があります▼２ キニン酸ラクトン￥１￥をチオカルボニルジイミダゾー
ルと、不活性無水有機溶媒中で、不活性雰囲気下７０゜
〜８０℃にて、十分な時間接触せしめて、ジチオカルボ
ニル生成物￥２￥を得る；▲数式、化学式、表等があり
ます▼３ ｂ）：工程ａ）の生成物２をトリヒドロカルビル錫ハイ
ドライド、アゾビスアルキルニトリルと不活性無水有機
溶媒中で、不活性雰囲気下１２５゜〜１４０℃にて３を
得るに十分な時間接触せしめて３を得る事を特徴とする
製造方法。 ２、上述の工程ａ）における温度が７０゜〜８０℃であ
る請求項１記載の方法。 ３、上述の工程ｂ）における温度が１２５゜〜１４０℃
である請求項１記載の方法。 ４、上述の工程ａ）における溶媒が、１，２−ジクロロ
エタンである請求項１記載の方法。 ５、上述の工程ｂ）における溶媒が、キシレン混合物で
ある請求項１記載の方法。 ６、上述の工程ｂ）におけるトリアルキル錫ハイドライ
ドがトリ−ｎ−ブチル錫ハイドライドである請求項１記
載の方法。 ７、上述の工程ｂ）におけるアゾビスアルキルニトリル
が２，２′−アゾ−ビス−［２−メチルプロピオニトリ
ル］である請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US197,551 | 1988-05-23 | ||
| US07/197,551 US4940803A (en) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | Process for synthesis of 1R,2R,5R-2-hydroxy-6-oxo-7-oxabicyclo[3.2.1]-octane |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0225475A true JPH0225475A (ja) | 1990-01-26 |
Family
ID=22729873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1127978A Pending JPH0225475A (ja) | 1988-05-23 | 1989-05-23 | ヒドロキシラクトンｆｋ―５０６中間体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4940803A (ja) |
| EP (1) | EP0343723A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0225475A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2130145T3 (es) * | 1992-08-03 | 1999-07-01 | Nestle Sa | Derivados del acido quinico y procedimiento de preparacion de derivados del acido quinico. |
| DK0581980T3 (da) * | 1992-08-03 | 1999-09-27 | Nestle Sa | 3- og/eller 4-substituerede quinasyrederivater samt fremgangsmåder til fremstilling af 3- og/eller 4-substituerede quinasyr |
| US6964784B2 (en) | 2002-03-07 | 2005-11-15 | Optigenex, Inc. | Method of preparation and composition of a water soluble extract of the bioactive component of the plant species uncaria for enhancing immune, anti-inflammatory, anti-tumor and dna repair processes of warm blooded animals |
| CN108456213B (zh) * | 2017-02-22 | 2021-01-15 | 浙江九洲药业股份有限公司 | 一种3-氟-4-羟基环己烷羧酸酯的制备方法 |
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1988
- 1988-05-23 US US07/197,551 patent/US4940803A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
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- 1989-05-23 JP JP1127978A patent/JPH0225475A/ja active Pending
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| TETRAHEDRON LETTERS=1988 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4940803A (en) | 1990-07-10 |
| EP0343723A1 (en) | 1989-11-29 |
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