JPH02296312A - 電子部品およびその製造方法 - Google Patents

電子部品およびその製造方法

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JPH02296312A
JPH02296312A JP1118338A JP11833889A JPH02296312A JP H02296312 A JPH02296312 A JP H02296312A JP 1118338 A JP1118338 A JP 1118338A JP 11833889 A JP11833889 A JP 11833889A JP H02296312 A JPH02296312 A JP H02296312A
Authority
JP
Japan
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insulating layer
substrate
softening temperature
insulating
temperature
Prior art date
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Pending
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JP1118338A
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English (en)
Inventor
Kenji Nakazato
中里 兼次
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication of JPH02296312A publication Critical patent/JPH02296312A/ja
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  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 駁裟上■l会■ 本発明は、電子部品およびその製造方法に関し、主に半
導体装置などを含む電子回路のプリント基板上に表面実
装(SMT : 5urfase MountjngT
echnology)される電子部品に関する。
兜米Ω肢迷 コンデンサ、バリスタ、容量バリスタなどの電子部品は
、−収約に絶縁性の良好な磁器基板の両面に銀等の対向
電極が形成され、これら対向電極の上側に絶縁層が形成
された構造である。このような電子部品の具体的な構造
は第4図ないし第6図に示すように、磁器基板11の一
面Aおよび他面Bにそれぞれ対向電極12が形成され、
これら対向電極12外面にはこれら対向電極12と外部
電極との接続を行なうための端部電極14がそれぞれ形
成され、これら端部電極14外面にはNiメツキ層15
とSnメツキ(はんだメツキともいう)、層16が積層
形成されている。そして磁器基板11の両面であって対
向電極12の上側からは、上下の対向電極12.12問
および左右の端部電極14.14間を絶縁するための絶
縁層17が形成されている。
このような電子部品の製造方法は、磁器基板11に対向
電極Y2を印刷・焼成する工程までは単板状のコンデン
サと同じである。また、絶縁層17を形成する工程は、
ガラス粉末などの絶縁材料をペースト状にし、このペー
スト状の絶縁材料を磁器基板1.1の一面にスクリーン
印刷などにより塗布して乾燥させた後、さらに他面にも
同様に絶縁材料を塗布・乾燥させてお(。この後磁器基
板11をセッター上に配置し、このセッターを焼成炉内
にセットする。絶縁材料の軟化温度付近の温度(400
〜900℃)にまで昇温させ、絶縁材料を加熱・溶融さ
せてから冷却し、再硬化させて磁器基板11両面に絶縁
層17.17を同時に形成する。この後、銀などからな
る端部電極14を形成し、さらにこれら端部電極14部
分にメツキを施ずために電子部品の全体をメツキ液の中
に浸漬していた。
前記2層のメツキ15.16は、端部電極14に外部電
極を接続する際に、銀電極が溶は出すいわゆる銀くわれ
などの不良が発生しないようにするためのものであるが
、前記絶縁層17にピンホルや極端に薄い部分などの欠
陥が生じていると、これら欠陥部分からメツキ液が磁器
基板11内の粒界層に浸透して粒界絶縁層の浸蝕、絶縁
抵抗の低下等を引き起こし、製品寿命を短くするなど電
子部品の信頼性を低下させる原因となっていた。したが
って、電子部品の信頼性を維持するためには、メツキ液
が絶縁層17の欠陥部分から1ifl器基板11内に浸
透するのを田土することが重要である。そのために、従
来は絶縁層17を厚くしたり、基板端面13a、13b
に絶縁層を形成したりしていた。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、磁器基板11のA−B両面に塗布した絶
縁材料を同時に溶融・再硬化させて上下の絶縁層17.
17を形成する方法では、絶縁層17を厚くすることが
困難であったためピンホルや極端に薄い部分が生じ易か
った。このため、これら欠陥部分からメツキ液が磁器基
板11内に浸透し、電子部品の信頼性を低下させる原因
となっていた。
また、従来の製造方法では磁器基111ij11両面の
絶縁層17.17を同時に形成していたため、再硬化時
の温度パターンをよほどうまく調整しないと絶縁層17
の絶縁材料が溶は出して前記セッターや前記炉内壁に付
着し、絶縁層17に変形や厚みの不均一が生じるなど製
品の歩留りが低下する原因となっていた。
さらに、上記した従来の絶縁層17の製造工程では、基
板端面13a、1.3bには絶縁層が形成されておらず
、これらの部分からメツキ液が磁器基板11に浸透する
ことも考えられるため、基板端面13a、L3bにも絶
縁層を形成することが望ましい。しかしながら、スクリ
ーン印刷などの手段により絶縁層材料を塗布して絶縁層
17を形成する方法では、基板端面13a、13bにも
絶縁層を形成する場合、基板端面13a、13bに絶縁
層材料を塗布する別工程がさらに必要になり、製造工程
が複雑になるという問題があった。
本発明は上記のような問題点に鑑みなされたものであっ
て、絶縁層を厚く形成できることにより欠陥部分が少な
い、従って信頼性の高い、しかも絶縁層形成中に絶縁層
材料が溶は出して製品歩留りが低下することのない電子
部品およびその製造方法を提供することを目的とし、さ
ら(こ工程を増やすことなく基板端面にも絶縁層を形成
できる方法を提供することを目的としている。
課題を解決するための−Illr′ 上記目的を達成するため本発明は、基板の一面を含む部
分と他面を含む部分とにそれぞれ形成された対向電極と
、該対向電極に接続された端面電極と、前記基板両面に
形成されてこれら対向電極間を絶縁するための絶縁層と
を備えた電子部品において、前記基板両面に形成された
絶縁層の材料の軟化温度が異なることを特徴としている
また、電子部品の製造方法において、基板の一面を含む
部分と他面を含む部分とにそれぞれ対向電極を形成し、
この後前記基板の一面に軟化温度の高い絶縁層材料を塗
布してその軟化温度付近の温度で焼成してから冷却し、
つぎに前記基板の他面に軟化温度の低い絶縁層の材料を
塗布してその軟化温度イ」近の温度で焼成してから冷却
する工程を含むことを特徴としている。
また、上記電子部品の製造方法において、前記絶縁層材
料のいずれかまたは双方を基板より幅広に成形し、該成
形体と基板とを重ね合わせて焼成・冷却することにより
基板端面に絶縁層を形成することを特徴としている。
作用 上記構成及び方法によれば、基板両面に形成された絶縁
層材料の軟化温度が異なっており、軟化温度の高い絶縁
層材料を塗布してその軟化温度付近の温度で焼成してか
ら冷却し、つぎに前記基板の他面に軟化温度の低い絶縁
層材料を塗布してその軟化温度付近の温度で焼成してか
ら冷却するので、軟化温度の低い絶縁層を形成する過程
において、すてに形成された軟化温度の高い絶縁層が溶
は出すことがない。したがって、絶縁層の形状を崩すこ
となく絶縁層材料を再硬化させることができるようにな
るため、絶縁層の厚みを大きくとることができ、ピンホ
ールや極端に薄い部分などの欠陥部分はほとんど生じな
くなる。
また、上記した製造方法によれば基板端面に絶縁層を形
成する場合、絶縁層材料のいずれかまたは双方を基板よ
り幅広に成形し、該成形体と前記基板とを重ね合わせて
焼成するので、重ね合わせにより該基板からはみ出した
成形体の部分は焼成によって溶融すると基板端面を被覆
することとなり、特別の工程を設けなくても基板端面に
絶縁層を形成することができる。
簑雄側 以下、本発明にかかる電子部品の実施例を図面に基づい
て説明するものとし、本実施例では、コンデンサを例に
とって説明する。なお、本実施例の平面図には従来例の
説明で用いた第4図をそのまま使用するものとし、従来
例と同一構造の部分については同一の符合を(=lすこ
ととする。
第1図および第4図において、磁器基板11の上面A 
J3よび下面Bにそれぞれ対向電極12が形成され、対
向電極12.12の側面部外面には対向電極12と外部
電極との接続を行なう端面電極14が形成され、左右の
端面電極14.14外面にはN1メツキ層15とSnメ
ツキ(はんだメツキともいう)層16とが積層形成され
ている。このUn器基板11のA−B両面に、上下の対
向電極12.12問および左右の端面電極14.14間
を絶縁するための絶縁層30.31が形成されている。
これら絶縁層30.31の材料としてはガラス粉末が用
いられ、それぞれ軟化温度が異なるガラス粉末が用いら
れている。
つぎに、本実施例にかかるコンデンサの製造方法につい
て説明する。
まず、スリットが形成されている磁器素体にスクリーン
印刷により銀などの電極材料を塗布した後焼成すること
により対向電極12を形成し、この後前記スリット部で
カッティングを行なうことにより1個のコンデンサとな
る小片の磁器基板11に切り分ける。この後磁器基板1
1の端部に電極材料である銀ペーストの塗布・焼成を行
ない、端面電極14を形成する。
つぎに、軟化温度の異なる2種類の絶縁層材料にそれぞ
れバインダーであるビヒクルを加えてペースト状にし、
絶縁ペーストを作成する。
そして、軟化温度の高い絶縁ペーストを磁器基板11の
一面A側にスクリーン印刷などにより塗布し、この面を
上にして乾燥後磁器基板11をセッター上に配置し、こ
のセッターを焼成炉内にセットし、この絶縁材料の軟化
温度付近の温度にまで加熱して溶融させ、この後冷却し
て再硬化させ、絶縁層30を形成する。つぎに、磁器基
板11の他面B側に軟化温度の低い絶縁ペーストを塗布
・乾燥し、この後この面を上にしてその軟化温度付近の
温度で焼成し、この後冷却(再硬化)して絶縁層31を
形成する。絶縁層31の焼成温度は絶縁層30の軟化温
度よりも低く設定されているので、先に形成した絶縁層
30が溶は出してセッターや炉内壁に付着することはな
い。
つぎに、磁器基板11をメツキ液に浸漬することにより
端面電極14外面だけにN1メツキ層15とSnメツキ
層16を形成する。この場合、絶縁層30.31にはメ
ツキ液は付着しないので、磁器基板11をメツキ液に浸
漬するだけで端面電極14外面だけにメツキ層15.1
6を形成することができる。
なお、上記製造工程においては、対向電極12の形成工
程と最後のメツキ工程の間にあるカッティング工程、絶
縁層形成工程および端面電極形成工程とはそれぞれ適宜
順序を入れ替えて実施することができる。
このようにして作製されたコンデンサの横断面(第4図
Y−Y線断面)を第2図に示す。図中、基板端面13a
、13bには絶縁層は形成されておらず、この部分に絶
縁層を形成する(こは別にスクリーン印刷などにより絶
縁層材料を塗布・焼成する必要がある。
つぎに、基板端面13a、13bに絶縁層を形成する場
合の実施例について説明する。この実施例では、軟化温
度の異なる2種類の絶縁層材料のいずれかまたは双方を
粉末のままで打錠成形を行なうことにより成形体となし
、この成形体を磁器基板11より幅広に形成しておき、
成形体と磁器基板11とを重ね合わせて焼成・冷却を行
ない、基板端面13a、13bに絶縁層を形成するもの
である。
具体的な製造方法を第3図に基づき説明する。
第3図に示すコンデンサの特徴はIi器基板11の上面
Aのみならず基板端面13a、13bにも絶縁層32が
形成されていることである。
このコンデンサを製造するには、前の実施例と同様に磁
器材料に対向電極12を形成した後カッティングを行な
い、できた磁器基板11に端面電極14を形成する。こ
の磁器基板11に軟化温度の高い絶縁層材料からなる成
形体33を重ね合わせて焼成・冷却を行ない、絶縁層3
0を形成する。一方軟化温度の低い絶縁層材料を磁器基
板11より幅広に成形しておき、この成形体34を磁器
基板ll上に置き焼成する。成形体34の磁器基板11
からはみ出した部分は、焼成により溶融して絶縁層32
a部分となり、基板端面13a、13bを被覆する。冷
却(再硬化)することにより磁器基板11上面から基板
端面]、3a、13bまでの部分に絶縁層32が形成さ
れる。なお、絶縁層32a部分は、成形体33により形
成されるものであってもよく、また成形体33.34の
双方により形成されるものであってもよい。この後、磁
器基板11をメツキ液に浸漬することにより端面電極1
4外面だけにNiメツキ層15とSnメツキ層16を形
成する(第1図)。
なお、本実施例では、カッティング工程の後に必ず絶縁
層30.32形成工程を実施しなければならないほかは
、端面電極14形成工程をカッティング工程の前あるい
は絶縁層30.32形成工程の後に実施してもよい。
上記実施例に用いる絶縁層30.31.32の材料とし
てのガラスの組成、軟化温度および焼成温度を第1表に
示す。
(以下余白) 以上のようにして製造された電子部品としてのコンデン
サは、磁器基板11両面に形成された絶縁層30.31
.32における絶縁層材料の軟化温度が異なり、軟化温
度の高い絶縁層30について絶縁層材料の塗布・その軟
化温度付近の温度における焼成・冷却を先に行ない、こ
の後軟化温度の低い絶縁層31.32について同様に絶
縁層材料の塗布・その軟化温度付近の温度における焼成
・冷却を行なっているので、軟化温度の低い絶縁層31
.32を形成する過程において、すてに形成された軟化
温度の高い絶縁層30が溶は出すことがない。したがっ
て、絶縁層30の形状が変形したり厚みが不均一になっ
たりすることがないので、製品の歩留りを向上させるこ
とができる。
また、すでに形成された軟化温度の高い絶縁層30が溶
は出すことがないので、絶縁層30の形状を崩すことな
く絶縁層材料を再硬化させることができるようになり、
絶縁層の厚みを大きくとることが可能になる。したがっ
て、メツキ液が磁器基板11に浸透する原因となる、ピ
ンホールや極端に薄い部分などの欠陥部分はほとんど生
じないので、電子部品の信顆性を向上させることができ
る。
さらに基板端面13a、13bに絶縁層32aを形成す
る場合、絶縁層材料の成形体34を磁器基板11より幅
広に形成しておき、該成形体34と磁器基板11とを重
ね合わせて焼成するので、磁器基板11からはみ出した
成形体34の部分は焼成によって溶融すると基板端面1
3a、13bを波頂し、これらの部分に絶縁層32aを
形成することができる。したがって、工程を増やすこと
なく基板端面13.a、13bに絶縁層32aを容易に
形成できるので、メツキ液が基板端面13a、13bか
ら磁器基板11に浸透するのを阻止することが可能にな
る6 なお、本発明は、コンデンサに限らず、絶縁層を形成す
るすべての電子部品に適用されることはもちろんである
聚肌辺苅逮 以上の説明により明らかなように、本発明にかかる電子
部品およびその製造方法にあっては、基板両面に形成さ
れた絶縁層の材料の軟化温度が異なり、軟化温度の高い
絶縁層について絶縁層材料の塗布・その軟化温度付近の
温度における焼成・冷却を先に行ない、つぎに軟化温度
の低い絶縁層について同様に絶縁層材料の塗布・その軟
化温度付近の温度における焼成・冷却を行なっているの
で、軟化温度の低い絶縁層を形成する過程において、す
でに形成された軟化温度の高い絶縁層が溶は出すことが
ない。したがって、絶縁層が変形したり厚みが不均一に
なることがないので、製品の歩留りを向上させることが
できる。
また、すでに形成された軟化温度の高い絶縁層が溶は出
すことがないので、絶縁層の形状を崩すことなく絶縁層
材料を再硬化させることができることになり、絶縁層の
厚みを大きくとることが可能になる。したがって、メツ
キ液が磁器基板に浸透する原因となる、ピンホールや極
端に薄い部分などの欠陥部分は減少するので、電子部品
の信頼性を向上させることができる。
さらに基板端面に絶縁層を形成する場合、絶縁層材料の
いずれかまたは双方を基板より幅広に成形し、該成形体
と基板とを重ね合わせて焼成するので、重ね合わせによ
り基板からはみ出した成形体の部分は焼成によって溶融
すると基板端面な被覆して基板端面に絶縁層を形成する
ことができる。したがって、工程を増やすことなく基板
端面に絶縁層を容易に形成でき、メツキ液が基板端面か
ら磁器基板に浸透するのを阻止することが容易に可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかる電子部品としてのコンデンサの
実施例であって第4図におけるX−X線断面図、第2図
は同電子部品の第4図におけるY−Y線断面図、第3図
は電子部品の製造方法の別の実施例を示す第4図におけ
るY−Y線断面図、第4図は従来及び本発明に係る電子
部品を示す平面図、第5図は第4図におけるx−x’、
ys断面図、第6図は第4図におけるY −Y 19断
面図てあ11・・・磁器基板(基板)、12・対向電極
、13a、13b・・・基板端面、14・・・端面電極
、30・・・軟化温度の高い絶縁層、31.32・・軟
化温度の低い絶縁層、33・・軟化温度の高い成形体、
34・・・軟化温度の低い成形体、A・・・基板の面、
B・・・基板の他面

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板の一面を含む部分と他面を含む部分とにそれ
    ぞれ形成された対向電極と、該対向電極に接続された端
    部電極と、前記基板両面に形成されてこれら対向電極間
    を絶縁するための絶縁層とを備えた電子部品において、
    前記基板両面に形成された絶縁層の材料の軟化温度が異
    なることを特徴とする電子部品。
  2. (2)基板の一面を含む部分と他面を含む部分とにそれ
    ぞれ対向電極を形成し、この後前記基板の一面に軟化温
    度の高い絶縁層材料を塗布してその軟化温度付近の温度
    で焼成してから冷却し、つぎに前記基板の他面に軟化温
    度の低い絶縁層材料を塗布してその軟化温度付近の温度
    で焼成してから冷却する工程を含むことを特徴とする電
    子部品の製造方法。
  3. (3)請求項2記載の絶縁層材料のいずれかまたは双方
    を基板より幅広に成形し、該成形体と基板とを重ね合わ
    せて焼成・冷却することにより基板端面に絶縁層を形成
    する工程を含む電子部品の製造方法。
JP1118338A 1989-05-10 1989-05-10 電子部品およびその製造方法 Pending JPH02296312A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04218765A (ja) * 1990-03-26 1992-08-10 Toshiba Corp 超音波プローブ
JPH0538802U (ja) * 1991-10-25 1993-05-25 テイーデイーケイ株式会社 チツプサーミスタ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04218765A (ja) * 1990-03-26 1992-08-10 Toshiba Corp 超音波プローブ
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