JPH02292814A

JPH02292814A - レジスト塗布装置

Info

Publication number: JPH02292814A
Application number: JP1113809A
Authority: JP
Inventors: Taketoshi Ogura; 毅勇小倉
Original assignee: Matsushita Electronics Corp
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1989-05-08
Filing date: 1989-05-08
Publication date: 1990-12-04

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、半導体装置の製造工程で使用されるレジスト
塗布装置に関し、さらに具体的に述べればホルダの回転
を利用したレジスト塗布装置に関するものである。

（従来の技術）従来のこの種のレジスト塗布装置について，第３図に示
す要部断面図により説明する。同図において，従来のレ
ジスト塗布装置は、中央に開口部１ａを有する蓋１を施
した円筒状のチャンバ２と、」；記のチャンバ２の底を
貫通する回転軸３の先シ１みに固定したホルダ４とから
構成されている。レジストを塗布するウェハ５は、上記
のホルダ４の表面に装着される。

このように構成されたレジス１一塗布装置の動作につい
て説明する。

まず、ウェハ５をホルダ４の上に装着し、レジストをウ
ェハ５の中央に載せた後、回転軸３を回転させると、レ
ジストは遠心カでウェハ５の表面に均一に広がる。

なお、上記のチャンバ２および蓋１は、遠心カで飛散し
たレジスｌ一が外部に出ないように保護するもので，装
着したレジストが剥雛し易いようにテフロン加工等が施
されている。チャンバ２や蓋１に付着したレジストは、
従来、塗布作業が終了した後に、有機溶剤を含ませた布
でふき取ったり，レジストを乾燥させた後に、物理的に
削り取ったりしていた。

（発明が解決しようとする課題）しかしながら、上記の構成では、終了直後の清掃は、有
機溶剤を含ませた布等でふき取るため、レジストが多量
の場合には時間がかかるばかりでなく排気設備の整備が
必要となるという問題があった。また、乾燥後に削り取
る場合には、ダストを発生するため、クリーンルーム内
で作業できないという問題があった。

また、連続して塗布作業を行った場合には、テフロン加
工を施してあっても、レジストの剥には容易でないとい
う問題もあった。

本発明は上記の問題を解決するもので、チャンバ表面に
付着するレジストを容易に除去できるレジス１一塗布装
置を堤供するものである。

（課題を解決するための手段）上記の課題を解決するため、本発明は、レジスｌ・が付
着する部分にあらかじめ溶剤に溶解する皮膜を形成させ
るものである。

（作　用）上記の構成により、付着したレジストの多少にかかわら
ず溶剤に浸漬することにより短時間で除去ができ、また
、クリーンルーム内の作業が可能となる。

（実施例）本発明の第１の実施例を第１図および第２図により説明
する。第１図は本発明によるレジスト塗布装置の要部断
面図で、本実施例が、第３図に示した従来例と異なる点
は、蓋１およびチャンバ２の内面に、有機溶剤に容易に
溶解する高分子膜６を形成した点である。その他は従来
例と変わらないので，同じ構成部品には同一符号を付し
て説明を省略する。また、ウェハ５の表面にレジス１−
を塗布する動作も従来例と変わらないので、その説明も
省略する。

次に、上記の高分子膜６の動作について、第２図により
説明する。第２図（ａ）ないし（ｄ）は、チャンバ２の
一部を拡大して示す模型図である。

まず、チャンバ２の内壁に、有機溶剤に容易に溶解する
高分子膜６を塗布する（第２図（ａ））。次に，レジス
ト塗布作業を行うと、飛散したレジス１・７が高分子膜
６の上に付着する（第２図（ｂ））。

作業が終了した後、チャンバ２を上記の有機溶剤に浸漬
すると、高分子膜６は溶解するので、レジスト７はチャ
ンバ２の内壁から浮き上った形となり（第２図（Ｃ））
、一体となって剥離される（第２図（ｄ））。有機溶剤
が蒸発して乾燥したチャンバ２の内壁に高分子膜６を塗
布する（第２図（ａ））と、次のレジスト塗布作業の準
備が完了する。

次に、第２の実施例について、第１図および第２図を利
用して説明する。本実施例が上述の第１の実施例と異な
る点は、第１の実施例が有機溶剤に容易に溶解する高分
子膜６の代りに、過酸化水素により酸化物となって溶解
するタングステン膜を形成した点である。タングステン
膜が形成されたレジスト塗布装置は、第１図と全く同じ
であり，また、タングステン膜の動作も、有機溶剤が過
酸化水素に替ったのみで、全く変わりがないので，その
説明を省略する。

なお、ほとんどのレジスト７は過酸化水素水に溶解しな
いので，枦過すると、レジストは容易に分離できるので
、廃棄時にレジストにタングステンが混入することはな
い。また，過酸化水素に溶けた酸化タングステンの分雛
も容易なので、排水の汚染もない。

（発明の効果）以上説明したように、本発明によれば、溶剤に容易に溶
解する皮膜を利用して化学的にレジス１一を浮かして剥
離するので，人力で拭き取ったり、削り取ったりする物
理的な作業がなくなり、作業時間が短縮するばかりでな
く，クリーンルーム内の作業にも適した作業となる。ま
た、レジストの量の多少にかかわらず剥離に要する時間
は同じである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるレジス１一塗布装置の要部断面図
、第２図（ａ）ないし（ｄ）はレジストの剥離過程を示
す模型図、第３図は従来のレジスｌ・塗布装置の要部断
面図である。１　・・・蓋、　１ａ・・・開口部、　２・・・チャン
バ，　３　・・・回転軸、　４　・・・ホルダ，５・・
・ウェハ、　６　・・・高分子膜、　７　・・レジスト
。第図第図第図（ｄ）［・

Claims

【特許請求の範囲】

レジストの飛散防止用のチャンバの中に、ウェハ等の塗
布対象物を装着するスピンドルを備えたレジスト塗布装
置において、チャンバの内壁に溶剤に容易に溶解する皮
膜を形成したことを特徴とするレジスト塗布装置。