JPH0229644A - 直接ポジ画像形成方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/485—Direct positive emulsions
- G03C1/48538—Direct positive emulsions non-prefogged, i.e. fogged after imagewise exposure
- G03C1/48546—Direct positive emulsions non-prefogged, i.e. fogged after imagewise exposure characterised by the nucleating/fogging agent
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は写真画像形成方法に関し、さらに詳しくは直接
ポジ画像形成方法に関する。
ポジ画像形成方法に関する。
予めカブラされていない内部潜像型ハロゲン化銀乳剤を
用い、画像露光後カプリ処理を施した後、またはカブリ
処理を施しながら表面現像を行い直接ポジ画像を得る方
法がよく知られている。
用い、画像露光後カプリ処理を施した後、またはカブリ
処理を施しながら表面現像を行い直接ポジ画像を得る方
法がよく知られている。
ここで、上記内部潜像型ハロゲン化銀写真乳剤とは、ハ
ロゲン化銀粒子の主として内部に感光核を有し、n先に
よって粒子内部に主として潜像が形成されるようなタイ
プのハロゲン化銀写真乳剤をいう。
ロゲン化銀粒子の主として内部に感光核を有し、n先に
よって粒子内部に主として潜像が形成されるようなタイ
プのハロゲン化銀写真乳剤をいう。
この技術分野においては種々の技術がこれまでに知られ
ている0例えは、米国特許第2,592゜250号、同
2,466.957号、同2,497.875号、同2
,588,982号、同3゜317.322号、同3,
761.266号、同3.761.276号、同3,7
96,577号および英国特許第1,151.363号
、同1゜150.553号、同1,011,062号各
明細書等に記載されているものがその主なものである。
ている0例えは、米国特許第2,592゜250号、同
2,466.957号、同2,497.875号、同2
,588,982号、同3゜317.322号、同3,
761.266号、同3.761.276号、同3,7
96,577号および英国特許第1,151.363号
、同1゜150.553号、同1,011,062号各
明細書等に記載されているものがその主なものである。
これら公知の方法を用いると直接ポジ型としては比較的
高感度の写真感光材料を作ることができる。
高感度の写真感光材料を作ることができる。
上記直接ポジ像の形成機構の詳細については例えば、T
、 H,ジェームズ著「ザ・セオリー・オプ・ザ・フォ
トグラフィック・プロセスJ (TheTheory
of the Photographic Proc
ess) 、第4版、第7章、182頁〜193頁や米
国特許第3.761.276号等に記載されている。
、 H,ジェームズ著「ザ・セオリー・オプ・ザ・フォ
トグラフィック・プロセスJ (TheTheory
of the Photographic Proc
ess) 、第4版、第7章、182頁〜193頁や米
国特許第3.761.276号等に記載されている。
つまり、最初の像様露光によってハロゲン化銀内部に生
じた、いわゆる内部潜像に基因する表面減感作用により
、未露光部のハロゲン化銀粒子の表面のみに選択的にカ
ブリ核を生成させ、次いで通常の、いわゆる表面現像処
理を施す事によって未露光部に写真像(直接ポジ像)が
診成される。
じた、いわゆる内部潜像に基因する表面減感作用により
、未露光部のハロゲン化銀粒子の表面のみに選択的にカ
ブリ核を生成させ、次いで通常の、いわゆる表面現像処
理を施す事によって未露光部に写真像(直接ポジ像)が
診成される。
上記の如く、選択的にカブリ核を生成させる手段として
は、一般に「光カブリ法」と呼ばれる感光層の全面に第
二の露光を与える方法(例えば英国特許第1,151,
363号)と「化学的かぶり法」と呼ばれる造核剤(n
ucleating agent)を用いる方法とが知
られている。この後者の方法については、例えは「リサ
ーチ・ディスクロージャーJ (Research
Disclosure)誌、第151JJ、&1516
2 (1976年11月発行)の76〜78真に記載さ
れている。
は、一般に「光カブリ法」と呼ばれる感光層の全面に第
二の露光を与える方法(例えば英国特許第1,151,
363号)と「化学的かぶり法」と呼ばれる造核剤(n
ucleating agent)を用いる方法とが知
られている。この後者の方法については、例えは「リサ
ーチ・ディスクロージャーJ (Research
Disclosure)誌、第151JJ、&1516
2 (1976年11月発行)の76〜78真に記載さ
れている。
直接ポジ(カラー)画像を形成するには、内部潜像型ハ
ロゲン化銀感光材料にカブリ処理を施した後、又はカブ
リ処理を施しながら表面現像処理を行い、その後(漂白
)、定着(又は(漂白)定着)処理して達成できる。(
漂白)定着処理の後は通常水洗および/又は安定化処理
が施される。
ロゲン化銀感光材料にカブリ処理を施した後、又はカブ
リ処理を施しながら表面現像処理を行い、その後(漂白
)、定着(又は(漂白)定着)処理して達成できる。(
漂白)定着処理の後は通常水洗および/又は安定化処理
が施される。
前記「化学的かぶり法」において使用される造核剤とし
てはヒドラジン化合物がよく知られている。
てはヒドラジン化合物がよく知られている。
上記ヒドラジン系造核剤は一般に最大画像濃度(Dma
x)と最小画像濃度(Dmtn)との差が大きく、ディ
スクリミネーションの点では最もすぐれているが、処理
に高pH(p)(>12)を必要とする。
x)と最小画像濃度(Dmtn)との差が大きく、ディ
スクリミネーションの点では最もすぐれているが、処理
に高pH(p)(>12)を必要とする。
処理pHが低く(pH≦12)でも作用する造核剤とし
ては複素環第四級アンモニウム塩が知られており、例え
ば米国特許3,615.615号、同3,719,49
4号、同3,734,738号、同3,759.901
号、同3. 854. 956号、同4,094,68
3号、同4,306゜016号、英国特許1,283,
835号、特開昭52−3.426号および同52−6
9,613号に記載されている。特に米国特許4,11
5゜122号に記載されているプロパルギルまたはブチ
ニル置換された複素環第四級アンモニウム塩化合物は、
直接ポジハロゲン化銀乳剤において、ディスクリミネー
ションの点ですぐれた造核剤である。
ては複素環第四級アンモニウム塩が知られており、例え
ば米国特許3,615.615号、同3,719,49
4号、同3,734,738号、同3,759.901
号、同3. 854. 956号、同4,094,68
3号、同4,306゜016号、英国特許1,283,
835号、特開昭52−3.426号および同52−6
9,613号に記載されている。特に米国特許4,11
5゜122号に記載されているプロパルギルまたはブチ
ニル置換された複素環第四級アンモニウム塩化合物は、
直接ポジハロゲン化銀乳剤において、ディスクリミネー
ションの点ですぐれた造核剤である。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、前記ハロゲン化銀乳剤に、造核剤とたと
えば分光増感を目的として増感色素が添加された場合に
は、増感色素と造核剤との間で、ハロゲン化銀への競争
吸着がおこるため、吸着性の弱い造核剤は多量添加する
必要があり、特に多層カラー感材の場合、濃度ムラや色
バランスのくぐれが生じることがあり、十分な性能を示
すとは言えなかった。
えば分光増感を目的として増感色素が添加された場合に
は、増感色素と造核剤との間で、ハロゲン化銀への競争
吸着がおこるため、吸着性の弱い造核剤は多量添加する
必要があり、特に多層カラー感材の場合、濃度ムラや色
バランスのくぐれが生じることがあり、十分な性能を示
すとは言えなかった。
なお、このことは、高温高湿下で、より一そう増大する
傾向がみられる。
傾向がみられる。
上記問題を解決する目的で米国特許第4,471.04
4号、同4459357号、特開昭62948号等にハ
ロゲン化銀と吸着しうる基を有する造核剤の例が報告さ
れている。ここでは、吸着基の導入により、十分なり+
*axを得るに必要な添加量が減少し、高温経時でのD
+saxの減少が改良されるとしているが、この効果は
十分満足できるレベルではなかった。
4号、同4459357号、特開昭62948号等にハ
ロゲン化銀と吸着しうる基を有する造核剤の例が報告さ
れている。ここでは、吸着基の導入により、十分なり+
*axを得るに必要な添加量が減少し、高温経時でのD
+saxの減少が改良されるとしているが、この効果は
十分満足できるレベルではなかった。
また米国特許第3,227,552号にはハイドロキノ
ン誘導体を用いて中位濃度の現像速度を上げることが記
載されている。しかしこれを用いても現像の速さは十分
でなく、特にpH12以下の現像液で不十分な現像速度
しか得られなかった。
ン誘導体を用いて中位濃度の現像速度を上げることが記
載されている。しかしこれを用いても現像の速さは十分
でなく、特にpH12以下の現像液で不十分な現像速度
しか得られなかった。
また特開昭60−170843号にはカルボン酸基やス
ルホン酸基をもったメルカプト化合物を添加し、最大画
像濃度を上げることなどが記載されている。しかし、こ
れらの化合物を添加した効果はいまだ十分でなく、その
上、現像液のphiは12.0であり、現像液の安定性
は不十分である。
ルホン酸基をもったメルカプト化合物を添加し、最大画
像濃度を上げることなどが記載されている。しかし、こ
れらの化合物を添加した効果はいまだ十分でなく、その
上、現像液のphiは12.0であり、現像液の安定性
は不十分である。
特開昭55−134848号には造核剤の存在下にテト
ラザインデン系化合物を含有する処理液(pH12,0
)で処理して最小画像濃度を低下させ、再反転ネガ像の
形成を防止することが述べられている。しかし、この方
法では最大画像濃度が高くならず、また現像速度も速く
ならない。
ラザインデン系化合物を含有する処理液(pH12,0
)で処理して最小画像濃度を低下させ、再反転ネガ像の
形成を防止することが述べられている。しかし、この方
法では最大画像濃度が高くならず、また現像速度も速く
ならない。
また特公昭45−12709号には光かぶり法で直接ポ
ジ画像を形成する感材にかぶり防止剤としてトリアゾリ
ン−チオン、テトラゾリン−チオン系化合物を添加する
ことが記載されている。しかし、これらの方法でも高い
最大画像濃度と、速い現像速度を達成することができな
かった。
ジ画像を形成する感材にかぶり防止剤としてトリアゾリ
ン−チオン、テトラゾリン−チオン系化合物を添加する
ことが記載されている。しかし、これらの方法でも高い
最大画像濃度と、速い現像速度を達成することができな
かった。
特開昭63−8740号、特願昭61−136゜948
号、同61−136,949号、同61252846号
、同62−310029号に記載の造核促進剤を使用し
た場合には、高い最大画像濃度と低い最小画像濃度を有
する直接ポジ画像を迅速に形成することができるが、添
加量依存性が大きく、十分な最大画像濃度を得るために
、添加量を増すと最小画像濃度の増加するものがある。
号、同61−136,949号、同61252846号
、同62−310029号に記載の造核促進剤を使用し
た場合には、高い最大画像濃度と低い最小画像濃度を有
する直接ポジ画像を迅速に形成することができるが、添
加量依存性が大きく、十分な最大画像濃度を得るために
、添加量を増すと最小画像濃度の増加するものがある。
一方、これらの造核促進剤は、それ自身がハロゲン化銀
に吸着するため、十分な最大画像濃度を得るために添加
量を増すと、長期保存により、感度の低下、および最大
画像濃度が低下し、満足できるレヘルにはなく、この問
題の解決が望まれていた。
に吸着するため、十分な最大画像濃度を得るために添加
量を増すと、長期保存により、感度の低下、および最大
画像濃度が低下し、満足できるレヘルにはなく、この問
題の解決が望まれていた。
従って、本発明の目的は、第1に高い最大画像濃度と低
い最小画像濃度を有する直接ポジ写真感光材料を提供す
ることにある。
い最小画像濃度を有する直接ポジ写真感光材料を提供す
ることにある。
第2に、感光材料を高温下に又は室温で長期保存した場
合に、最大画像濃度が低下しに<<、かつ最小画像濃度
が増大しにくい直接ポジ写真感光材料を提供することに
ある。
合に、最大画像濃度が低下しに<<、かつ最小画像濃度
が増大しにくい直接ポジ写真感光材料を提供することに
ある。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の上記目的は、予めかぶらされていない内部潜像
型ハロゲン化銀粒子を含有する写真乳剤層を少なくとも
1層支持体上に有する写真感光材料を像様露光後、かぶ
り処理し、又はかぶり処理を施しながら現像処理して直
接ポジ画像を形成する方法において、前記現像処理を下
記一般式(I)で示される化合物の少くとも一種の存在
下で行なうことを特徴とする直接ポジ画像形成方法、に
より達成される。
型ハロゲン化銀粒子を含有する写真乳剤層を少なくとも
1層支持体上に有する写真感光材料を像様露光後、かぶ
り処理し、又はかぶり処理を施しながら現像処理して直
接ポジ画像を形成する方法において、前記現像処理を下
記一般式(I)で示される化合物の少くとも一種の存在
下で行なうことを特徴とする直接ポジ画像形成方法、に
より達成される。
一般式(1)
Aは処理時に造核促進剤を放出可能なブロック基を表わ
し、Bはへテロ原子を介してAに結合している造核促進
剤を表わす。
し、Bはへテロ原子を介してAに結合している造核促進
剤を表わす。
ここで造核促進剤とはそれ自身カブラセ作用は有しない
がカブラセ作用を促進する作用を有する化合物をいう。
がカブラセ作用を促進する作用を有する化合物をいう。
以下に前記一般式(I)で示される化合物について詳細
に説明する。
に説明する。
ブロック基Aとしては既に知られているい(つかのもの
を挙げることができる。例えば、特公昭48−9,96
8号、特開昭52−8,828号、同57−82,83
4号、米国特許3,311゜476号、特公昭47−4
4,805号(米国特許3,615.617号)に記載
されているアシル基、スルホニル基等のブロック基を利
用するもの;特公昭55−17,369号(米国特許3
゜888.677号)、同55−9,696号(米国特
許3,791,830号)、同55−34゜927号(
米国特許4,009,029号)、特開昭56−77.
842号(米国特許4,307゜175号)、同59−
105.642号、同59105.640号に記載のい
わゆる逆マイケル反応を利用するブロック基;特公昭5
4−39゜727号、米国特許第3,674,478号
、同第3,932.480号、同第3,993,661
号、特開昭57−135,944号、同57135.9
45号、同57−136.640号に記載の分子内電子
移動によりキノンメチド又はキノンメチド類化合物の生
成を利用するブロック基;特開昭55−53.330号
、同59−218゜439号に記載の分子内閉環反応を
利用するもの;特開昭57−76.541号(米国特許
4.335.200号)、同57−135.949号、
同57−179.842号、同59−137.945号
、同59−140.445号、同59−219.741
号、同60−41.034号に記載の5員又は6員の環
開裂を利用するもの;あるいは特開昭59−201,0
57号、同61−43゜739号、同61−95,34
7号に記載の不飽和結合への求核剤の付加を利用するブ
ロック基を挙げることができる。
を挙げることができる。例えば、特公昭48−9,96
8号、特開昭52−8,828号、同57−82,83
4号、米国特許3,311゜476号、特公昭47−4
4,805号(米国特許3,615.617号)に記載
されているアシル基、スルホニル基等のブロック基を利
用するもの;特公昭55−17,369号(米国特許3
゜888.677号)、同55−9,696号(米国特
許3,791,830号)、同55−34゜927号(
米国特許4,009,029号)、特開昭56−77.
842号(米国特許4,307゜175号)、同59−
105.642号、同59105.640号に記載のい
わゆる逆マイケル反応を利用するブロック基;特公昭5
4−39゜727号、米国特許第3,674,478号
、同第3,932.480号、同第3,993,661
号、特開昭57−135,944号、同57135.9
45号、同57−136.640号に記載の分子内電子
移動によりキノンメチド又はキノンメチド類化合物の生
成を利用するブロック基;特開昭55−53.330号
、同59−218゜439号に記載の分子内閉環反応を
利用するもの;特開昭57−76.541号(米国特許
4.335.200号)、同57−135.949号、
同57−179.842号、同59−137.945号
、同59−140.445号、同59−219.741
号、同60−41.034号に記載の5員又は6員の環
開裂を利用するもの;あるいは特開昭59−201,0
57号、同61−43゜739号、同61−95,34
7号に記載の不飽和結合への求核剤の付加を利用するブ
ロック基を挙げることができる。
一般式(1)はさらに詳しくは一般式(II)で表わす
ことができる。
ことができる。
一般式(n)
A + X + + −+ D
式中、DはDのへテロ原子を介してX、は結合している
造核促進剤を表わし、xIはX、のベテロ原子を介して
Aに結合している2価の連結基を表わし、mlは0また
はlを表わす。
造核促進剤を表わし、xIはX、のベテロ原子を介して
Aに結合している2価の連結基を表わし、mlは0また
はlを表わす。
−数式(II)のDで表わされる造核促進剤は、下記−
数式(III)及び(rV)で表わされる。
数式(III)及び(rV)で表わされる。
−数式(III)
一般式(IV)
式中、Qは5または6員の複素環を形成するのに必要な
原子団を表わす、またこの複素環は炭素芳香環または複
素芳香環で縮合しいてもよい。−数式(Ill)中、W
は、窒素原子、炭素原子を表わす、−数式(Ill)の
場合は硫黄原子、−数式(IV)の場合は窒素原子を介
してAと直接結合していても(m+ = O) %ある
いはXlを介して結合していても(m、=1)よく、写
真処理(現像、定着、漂白等)することで、Aから脱離
可能なものである。
原子団を表わす、またこの複素環は炭素芳香環または複
素芳香環で縮合しいてもよい。−数式(Ill)中、W
は、窒素原子、炭素原子を表わす、−数式(Ill)の
場合は硫黄原子、−数式(IV)の場合は窒素原子を介
してAと直接結合していても(m+ = O) %ある
いはXlを介して結合していても(m、=1)よく、写
真処理(現像、定着、漂白等)することで、Aから脱離
可能なものである。
一般式(II)で表わされるXl は2価の連結基を表
わし、Xlのへテロ原子を介してAと結合しており、処
理時にX、−Dとして開裂した後、速やかにDを放出す
る基を表わす。
わし、Xlのへテロ原子を介してAと結合しており、処
理時にX、−Dとして開裂した後、速やかにDを放出す
る基を表わす。
この様な連結基としては、特開昭54−145135号
明細書(英国特許公開2.010.818A号)、米国
特許第4.248.962号、同4.409.323号
、英国特許第2.096゜783号に記載の分子内閉環
反応によりDを放出するもの、英国特許第2.072.
363号、特開昭57−154,234号明細書等に起
重の分子内電子移動によってDを放出するもの、特開昭
57−179,842号等に記載の炭酸ガスの脱離を伴
ってDを放出するもの、あるいは特開昭59−9342
2号に記載のホルマリンの脱離を伴ってDを放出するも
の等の連結基を挙げることができる0以上述べた代表的
XI−について、それらの構造式をDと共に次に示す。
明細書(英国特許公開2.010.818A号)、米国
特許第4.248.962号、同4.409.323号
、英国特許第2.096゜783号に記載の分子内閉環
反応によりDを放出するもの、英国特許第2.072.
363号、特開昭57−154,234号明細書等に起
重の分子内電子移動によってDを放出するもの、特開昭
57−179,842号等に記載の炭酸ガスの脱離を伴
ってDを放出するもの、あるいは特開昭59−9342
2号に記載のホルマリンの脱離を伴ってDを放出するも
の等の連結基を挙げることができる0以上述べた代表的
XI−について、それらの構造式をDと共に次に示す。
一0CR1−D
−O−C−OCH!−D
献
Js
Ox
置
0 +CHz+sN CD
X、として、どのようなものを用いるかはDの種類、放
出のタイミング、及び速度などに応じて選択される。
出のタイミング、及び速度などに応じて選択される。
本発明に使用される一般式(II)で表わされるブロッ
クされた造核促進剤のAとして好ましいものは;C=C
ぐ基、>C=O基、〉c=N′基、ンC=S基、及び>
C=Nぐ基の少なくとも1つを有し、該官能基の炭素原
子上への求核性物質(代表的なものとしてはOH0イオ
ン)の攻撃とそれに続く反応によって造核促進剤を放出
する化合物であり、その中でも特に好ましい化合物とし
ては、下記−数式(V)で表わされるものを挙げること
ができる。
クされた造核促進剤のAとして好ましいものは;C=C
ぐ基、>C=O基、〉c=N′基、ンC=S基、及び>
C=Nぐ基の少なくとも1つを有し、該官能基の炭素原
子上への求核性物質(代表的なものとしてはOH0イオ
ン)の攻撃とそれに続く反応によって造核促進剤を放出
する化合物であり、その中でも特に好ましい化合物とし
ては、下記−数式(V)で表わされるものを挙げること
ができる。
一般式(V)
(Rl)、ど ゝ′8”
慝
式中、R1,xRl及びR2は水素原子又は置換可能な
基を表わし、R2とR8及びR8とR1は結合して、炭
素環、または複素環を形成していてもよい。
基を表わし、R2とR8及びR8とR1は結合して、炭
素環、または複素環を形成していてもよい。
l nt −〇の場合、シアノ基、また/\
はニトロ基(ここで、R4、Rs 、R4、Ryおよび
R1は水素原子または置換可能な基を表わす、)を表わ
し、Xlおよびml は前記−数式(II)におけるそ
れと同義である。
R1は水素原子または置換可能な基を表わす、)を表わ
し、Xlおよびml は前記−数式(II)におけるそ
れと同義である。
一般式(V)で表わされる化合物は、写真処理(現像、
漂白、定着、漂白定着等)の際、処理液中の求核剤(例
えばOH−イオン、5Off”−イオン、ヒドロキシル
アミン等〉の不飽和結合への付加により、Dで表わされ
る造核促進剤の脱離が可能なものである。
漂白、定着、漂白定着等)の際、処理液中の求核剤(例
えばOH−イオン、5Off”−イオン、ヒドロキシル
アミン等〉の不飽和結合への付加により、Dで表わされ
る造核促進剤の脱離が可能なものである。
このような不飽和結合への求核剤の付加を利用する活性
基のブロック法として、特開昭59−201.057号
、特開昭61−43.739号、特開昭61−95.3
47号を用いることができる。
基のブロック法として、特開昭59−201.057号
、特開昭61−43.739号、特開昭61−95.3
47号を用いることができる。
次に一般式(V)について詳しく説明する。
R1は水素原子又は置換可能な基を表わし、置換可能な
基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、
アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20)、了り−ル
基(好ましくは炭素数6〜20)、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数1〜20)、アリールオキシ基(好ましく
は炭素数6〜20)、アルキルチオ基(好ましくは炭素
数1〜20)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜
20)、アミノ基(無置換アミノ、好ましくは炭素数1
〜20のアルキル基または炭素数6〜20の了り−ル基
で置換した2級または3級アミノ)、ヒドロキシ基など
を表わし、これらの置換基は以下の置換基を1個以上有
してもよく、置換基が2個以上あるときは同じでも異っ
てもよい。
基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、
アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20)、了り−ル
基(好ましくは炭素数6〜20)、アルコキシ基(好ま
しくは炭素数1〜20)、アリールオキシ基(好ましく
は炭素数6〜20)、アルキルチオ基(好ましくは炭素
数1〜20)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜
20)、アミノ基(無置換アミノ、好ましくは炭素数1
〜20のアルキル基または炭素数6〜20の了り−ル基
で置換した2級または3級アミノ)、ヒドロキシ基など
を表わし、これらの置換基は以下の置換基を1個以上有
してもよく、置換基が2個以上あるときは同じでも異っ
てもよい。
ここで、具体的置換基としては、ハロゲン原子(フッ素
、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜2
0)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、アリールオキ
シ基(好ましくは炭素数6〜20)、アルキルチオ基(
好ましくは炭素数1〜20)、アリールチオ基(好まし
くは炭素数6〜20)、アシル基(好ましくは炭素数2
〜20)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルカノイルアミノ、炭素数6〜20のベンゾイルア
ミノ)、ニトロ基、シアノ基、オキシカルボニル基(好
ましくは炭素数1〜20のアルコキシカルボニル、炭素
数6〜20のアリールオキシカルボニル)、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、スルホ基、ウレイド基(好ましくは
炭素数1〜20のアルキルウレイド、炭素数6〜2oの
アリールウレイド)、スルホンアミド基(好ましくは炭
素数1〜20のアルキルスルホンアミド、炭素数6〜2
0のアリールスルホンアミド)、スルファモイル基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキルスルファモイル、炭
素数6〜20のアリールスルファモイル)、カルバモイ
ル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカルバモイ
ル、炭素数6〜20のアリールカルバモイル)、アシル
オキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、アミノ基(無
置換アミノ、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基、
または炭素数6〜20のアリール基で置換した2級また
は3級のアミノ)、炭酸エステル基(好ましくは炭素数
1〜20のアルキル炭酸エステル、炭素数6〜20のア
リール炭酸ニステルル)、スルホン基(好ましくは炭素
数1〜20のアルキルスルホン、炭素数6〜20の了り
−ルスルホン)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1
〜20のアルキルスルフィニル、炭素数6〜20のアリ
ールスルフィニル)を挙げることができる。
、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜2
0)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、アリールオキ
シ基(好ましくは炭素数6〜20)、アルキルチオ基(
好ましくは炭素数1〜20)、アリールチオ基(好まし
くは炭素数6〜20)、アシル基(好ましくは炭素数2
〜20)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルカノイルアミノ、炭素数6〜20のベンゾイルア
ミノ)、ニトロ基、シアノ基、オキシカルボニル基(好
ましくは炭素数1〜20のアルコキシカルボニル、炭素
数6〜20のアリールオキシカルボニル)、ヒドロキシ
基、カルボキシ基、スルホ基、ウレイド基(好ましくは
炭素数1〜20のアルキルウレイド、炭素数6〜2oの
アリールウレイド)、スルホンアミド基(好ましくは炭
素数1〜20のアルキルスルホンアミド、炭素数6〜2
0のアリールスルホンアミド)、スルファモイル基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキルスルファモイル、炭
素数6〜20のアリールスルファモイル)、カルバモイ
ル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカルバモイ
ル、炭素数6〜20のアリールカルバモイル)、アシル
オキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、アミノ基(無
置換アミノ、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基、
または炭素数6〜20のアリール基で置換した2級また
は3級のアミノ)、炭酸エステル基(好ましくは炭素数
1〜20のアルキル炭酸エステル、炭素数6〜20のア
リール炭酸ニステルル)、スルホン基(好ましくは炭素
数1〜20のアルキルスルホン、炭素数6〜20の了り
−ルスルホン)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1
〜20のアルキルスルフィニル、炭素数6〜20のアリ
ールスルフィニル)を挙げることができる。
さらに、R3はR2又はR3と結合して炭素環または複
素環(例えば5〜7員環)を形成してもよい。R1、R
2は同一でも異なってもよく、各々水素原子または置換
可能な基を表わし、置換可能な基としてはハロゲン原子
(フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素
数1〜20)、アリール基(好ましくは炭素数6〜2o
)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、アリ
ールオキシ基(好ましくは炭素数6〜2o)、アルキル
チオ基(好ましくは炭素数1〜2oのもの)、アリール
チオ基(好ましくは炭素数6〜20)、アシルオキシ基
(好ましくは炭素数2〜20)、アミノ基(無置換アミ
ノ、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基、または炭
素数6〜2oの了り−ル基で置換した2級または3級の
アミノ)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数1〜2
0のアルキルカルボンアミド、炭素数6〜2oのアリー
ルカルボンアミド)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜20のアルキルウレイド、炭素数6〜20のアリール
ウレイド)、カルボキシ基、炭酸エステル基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル炭酸エステル、炭素数6〜
20のアリール炭酸エステル)、オキシカルボニル基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキルオキシカルボニル
、炭素数6〜20のアリールオキシカルボニル)、カル
バモイル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカル
バモイル、炭素数6〜20の了り−ルカルバモイル)、
アシル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカルボ
ニル、炭素数6〜20のアリールカルボニル)、スルホ
ン基、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20のアル
キルスルホニル、炭素数6〜20のアリールスルホニル
)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20のアル
キルスルフィニル、炭素数6〜20のアリールスルフィ
ニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキルスルファモイル、炭素数6〜20のアリール
スルファモイル)、シアノ基、ニトロ基を表わす。
素環(例えば5〜7員環)を形成してもよい。R1、R
2は同一でも異なってもよく、各々水素原子または置換
可能な基を表わし、置換可能な基としてはハロゲン原子
(フッ素、塩素、臭素)、アルキル基(好ましくは炭素
数1〜20)、アリール基(好ましくは炭素数6〜2o
)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、アリ
ールオキシ基(好ましくは炭素数6〜2o)、アルキル
チオ基(好ましくは炭素数1〜2oのもの)、アリール
チオ基(好ましくは炭素数6〜20)、アシルオキシ基
(好ましくは炭素数2〜20)、アミノ基(無置換アミ
ノ、好ましくは炭素数1〜20のアルキル基、または炭
素数6〜2oの了り−ル基で置換した2級または3級の
アミノ)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数1〜2
0のアルキルカルボンアミド、炭素数6〜2oのアリー
ルカルボンアミド)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜20のアルキルウレイド、炭素数6〜20のアリール
ウレイド)、カルボキシ基、炭酸エステル基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル炭酸エステル、炭素数6〜
20のアリール炭酸エステル)、オキシカルボニル基(
好ましくは炭素数1〜20のアルキルオキシカルボニル
、炭素数6〜20のアリールオキシカルボニル)、カル
バモイル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカル
バモイル、炭素数6〜20の了り−ルカルバモイル)、
アシル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカルボ
ニル、炭素数6〜20のアリールカルボニル)、スルホ
ン基、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20のアル
キルスルホニル、炭素数6〜20のアリールスルホニル
)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20のアル
キルスルフィニル、炭素数6〜20のアリールスルフィ
ニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキルスルファモイル、炭素数6〜20のアリール
スルファモイル)、シアノ基、ニトロ基を表わす。
これらのRz 、R3で示される置換基は1個以上の置
換基を有してもよく、置換基が2個以上あるときは同じ
でも異ってもよく、具体的置換基としては前記R7の置
換基と同じものを挙げることができる。
換基を有してもよく、置換基が2個以上あるときは同じ
でも異ってもよく、具体的置換基としては前記R7の置
換基と同じものを挙げることができる。
ニトロ基を表わし、R4、Rs 、R1、R7及びR1
はたがいに同一でも異なってもよく、各々水素原子また
は置換可能な基を表わし、具体的置換基としてはアルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜20)、アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜20)、了り−ル基(好ましくは炭
素数6〜20)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜
20)、了り−ルオキシ基(好ましくは炭素数6〜20
)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20)、ア
ミノ基(無置換アミノ基、好ましくは炭素数1〜20の
アルキル基、または炭素数6〜20の了り−ル基で置換
した2級または3級アミノ)、カルボンアミ、ド基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキルカルボンアミド、炭
素数6〜20のアリールカルボンアミド)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜20のアルキルウレイド、炭素
数6〜20のアリールウレイド)、オキシカルボニル基
(好ましくは炭素数1〜20のフルキルオキシカルボニ
ル、炭素数6〜20のアリールオキシカルボニル)、カ
ルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20のフルキルカ
ルバモイル、炭素数6〜20のアリールカルバモイル)
、アシル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカル
ボニル、炭素数6〜20のアリールカルボニル)、スル
ホニル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルスルホ
ニル、炭素数6〜20の了り−ルスルホニル)、スルフ
ィニル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルスルフ
ィニル、炭5J[6〜20のアリールスルフィニル)、
スルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキ
ルスルファモイル、炭素数6〜20のアリールスルファ
モイル)、シアノ基、ニトロ基を表わす。このうちRq
、Rsの好ましい置換基としては、オキシカルボニル基
、カルバモイル基、アシル基、スルホニル基、スルファ
モイル基、スルフィニル基、シアノ基、ニトロ基を挙げ
ることができる。これらの置換基は1個以上の置換基を
有してもよく、置換基が2個以上あるときは同じでも異
ってもよ(、具体的置換基としては前記R1の置換基と
同しものを挙げることができる。
はたがいに同一でも異なってもよく、各々水素原子また
は置換可能な基を表わし、具体的置換基としてはアルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜20)、アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜20)、了り−ル基(好ましくは炭
素数6〜20)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜
20)、了り−ルオキシ基(好ましくは炭素数6〜20
)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20)、ア
ミノ基(無置換アミノ基、好ましくは炭素数1〜20の
アルキル基、または炭素数6〜20の了り−ル基で置換
した2級または3級アミノ)、カルボンアミ、ド基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキルカルボンアミド、炭
素数6〜20のアリールカルボンアミド)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜20のアルキルウレイド、炭素
数6〜20のアリールウレイド)、オキシカルボニル基
(好ましくは炭素数1〜20のフルキルオキシカルボニ
ル、炭素数6〜20のアリールオキシカルボニル)、カ
ルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20のフルキルカ
ルバモイル、炭素数6〜20のアリールカルバモイル)
、アシル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルカル
ボニル、炭素数6〜20のアリールカルボニル)、スル
ホニル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルスルホ
ニル、炭素数6〜20の了り−ルスルホニル)、スルフ
ィニル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキルスルフ
ィニル、炭5J[6〜20のアリールスルフィニル)、
スルファモイル基(好ましくは炭素数1〜20のアルキ
ルスルファモイル、炭素数6〜20のアリールスルファ
モイル)、シアノ基、ニトロ基を表わす。このうちRq
、Rsの好ましい置換基としては、オキシカルボニル基
、カルバモイル基、アシル基、スルホニル基、スルファ
モイル基、スルフィニル基、シアノ基、ニトロ基を挙げ
ることができる。これらの置換基は1個以上の置換基を
有してもよく、置換基が2個以上あるときは同じでも異
ってもよ(、具体的置換基としては前記R1の置換基と
同しものを挙げることができる。
次に一般式(1[[) 、−(TV)で表わされる造核
促進剤について詳しく述べる。
促進剤について詳しく述べる。
一般式(III)中、Qは好ましくは炭素原子、窒素原
子、酸素原子、硫黄原子およびセレン原子の少な(とも
一種の原子から構成される5又は6員の複素環を形成す
るのに必要な原子群を表わす。
子、酸素原子、硫黄原子およびセレン原子の少な(とも
一種の原子から構成される5又は6員の複素環を形成す
るのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環で縮合し
ていてもよい。Wは、窒素原子、炭素原子を表わす。
ていてもよい。Wは、窒素原子、炭素原子を表わす。
複素環としては例えばテトラゾール類、トリアゾール類
、イミダゾール類、チアジアゾール類、オキサジアゾー
ル類、セレナジアゾール類、オキサン°−/し類、チア
ン°−Jし類、ペンズオキサソ゛−ル類、ベンズチアゾ
ール類、ベンズイミダゾ、−ル類、ピリミジン類、テト
ラアザインデン類、トリアザインデン類、ペンタアザイ
ンデン類、等があげられる。
、イミダゾール類、チアジアゾール類、オキサジアゾー
ル類、セレナジアゾール類、オキサン°−/し類、チア
ン°−Jし類、ペンズオキサソ゛−ル類、ベンズチアゾ
ール類、ベンズイミダゾ、−ル類、ピリミジン類、テト
ラアザインデン類、トリアザインデン類、ペンタアザイ
ンデン類、等があげられる。
これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子(例えば塩素
、臭素)、メルカプト基、シアノ基、それぞれ置換もし
くは無置換のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、t−ブチル、メトキシエチル、メチルチオエチ
ル、ジメチルアミノエチル、モルホリノエチル、ジメチ
ルアミノエチルチオエチル、ジエチルアミノエチル、ジ
メチルアミノプロピル、ジプロピルアミノエチル、ジメ
チルアミノヘキシル、メチルチオエチル、メトキシエト
キシエトキシエチル、トリメチルアンモニオエチル、シ
アノエチル)、7リール基(例えばフェニル、4−メタ
ンスルホンアミドフェニル、4メチルフェニル、3−メ
トキシフェニル、4−ジメチルアミノフェニル、3.4
−ジクロルフェニル、ナフチル)、フルケニル蟇(例え
ばアリル)、アラルキル基(例えばベンジル、4−メチ
ルベンジル、フェネチル、4−メトキシベンジル)、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、メトキシエト
キシ、メチルチオエトキシ基、ジメチルアミノエトキシ
)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、4−メトキ
シフェノキシ)、フルキルチオ基(例えばメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、メチルチオエチル、ジメチ
ルアミノエチルチオ、メトキシエチルチオ、モルホリノ
エチルチオ、ジメチルアミノプロピルチオ、ピペリジノ
エチル千オ、ピロリジノエチルチオ、モルホリノエチル
チオエチルチオ、イミダゾリルエチルチオ、2−ピリジ
ルメチルチオ、ジエチルアミノエチルチオ)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ、4−ジメチルアミノフェ
ニルチオ)、ヘテロ環オキシ基(例えば2−ピリジルオ
キシ、2−イミダゾリルオキシ)、ヘテロ環チオ基(例
えば2−ベンズチアゾリルチオ、4−ビラゾリルチオ)
、スルホニル基(例エバメタンスルホニル、エタンスル
ホニル、p−トルエンスルホニル、メトキシエチルスル
ホニル、ジメチルアミノエチルスルホニル)、カルバモ
イル基(例えば無置換カルバモイル、メチルカルバモイ
ル、ジメチルアミノエチルカルバモイル、メトキシエチ
ルカルバモイル、モルホリノエチルカルバモイル、メチ
ルチオエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル)、
スルファモイル基(例えば無置換スルファモイル、メチ
ルスルファモイル、イミダゾリルエチルスルファモイル
、フェニルスルファモイル)、カルボンアミド基(例え
ばアセトアミド、ヘンズアミド、メトキシプロピオンア
ミド、ジメチルアミノプロピオンアミド)、スルホンア
ミド基(例えばメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド、p−トルエンスルホンアミド)、アシルオキ
シ基(例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ)、ス
ルホニルオキシ基(例えばメタンスルホニルオキシ)、
ウレイド基(例えば無置換のウレイド、メチルウレイド
、エチルウレイド、メトキシエチルウレイド、ジメチル
アミノプロピルウレイド、メチルチオエチルウレイド、
モルホリノエチルウレイド、フェニルウレイド)、チオ
ウレイド基(例えば無置換のチオウレイド、メチルチオ
ウレイド、メトキシエチルチオウレイド)、アシル基(
例えばアセチル、ベンゾイル、4−メトキシベンゾイル
)、ヘテロ環基(例えば1−モルホリノ、1−ピペリジ
ノ、2−ヒリジル、4−ピリジル、2−チエニル、l−
ピラゾリル、■−イミダゾリル、2−テトラヒドロフリ
ル、テトラヒドロチエニル)、オキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、メト
キシエトキシカルボニル、メチルチオエトキシカルボニ
ル、メトキシエトキシエトキシエトキシカルボニル、ジ
メチルアミノエトキシカルボニル、モルホリノエトキシ
カルボニル)、オキシカルボニルアミノ基(例えばメト
キシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、
2−エチルへキシルオキシカルボニルアミノ)、アミノ
基(例えは無置換アミノ、ジメチルアミノ、メトキシエ
チルアミノ、アニリノ)、カルボン酸またはその塩、ス
ルホン酸またはその塩、ヒドロキシル基などで置換され
ていてもよい、好ましい複素環として、ピリミジン類、
ピリダジン類、トリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類、ペンタアザインデン類、および下記−数式(Vl
)で表わされるチアジアゾール類、オキサジアゾール類
、セレナジアゾール類が挙げられる。
、臭素)、メルカプト基、シアノ基、それぞれ置換もし
くは無置換のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、t−ブチル、メトキシエチル、メチルチオエチ
ル、ジメチルアミノエチル、モルホリノエチル、ジメチ
ルアミノエチルチオエチル、ジエチルアミノエチル、ジ
メチルアミノプロピル、ジプロピルアミノエチル、ジメ
チルアミノヘキシル、メチルチオエチル、メトキシエト
キシエトキシエチル、トリメチルアンモニオエチル、シ
アノエチル)、7リール基(例えばフェニル、4−メタ
ンスルホンアミドフェニル、4メチルフェニル、3−メ
トキシフェニル、4−ジメチルアミノフェニル、3.4
−ジクロルフェニル、ナフチル)、フルケニル蟇(例え
ばアリル)、アラルキル基(例えばベンジル、4−メチ
ルベンジル、フェネチル、4−メトキシベンジル)、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、メトキシエト
キシ、メチルチオエトキシ基、ジメチルアミノエトキシ
)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ、4−メトキ
シフェノキシ)、フルキルチオ基(例えばメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、メチルチオエチル、ジメチ
ルアミノエチルチオ、メトキシエチルチオ、モルホリノ
エチルチオ、ジメチルアミノプロピルチオ、ピペリジノ
エチル千オ、ピロリジノエチルチオ、モルホリノエチル
チオエチルチオ、イミダゾリルエチルチオ、2−ピリジ
ルメチルチオ、ジエチルアミノエチルチオ)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ、4−ジメチルアミノフェ
ニルチオ)、ヘテロ環オキシ基(例えば2−ピリジルオ
キシ、2−イミダゾリルオキシ)、ヘテロ環チオ基(例
えば2−ベンズチアゾリルチオ、4−ビラゾリルチオ)
、スルホニル基(例エバメタンスルホニル、エタンスル
ホニル、p−トルエンスルホニル、メトキシエチルスル
ホニル、ジメチルアミノエチルスルホニル)、カルバモ
イル基(例えば無置換カルバモイル、メチルカルバモイ
ル、ジメチルアミノエチルカルバモイル、メトキシエチ
ルカルバモイル、モルホリノエチルカルバモイル、メチ
ルチオエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル)、
スルファモイル基(例えば無置換スルファモイル、メチ
ルスルファモイル、イミダゾリルエチルスルファモイル
、フェニルスルファモイル)、カルボンアミド基(例え
ばアセトアミド、ヘンズアミド、メトキシプロピオンア
ミド、ジメチルアミノプロピオンアミド)、スルホンア
ミド基(例えばメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド、p−トルエンスルホンアミド)、アシルオキ
シ基(例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ)、ス
ルホニルオキシ基(例えばメタンスルホニルオキシ)、
ウレイド基(例えば無置換のウレイド、メチルウレイド
、エチルウレイド、メトキシエチルウレイド、ジメチル
アミノプロピルウレイド、メチルチオエチルウレイド、
モルホリノエチルウレイド、フェニルウレイド)、チオ
ウレイド基(例えば無置換のチオウレイド、メチルチオ
ウレイド、メトキシエチルチオウレイド)、アシル基(
例えばアセチル、ベンゾイル、4−メトキシベンゾイル
)、ヘテロ環基(例えば1−モルホリノ、1−ピペリジ
ノ、2−ヒリジル、4−ピリジル、2−チエニル、l−
ピラゾリル、■−イミダゾリル、2−テトラヒドロフリ
ル、テトラヒドロチエニル)、オキシカルボニル基(例
えばメトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、メト
キシエトキシカルボニル、メチルチオエトキシカルボニ
ル、メトキシエトキシエトキシエトキシカルボニル、ジ
メチルアミノエトキシカルボニル、モルホリノエトキシ
カルボニル)、オキシカルボニルアミノ基(例えばメト
キシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、
2−エチルへキシルオキシカルボニルアミノ)、アミノ
基(例えは無置換アミノ、ジメチルアミノ、メトキシエ
チルアミノ、アニリノ)、カルボン酸またはその塩、ス
ルホン酸またはその塩、ヒドロキシル基などで置換され
ていてもよい、好ましい複素環として、ピリミジン類、
ピリダジン類、トリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類、ペンタアザインデン類、および下記−数式(Vl
)で表わされるチアジアゾール類、オキサジアゾール類
、セレナジアゾール類が挙げられる。
一般式(VT)
Xは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表わす。
ts
たは−N−を表わし、R% 、R16、Ro、R1!、
R1& R13、R14、Rts及びR1&は水素原子、それぞ
れ置換もしくは無置換のアルキル基(例えば、メチル、
エチル、プロピル、2−ジメチルアミノエチル)、置換
もしくは無置換のアリール基(例えば、フェニル、2−
メチルフェニル)、置換もしくは無置換のアルケニル基
(例えば、プロペニル、1−メチルビニル)、または置
換もしくは無置換のアラルキル基(例えば、ベンジル、
フェネチル)を表わす、Rは、直鎖または分岐のアルキ
レン基(例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブ
チレン、ヘキシレン、1−メチルエチレン)、直鎖また
は分岐のアルケニレン基(例えば、ビニレン、1−メチ
ルビニレン)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例え
ば、ベンジリデン)、アリーレン基(例えば、フェニレ
ン、ナフチレン)を表わす、Rで表わされる上記の基は
更に置換されていてもよい。
R1& R13、R14、Rts及びR1&は水素原子、それぞ
れ置換もしくは無置換のアルキル基(例えば、メチル、
エチル、プロピル、2−ジメチルアミノエチル)、置換
もしくは無置換のアリール基(例えば、フェニル、2−
メチルフェニル)、置換もしくは無置換のアルケニル基
(例えば、プロペニル、1−メチルビニル)、または置
換もしくは無置換のアラルキル基(例えば、ベンジル、
フェネチル)を表わす、Rは、直鎖または分岐のアルキ
レン基(例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブ
チレン、ヘキシレン、1−メチルエチレン)、直鎖また
は分岐のアルケニレン基(例えば、ビニレン、1−メチ
ルビニレン)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例え
ば、ベンジリデン)、アリーレン基(例えば、フェニレ
ン、ナフチレン)を表わす、Rで表わされる上記の基は
更に置換されていてもよい。
Mは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素、臭素)、
ニトロ基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換のア
ミノ基(塩の形も含む、例えば、アミノ、アミノ基の塩
酸塩、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジメチルアミノ
基の塩酸塩、ジブチルアミノ、ジプロピルアミノ、N−
ジメチルアミノエチル−N−メチルアミノ、等)、四級
アンモニオ基(例えば、トリメチルアンモニオ、ジメチ
ルベンジルアンモニオ)、アルコキシ基(例えば、メト
キシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、等)、
アリールオキシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルチ
オ基(例えば、メチルチオ、ブチルチオ、3−ジメチル
アミノプロピルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェ
ニルチオ)、ヘテロ環オキシ基(例えば、2−ピリジル
オキシ、2−イミダゾリルオキシ)、ペテロ環チオ基(
例えば、2−ベンズチアゾリルチオ、4−ビラゾリルチ
オ)、スルホニル基(例えば、メタンスルボニル、エタ
ンスルホニルaS、p−)ルエンスルボニル)、カルバ
モイル基(例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバ
モイル)、スルファモイル基(例えば、無置換スルファ
モイル、メチルスルファモイル)、カルボンアミド基(
例えば、アセトアミド、ベンズアミド)、スルボンアミ
ド基(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ
、ベンゾイルオキシ)、ウレイド基(例えば、無置換の
ウレイド、メチルウレイド、エチルウレイド)、アシル
基(例えば、アセチル、ベンゾイル)、チオウレイド基
(例えば無置換のチオウレイド、メチルチオウレイド)
、スルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキ
シ、p−1−ルエンスルホニルオキシ)、ヘテロ環基(
例工ば、1−モルホリノ、1−ピペリジノ、2−ピリジ
ル、4−ピリジル、2−チエニル、1−ピラゾリル、1
−イミダゾリル、2−テトラヒドロフリル、2テトラヒ
ドロチエニル)、オキシカルボニル基(例えば、メトキ
シカルボニル、メチルチオメトキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル)、オキシスルホニル基(例えば、メト
キシスルホニル、フェノキシスルホニル、エトキシスル
ホニル)、オキシカルボニルアミノ基(例えば、エトキ
シカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、4
−ジメチルアミノフェノキシカルボニルアミノ)または
メルカプト基を表わす。
ニトロ基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換のア
ミノ基(塩の形も含む、例えば、アミノ、アミノ基の塩
酸塩、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジメチルアミノ
基の塩酸塩、ジブチルアミノ、ジプロピルアミノ、N−
ジメチルアミノエチル−N−メチルアミノ、等)、四級
アンモニオ基(例えば、トリメチルアンモニオ、ジメチ
ルベンジルアンモニオ)、アルコキシ基(例えば、メト
キシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、等)、
アリールオキシ基(例えば、フェノキシ)、アルキルチ
オ基(例えば、メチルチオ、ブチルチオ、3−ジメチル
アミノプロピルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェ
ニルチオ)、ヘテロ環オキシ基(例えば、2−ピリジル
オキシ、2−イミダゾリルオキシ)、ペテロ環チオ基(
例えば、2−ベンズチアゾリルチオ、4−ビラゾリルチ
オ)、スルホニル基(例えば、メタンスルボニル、エタ
ンスルホニルaS、p−)ルエンスルボニル)、カルバ
モイル基(例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバ
モイル)、スルファモイル基(例えば、無置換スルファ
モイル、メチルスルファモイル)、カルボンアミド基(
例えば、アセトアミド、ベンズアミド)、スルボンアミ
ド基(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホ
ンアミド)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ
、ベンゾイルオキシ)、ウレイド基(例えば、無置換の
ウレイド、メチルウレイド、エチルウレイド)、アシル
基(例えば、アセチル、ベンゾイル)、チオウレイド基
(例えば無置換のチオウレイド、メチルチオウレイド)
、スルホニルオキシ基(例えば、メタンスルホニルオキ
シ、p−1−ルエンスルホニルオキシ)、ヘテロ環基(
例工ば、1−モルホリノ、1−ピペリジノ、2−ピリジ
ル、4−ピリジル、2−チエニル、1−ピラゾリル、1
−イミダゾリル、2−テトラヒドロフリル、2テトラヒ
ドロチエニル)、オキシカルボニル基(例えば、メトキ
シカルボニル、メチルチオメトキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル)、オキシスルホニル基(例えば、メト
キシスルホニル、フェノキシスルホニル、エトキシスル
ホニル)、オキシカルボニルアミノ基(例えば、エトキ
シカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、4
−ジメチルアミノフェノキシカルボニルアミノ)または
メルカプト基を表わす。
nは0または1を表わす。
造核促進効果の点で一般式(Vl)の化合物のうち、好
ましくは、Xが硫黄原子であり、Yが−3−の場合であ
る。またRば直鎖、または、分岐のアルキレンが好まし
い。
ましくは、Xが硫黄原子であり、Yが−3−の場合であ
る。またRば直鎖、または、分岐のアルキレンが好まし
い。
次に一般式(IV)で表わされる化合物について説明す
る。
る。
式中、Qとは一般式(III)のそれらと同義であり、
Qによって形成される複素環としては、例えばインダゾ
ール類、ベンズイミダゾール類、ベンゾトリアゾール類
、ベンズオキサゾール類、ベンズチアゾール類、イミダ
ゾール類、チアゾール類、オキサゾール類、トリアゾー
ル類、テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリア
ザインデン類、ジアザインデン類、ピラゾール類、イン
ドール類等があげられる。
Qによって形成される複素環としては、例えばインダゾ
ール類、ベンズイミダゾール類、ベンゾトリアゾール類
、ベンズオキサゾール類、ベンズチアゾール類、イミダ
ゾール類、チアゾール類、オキサゾール類、トリアゾー
ル類、テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリア
ザインデン類、ジアザインデン類、ピラゾール類、イン
ドール類等があげられる。
これらの複素環は前記−数式(DI)の複素環に適用さ
れる置換基で置換されていてもよく、或いはヒドロキシ
ル基、カルボキシル基またはその塩やスルホン酸基また
はその塩で置換されていてもよい。
れる置換基で置換されていてもよく、或いはヒドロキシ
ル基、カルボキシル基またはその塩やスルホン酸基また
はその塩で置換されていてもよい。
また、−数式(IV)には、−数式(III)でWが窒
素原子で、かつ窒素原子で連結するケースである互変異
性体(Via)も含まれる。
素原子で、かつ窒素原子で連結するケースである互変異
性体(Via)も含まれる。
−数式(Via)
′Q 、、を
式中Q、は、−数式(I[I)のQと同義である。
本発明で用いられる前記造核促進剤は、ベリヒテ・デア
・ドイツチェン・ヘミッツェン・ゲゼルシャフト(Be
richte der Deutschen Chem
ischenGesellschaft) 28、?
?(1895)、特開昭50−37436号、同51−
3231号、米国特許3,295,976号、米国特許
3,376゜310号、ベリヒテ・デア・ドイツチェン
・ヘミッツェン・ゲゼルシャフト(Berichte
derDeutschen Chemischen G
e5ellschaft)、i!、56B (188
9)、同I工、2483 (1896)、ジャーナル
・オプ・ケミカル・ソサイアティ(J。
・ドイツチェン・ヘミッツェン・ゲゼルシャフト(Be
richte der Deutschen Chem
ischenGesellschaft) 28、?
?(1895)、特開昭50−37436号、同51−
3231号、米国特許3,295,976号、米国特許
3,376゜310号、ベリヒテ・デア・ドイツチェン
・ヘミッツェン・ゲゼルシャフト(Berichte
derDeutschen Chemischen G
e5ellschaft)、i!、56B (188
9)、同I工、2483 (1896)、ジャーナル
・オプ・ケミカル・ソサイアティ(J。
Chew、 Soc、) 1■ユI、 1806、ジ
ャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイア
ティ(J、Am、Ches+、Soc、) ?土、40
00 (1949)、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニ
ック・ケミストリー(The Journal of
Organic Chemistry)、 、i土、
779〜801 (1959L同誌■、361〜36
6 (1960)、米国特許2,585゜388号、同
2.541,924号、アドバンシイズ・イン・ヘテロ
サイクリック・ケミストリー(^dvanced in
Heterocyclic Chemistry
)i、165 (196B)、オーガニック・シンセシ
ス(Organic 5ynthesis) N、56
9 (1963)、ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン
・ケミカル・ソサイアテ4 (J、八m、chem、s
oc、) 45.2390(1923)、ヘミシェ・
ベリヒテ(Che+m1scheBerichte)
9.465 (1876) 、特公昭40−2849
6号、特開昭50−89034号、米国特許3,106
,467号、同3. 420. 670号、同2,27
1,229号、同3,137゜578号、同3,148
.066号、同3,511.663号、同3,060,
028号、同3゜271.154号、同3,251.6
91号、同3.598,599号、同3,148,06
6号、特公昭43−4135号、米国特許3,615゜
616号、同3,420.664号、同3,071.4
65号、同2,444,605号、同2゜444.60
6号、同2,444,607号、同2.935,404
号、同2,152,406号、同2,713.541号
、同2,743,181号、同2,743,180号、
同2,887,378号、同2,935.404号、同
2. 444゜609号、同2,933.388号、同
2,891.862号、同2,861,076号、同2
゜735.769号等に記載されている方法により容易
に合成できる。
ャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイア
ティ(J、Am、Ches+、Soc、) ?土、40
00 (1949)、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニ
ック・ケミストリー(The Journal of
Organic Chemistry)、 、i土、
779〜801 (1959L同誌■、361〜36
6 (1960)、米国特許2,585゜388号、同
2.541,924号、アドバンシイズ・イン・ヘテロ
サイクリック・ケミストリー(^dvanced in
Heterocyclic Chemistry
)i、165 (196B)、オーガニック・シンセシ
ス(Organic 5ynthesis) N、56
9 (1963)、ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン
・ケミカル・ソサイアテ4 (J、八m、chem、s
oc、) 45.2390(1923)、ヘミシェ・
ベリヒテ(Che+m1scheBerichte)
9.465 (1876) 、特公昭40−2849
6号、特開昭50−89034号、米国特許3,106
,467号、同3. 420. 670号、同2,27
1,229号、同3,137゜578号、同3,148
.066号、同3,511.663号、同3,060,
028号、同3゜271.154号、同3,251.6
91号、同3.598,599号、同3,148,06
6号、特公昭43−4135号、米国特許3,615゜
616号、同3,420.664号、同3,071.4
65号、同2,444,605号、同2゜444.60
6号、同2,444,607号、同2.935,404
号、同2,152,406号、同2,713.541号
、同2,743,181号、同2,743,180号、
同2,887,378号、同2,935.404号、同
2. 444゜609号、同2,933.388号、同
2,891.862号、同2,861,076号、同2
゜735.769号等に記載されている方法により容易
に合成できる。
次に一般式(1)で表わされる化合物例を示すが本発明
は、これに限定されるものではない。
は、これに限定されるものではない。
HI
HI
ut
OOH
CI!3
H3
C11゜
L
(至)
S
・C0OH
oon
・HCJ
合成例1
例示化合物+11の合成
6−クロロ−1,3−ジメチルウラシルをLtebig
sAnn、Chem、Bd、612. 161 (1
958)記載の以下の方法により合成した。
sAnn、Chem、Bd、612. 161 (1
958)記載の以下の方法により合成した。
1.3−ジメチル尿素276g (3,14モル)とマ
ロン酸376g (3,62モル)を氷酢酸600−に
60〜70℃において溶解する0次いで無水酢酸125
0dを加え、徐々に90℃まで昇温する。6時間かく拌
したのち室温にて一晩放置し、氷酢酸および無水酢酸を
減圧下で留去する。
ロン酸376g (3,62モル)を氷酢酸600−に
60〜70℃において溶解する0次いで無水酢酸125
0dを加え、徐々に90℃まで昇温する。6時間かく拌
したのち室温にて一晩放置し、氷酢酸および無水酢酸を
減圧下で留去する。
残渣を熱いうちにエタノール500sdに注ぎ、析出す
る結晶を濾別し、濃塩酸380−および水400M1に
て2時間加熱還流した後、水冷下で6時間放置する。析
出する結晶を濾別し、少量のエタノールで洗浄し、1.
3−ジメチルバルビッール酸360gを合成した。
る結晶を濾別し、濃塩酸380−および水400M1に
て2時間加熱還流した後、水冷下で6時間放置する。析
出する結晶を濾別し、少量のエタノールで洗浄し、1.
3−ジメチルバルビッール酸360gを合成した。
この1.3−ジメチルバルビッール酸110gに水32
M1を加え、更にオキシ塩化リン800mを徐々に滴下
する。1時間半加熱還流した後、オキシ塩化リンを常圧
下で留去し、残渣を熱いうちに氷に注ぐ、析出する結晶
を濾別し、濾液をクロロホルムにて抽出(X3)L、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する0次いでクロロホルムを留
去し、得られる残渣を先の結晶と合わせ、水より再結晶
することで6−クロロ−1,3−ジメチルウラシル80
gを合成した。
M1を加え、更にオキシ塩化リン800mを徐々に滴下
する。1時間半加熱還流した後、オキシ塩化リンを常圧
下で留去し、残渣を熱いうちに氷に注ぐ、析出する結晶
を濾別し、濾液をクロロホルムにて抽出(X3)L、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する0次いでクロロホルムを留
去し、得られる残渣を先の結晶と合わせ、水より再結晶
することで6−クロロ−1,3−ジメチルウラシル80
gを合成した。
この6−クロロ−1,3−ジメチルウラシル21gのア
セトニトリル溶液7o−に氷冷下(内温5℃)N−クロ
ロサクシイミド16gを添加した。
セトニトリル溶液7o−に氷冷下(内温5℃)N−クロ
ロサクシイミド16gを添加した。
内温か徐々に上昇し、35℃に達した後、さらに1時間
かく拌した0反応液に水7o−を加え析出した結晶をろ
取し、冷アセトニトリル18m1、水18艷の混合溶媒
で洗い、乾燥すると5.6−ジクロロ−1,3−ジメチ
ルウラシル 次に、5−メチルメルカプト−2−メルカプトチアジア
ゾール53gのアセトニトリル溶液3゜−に、1.8−
ジアザビシクロ(5,4,O)ウラデセン−? (D
BU)6gのアセトニトリル溶液20−を滴下し、室温
で1o分かく拌した後、5.6−ジクロロ−1,3−ジ
メチルウラシル6.8gのアセトニトリル溶液15mを
滴下し、室温で2時間かく拌した。減圧下、了セトニト
リルを除き、濃塩酸2Ni、水100−を加え、酢酸エ
チル100−で2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、減圧下、酢酸エチルを除き
、残渣に、n−ヘキサン、酢酸エチルの混合溶媒を加え
、再結晶すると、目的とする例示化合物+11が12.
3g得られた。
かく拌した0反応液に水7o−を加え析出した結晶をろ
取し、冷アセトニトリル18m1、水18艷の混合溶媒
で洗い、乾燥すると5.6−ジクロロ−1,3−ジメチ
ルウラシル 次に、5−メチルメルカプト−2−メルカプトチアジア
ゾール53gのアセトニトリル溶液3゜−に、1.8−
ジアザビシクロ(5,4,O)ウラデセン−? (D
BU)6gのアセトニトリル溶液20−を滴下し、室温
で1o分かく拌した後、5.6−ジクロロ−1,3−ジ
メチルウラシル6.8gのアセトニトリル溶液15mを
滴下し、室温で2時間かく拌した。減圧下、了セトニト
リルを除き、濃塩酸2Ni、水100−を加え、酢酸エ
チル100−で2回抽出した。有機層を集め、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、減圧下、酢酸エチルを除き
、残渣に、n−ヘキサン、酢酸エチルの混合溶媒を加え
、再結晶すると、目的とする例示化合物+11が12.
3g得られた。
合成例2(例示化合物14の合成法)
5.6−ジクロル−1,3−ジメチルウラシル2.1g
と2−(6−シメチルアミノへキシルチオ)−5−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール塩酸塩361gに
アセトニトリル30−を加え、室温下1.8−ジアザビ
シクロ(5,4,0)−7−ウンデセン3.3−を滴下
した。そのまま室温下1時間反応させた後、減圧乾固し
て得られた油状物4.1gをアセトン20dに溶解し、
修酸1gをアセトン20+dに溶解させた溶液を加えて
、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をアセトンと
メチルアルコール5/1の混合溶媒50dから再結晶し
目的物2.3gを得た。
と2−(6−シメチルアミノへキシルチオ)−5−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール塩酸塩361gに
アセトニトリル30−を加え、室温下1.8−ジアザビ
シクロ(5,4,0)−7−ウンデセン3.3−を滴下
した。そのまま室温下1時間反応させた後、減圧乾固し
て得られた油状物4.1gをアセトン20dに溶解し、
修酸1gをアセトン20+dに溶解させた溶液を加えて
、析出した結晶を濾取した。得られた結晶をアセトンと
メチルアルコール5/1の混合溶媒50dから再結晶し
目的物2.3gを得た。
合成例3
例示化合物(5)の合成法
蒸留器具のついた300−の反応容器に2−エチルヘキ
シルアミン50g1カルバミン酸メチル29g、トルエ
ン100+dを入れ、触媒量0.1gのジブチルスズオ
キサイドを加え、加熱、かく拌した0反応生成するメタ
ノールを除き、還流温度が110℃(トルエンの沸点)
になワたら蒸留器具をはずし、代わりに還流器具をつけ
、さらに30分かく拌したのち、放冷した。減圧下、ト
ルエンを除き残渣をn−ヘキサンで洗い、ろ取し、N−
(2−エチルヘキシル)尿素61 g得た。
シルアミン50g1カルバミン酸メチル29g、トルエ
ン100+dを入れ、触媒量0.1gのジブチルスズオ
キサイドを加え、加熱、かく拌した0反応生成するメタ
ノールを除き、還流温度が110℃(トルエンの沸点)
になワたら蒸留器具をはずし、代わりに還流器具をつけ
、さらに30分かく拌したのち、放冷した。減圧下、ト
ルエンを除き残渣をn−ヘキサンで洗い、ろ取し、N−
(2−エチルヘキシル)尿素61 g得た。
得うしたN−(2−エチルヘキシル)尿素50g、マロ
ン酸36g1酢酸100d溶液を、80℃に加熱し4時
間かぐ拌した。放冷後、減圧下酢酸を除き、水100d
、クロロホルム500−を加え抽出した。
ン酸36g1酢酸100d溶液を、80℃に加熱し4時
間かぐ拌した。放冷後、減圧下酢酸を除き、水100d
、クロロホルム500−を加え抽出した。
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液、ついで飽和食塩
水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
、クロロホルムを除き、残渣をn−ヘキサンで洗い、濾
取するとN−(2−エチルヘキシル)バルビッール酸6
4g’lc得た。
水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
、クロロホルムを除き、残渣をn−ヘキサンで洗い、濾
取するとN−(2−エチルヘキシル)バルビッール酸6
4g’lc得た。
得られたN−(2−エチルヘキシル)バルビッール酸4
0g、にオキシ塩化リン120−を加え更に水3−を徐
々に滴下する。2時間加熱還流した後、オキシ塩化リン
を常圧下で留去し、残渣を熱いうちに氷に注ぐ、さらに
クロロホルム20〇−で3回抽出し、有機層を集め、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。
0g、にオキシ塩化リン120−を加え更に水3−を徐
々に滴下する。2時間加熱還流した後、オキシ塩化リン
を常圧下で留去し、残渣を熱いうちに氷に注ぐ、さらに
クロロホルム20〇−で3回抽出し、有機層を集め、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。
次いで、減圧下、クロロホルムを除き、得られる残渣に
n−ヘキサンを加え、析出した結晶をろ取した。酢酸エ
チルで再結晶し、6−クロロ−3−(2−エチルヘキシ
ル)ウラシル32gを黄色結晶として得た。
n−ヘキサンを加え、析出した結晶をろ取した。酢酸エ
チルで再結晶し、6−クロロ−3−(2−エチルヘキシ
ル)ウラシル32gを黄色結晶として得た。
得られた6−クロロ−3−(2−エチルヘキシル)ウラ
シル20gのジメチルホルムアミド5〇−溶液に、tt
gの炭酸カリウムを加え、さらに12.1gのヨードメ
チルを加え室温下1時間半かく拌した0反応液を濾過し
、濾液を水にあけ、クロロホルム100−で2回抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下、クロロホルムを除き、油状物と
して6−クロロ−3−(2−エチルヘキシル)−1−メ
チル−ウラシル21gを得た。
シル20gのジメチルホルムアミド5〇−溶液に、tt
gの炭酸カリウムを加え、さらに12.1gのヨードメ
チルを加え室温下1時間半かく拌した0反応液を濾過し
、濾液を水にあけ、クロロホルム100−で2回抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下、クロロホルムを除き、油状物と
して6−クロロ−3−(2−エチルヘキシル)−1−メ
チル−ウラシル21gを得た。
得られた6−クロロ−3−(2−エチルヘキシル)−1
−メチル−ウラシル20gのアセトニトリル溶液50−
にN−クロロサクシイミド8.6gを加え、40℃に加
熱し2時間かく拌した。放冷後、減圧下、アセトニトリ
ルを除き、残渣に水を加え、クロロホルム100−で抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗い無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下クロロホルムを除き、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィで精製し、油状物として5.
6−ジクロロ−3−(2−エチルヘキシル)−1−メチ
ルウラシル22gを得た。
−メチル−ウラシル20gのアセトニトリル溶液50−
にN−クロロサクシイミド8.6gを加え、40℃に加
熱し2時間かく拌した。放冷後、減圧下、アセトニトリ
ルを除き、残渣に水を加え、クロロホルム100−で抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗い無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下クロロホルムを除き、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィで精製し、油状物として5.
6−ジクロロ−3−(2−エチルヘキシル)−1−メチ
ルウラシル22gを得た。
次に6−メチル−4−メルカプト−1,3,3a、7−
テトラアザインデン9gの7セトニトリル溶液50H1
に、1,8−ジアザビシクロ〔5゜4.0〕ウンデセン
−7(DBU)8.3gのアセトニトリル溶液を滴下し
、室温でかく拌した。
テトラアザインデン9gの7セトニトリル溶液50H1
に、1,8−ジアザビシクロ〔5゜4.0〕ウンデセン
−7(DBU)8.3gのアセトニトリル溶液を滴下し
、室温でかく拌した。
10分後、5.6−ジクロロ−3−(2−エチルヘキシ
ル)l−メチルウラシル16.7gのアセトニトリル溶
液30−を滴下し、室温下、2時間かく拌した。減圧下
、アセトニトリルを除き、濃塩酸3d、水50−を加え
、クロロホルム100dで2回抽出した。有機層を集め
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、クロロホル
ムを除き、残渣に、n−ヘキサンを加え、析出した結晶
を濾取すると、目的とする例示化合物(5)が23.7
g得られた。
ル)l−メチルウラシル16.7gのアセトニトリル溶
液30−を滴下し、室温下、2時間かく拌した。減圧下
、アセトニトリルを除き、濃塩酸3d、水50−を加え
、クロロホルム100dで2回抽出した。有機層を集め
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、クロロホル
ムを除き、残渣に、n−ヘキサンを加え、析出した結晶
を濾取すると、目的とする例示化合物(5)が23.7
g得られた。
合成例4 例示化合物(7)の合成
ジメドン100g (0,71モル)のクロロホルム2
0〇−溶液に三塩化リン21−を加え、3時間加熱還流
する。反応液に氷水を加えて反応を停止し、クロロホル
ムを減圧下で留去し、水層を酢酸エチルで抽出する。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮
し、残渣を減圧莫留により精製し、3−クロロ−5,5
−ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン45gを合
成した。
0〇−溶液に三塩化リン21−を加え、3時間加熱還流
する。反応液に氷水を加えて反応を停止し、クロロホル
ムを減圧下で留去し、水層を酢酸エチルで抽出する。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で濃縮
し、残渣を減圧莫留により精製し、3−クロロ−5,5
−ジメチル−2−シクロヘキセン−1−オン45gを合
成した。
収率40%、沸点95℃/18鶴Hg
3−メルカプト−4−フェニル−1,2,4トリアゾ一
ル7gのアセトニトリル301R1溶液に1.8−ジア
ザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)6
.4gのアセトニトリル溶液10−を滴下し、室温で1
0分かく拌した後、3−クロロ−5,5−ジメチル−2
−シクロヘキセン−1オン6.1gのアセトニトリル溶
液15dを滴下し、室温下、2時間かく拌した。減圧下
、アセトニトリルを除き、濃塩酸3−1水50adを加
えクロロホルム100mfで抽出した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、クロロホルムを除き
、残渣にジエチルエーテルを加え、析出した結晶を濾取
し、n−ヘキサンから再結晶すると、目的とする例示化
合物(刀が10.8g得られた。
ル7gのアセトニトリル301R1溶液に1.8−ジア
ザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)6
.4gのアセトニトリル溶液10−を滴下し、室温で1
0分かく拌した後、3−クロロ−5,5−ジメチル−2
−シクロヘキセン−1オン6.1gのアセトニトリル溶
液15dを滴下し、室温下、2時間かく拌した。減圧下
、アセトニトリルを除き、濃塩酸3−1水50adを加
えクロロホルム100mfで抽出した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下、クロロホルムを除き
、残渣にジエチルエーテルを加え、析出した結晶を濾取
し、n−ヘキサンから再結晶すると、目的とする例示化
合物(刀が10.8g得られた。
合成例5
例示化合物頭の合成
シクロヘキサノン20g (0,2モル)とギ酸エチル
エステル16g (0,2モル)ヲ乾燥エーテル400
−に溶解し、水浴にて冷却しながら、NaH(60%含
量)16g (0,4モル)を1時間かけて加える。添
加終了後6時間、室温にてかくはんする0反応層合物(
Bが沈澱する)を再び水浴にて冷却しながらPCl52
7g (0,2モル)のエーテル溶液150dを滴下す
る。滴下終了後室温にて3時間か(はんし、生成した沈
澱物を減圧濾去する。母液を濃縮すると油状物が31g
得られる、精製することなくこの油状物をアセトニトリ
ル100dに溶解し、滴下ロートより6−メチル−4−
メルカプト−1,3,3a、7=ペンタアザインデン3
3gがアセトニトリル300−に溶解している系中へ、
室温にて滴下した。
エステル16g (0,2モル)ヲ乾燥エーテル400
−に溶解し、水浴にて冷却しながら、NaH(60%含
量)16g (0,4モル)を1時間かけて加える。添
加終了後6時間、室温にてかくはんする0反応層合物(
Bが沈澱する)を再び水浴にて冷却しながらPCl52
7g (0,2モル)のエーテル溶液150dを滴下す
る。滴下終了後室温にて3時間か(はんし、生成した沈
澱物を減圧濾去する。母液を濃縮すると油状物が31g
得られる、精製することなくこの油状物をアセトニトリ
ル100dに溶解し、滴下ロートより6−メチル−4−
メルカプト−1,3,3a、7=ペンタアザインデン3
3gがアセトニトリル300−に溶解している系中へ、
室温にて滴下した。
反応混合物を6時間かく拌した後、減圧下、アセトニト
リルを除いた。残渣に塩酸5d、水20〇−を加え、5
00−クロロホルムで2回抽出した。
リルを除いた。残渣に塩酸5d、水20〇−を加え、5
00−クロロホルムで2回抽出した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、クロ
ロホルムを留去すると粗結晶55gが得られた。これを
アセトニトリルで再結晶すると目的とする例示化合物0
0が35g得られた。
ロホルムを留去すると粗結晶55gが得られた。これを
アセトニトリルで再結晶すると目的とする例示化合物0
0が35g得られた。
本発明の一般式(1)で表わされる化合物の使用量は、
好ましくは、ハロゲン化銀1モル当りIX 10−’
−10−”モルでありより好ましくは、lXl0−’〜
10−”モルである。
好ましくは、ハロゲン化銀1モル当りIX 10−’
−10−”モルでありより好ましくは、lXl0−’〜
10−”モルである。
本発明において、一般式(I)で表わされる化合物を写
真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤
層に含有させるのが好ましいが、それ以外の非感光性の
親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィルター
層、ハレーション防土層など)に含有させてもよい。具
体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液とし
て、また難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類
、ケトン類THFなどの水と混和しうる有機溶媒あるい
はゼラチン界面活性剤などで溶解し、分散して、親水性
コロイド溶液に添加すればよい。又、後述するカプラー
と同様に高沸点有機溶媒に溶解させ、ホモジナイザーに
よって乳化分散させることもできる。ハロゲン化銀乳剤
層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの任
意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の
間に添加するのが好ましい、特に塗布のために用意され
た塗布液中に添加するのがよい。
真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤
層に含有させるのが好ましいが、それ以外の非感光性の
親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィルター
層、ハレーション防土層など)に含有させてもよい。具
体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液とし
て、また難水溶性の場合にはアルコール類、エステル類
、ケトン類THFなどの水と混和しうる有機溶媒あるい
はゼラチン界面活性剤などで溶解し、分散して、親水性
コロイド溶液に添加すればよい。又、後述するカプラー
と同様に高沸点有機溶媒に溶解させ、ホモジナイザーに
よって乳化分散させることもできる。ハロゲン化銀乳剤
層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布前までの任
意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の
間に添加するのが好ましい、特に塗布のために用意され
た塗布液中に添加するのがよい。
また二種以上の一般式(1)で示される化合物を使用す
ることもできる。
ることもできる。
ここで一般式(I)の化合物は特開昭63−8740号
、特願昭61−136948号、同61136949号
、同61−252846号、同62−310029号、
に記載の造核促進剤と併用してもよい。
、特願昭61−136948号、同61136949号
、同61−252846号、同62−310029号、
に記載の造核促進剤と併用してもよい。
本発明に用いる予めかぶらされていない内部潜像型ハロ
ゲン化銀乳剤はハロゲン化銀粒子の表面が予めかぶらさ
れてなく、しかも潜像を主として粒子内部に形成するハ
ロゲン化銀を含有する乳剤であるが、更に具体的には、
ハロゲン化銀乳剤を透明支持体上に一定量(0,5〜3
g/rrr)塗布し、これに0.01ないし10秒の固
定された時間で露光を与え下記現像液A(内部型現像液
)中で、18℃で5分間現像したとき通常の写真濃度測
定方法によって測られる最大濃度が、上記と同量塗布し
て同様にして露光したハロゲン化銀乳剤を下記現像WI
B (表面型現像液)中で20℃で6分間現像した場合
に得られる最大濃度の、少なくとも5倍大きい濃度を有
するものが好ましく、より好ましくは少なくとも10倍
大きい濃度を有するものである。
ゲン化銀乳剤はハロゲン化銀粒子の表面が予めかぶらさ
れてなく、しかも潜像を主として粒子内部に形成するハ
ロゲン化銀を含有する乳剤であるが、更に具体的には、
ハロゲン化銀乳剤を透明支持体上に一定量(0,5〜3
g/rrr)塗布し、これに0.01ないし10秒の固
定された時間で露光を与え下記現像液A(内部型現像液
)中で、18℃で5分間現像したとき通常の写真濃度測
定方法によって測られる最大濃度が、上記と同量塗布し
て同様にして露光したハロゲン化銀乳剤を下記現像WI
B (表面型現像液)中で20℃で6分間現像した場合
に得られる最大濃度の、少なくとも5倍大きい濃度を有
するものが好ましく、より好ましくは少なくとも10倍
大きい濃度を有するものである。
内部現像液A
メトール 2g亜硫酸ソーダ
(無水) 90gハイドロキノン
8g炭酸ソーダ(−水塩”)
52.5gKBr
5gKI Q、
5g水を加えて 11内部現
像液B メトール 2.5gL−アスコル
ビン酸 10gNaBOz’ 4HzO
35g KBr 1g水を加え
て IIl内潜内乳型乳剤体
例としては例えば、米国特許第2,592,250号に
明細書に記載されているコンバージョン型ハロゲン化銀
乳剤、米国特許3.761.’276号、同3,850
.637号、同3,923.513号、同4,035,
185号、同4,395,478号、同4.504.5
70号、特開昭52−156614号、同551275
49号、同53−60222号、同5622681号、
同59−208540号、同60−107641号、同
61−3137号、特願昭61−32462号、リサー
チディスクロージャー誌隘23510 (1983年1
1月発行)p236に開示されている特許に記載のコア
/シェル型ハロゲン化銀乳剤を挙げることができる。
(無水) 90gハイドロキノン
8g炭酸ソーダ(−水塩”)
52.5gKBr
5gKI Q、
5g水を加えて 11内部現
像液B メトール 2.5gL−アスコル
ビン酸 10gNaBOz’ 4HzO
35g KBr 1g水を加え
て IIl内潜内乳型乳剤体
例としては例えば、米国特許第2,592,250号に
明細書に記載されているコンバージョン型ハロゲン化銀
乳剤、米国特許3.761.’276号、同3,850
.637号、同3,923.513号、同4,035,
185号、同4,395,478号、同4.504.5
70号、特開昭52−156614号、同551275
49号、同53−60222号、同5622681号、
同59−208540号、同60−107641号、同
61−3137号、特願昭61−32462号、リサー
チディスクロージャー誌隘23510 (1983年1
1月発行)p236に開示されている特許に記載のコア
/シェル型ハロゲン化銀乳剤を挙げることができる。
本発明に使用するハロゲン化銀粒子の形は立方体、八面
体、十二面体、十四面体の様な規則的な結晶体、球状な
どのような変則的な結晶形、また、長さ/厚み比の値が
5以上の平板状の形の粒子を用いてもよい。また、これ
ら種々の結晶形の複合形をもつもの、またそれらの混合
から成る乳剤であってもよい。
体、十二面体、十四面体の様な規則的な結晶体、球状な
どのような変則的な結晶形、また、長さ/厚み比の値が
5以上の平板状の形の粒子を用いてもよい。また、これ
ら種々の結晶形の複合形をもつもの、またそれらの混合
から成る乳剤であってもよい。
ハロゲン化銀の組成としては、塩化銀、臭化銀混合ハロ
ゲン化銀があり、本発明に好ましく使用されるハロゲン
化銀は沃化銀を含まないか含んでも3モル%以下の塩(
沃)臭化銀、(沃)塩化銀または(沃)臭化銀である。
ゲン化銀があり、本発明に好ましく使用されるハロゲン
化銀は沃化銀を含まないか含んでも3モル%以下の塩(
沃)臭化銀、(沃)塩化銀または(沃)臭化銀である。
ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズは、2μm以下で0
.1μm以上が好ましいが、特に好ましいのは1μm以
下0.15μm以上である0粒子サイズ分布は狭くても
広くてもいずれでもよいが、粒状性や鮮鋭度等の改良の
ために粒子数あるいは重量で平均粒子サイズの140%
以内、好ましくは±20%以内に全粒子の90%以上が
入るような粒子サイズ分布の狭い、いわゆる「単分散」
ハロゲン化銀乳剤を本発明に使用するのが好ましい。
.1μm以上が好ましいが、特に好ましいのは1μm以
下0.15μm以上である0粒子サイズ分布は狭くても
広くてもいずれでもよいが、粒状性や鮮鋭度等の改良の
ために粒子数あるいは重量で平均粒子サイズの140%
以内、好ましくは±20%以内に全粒子の90%以上が
入るような粒子サイズ分布の狭い、いわゆる「単分散」
ハロゲン化銀乳剤を本発明に使用するのが好ましい。
また感光材料が目標とする階調を満足させるために、実
質的に同一の感色性を有する乳剤層において粒子サイズ
の異なる2種以上の単分散ハロゲン化銀乳剤もしくは同
一サイズで感度の異なる複数の粒子を同一層に混合また
は別層に重層塗布することができる。さらに2種類以上
の多分散ハロゲン化銀乳剤あるいは単分散乳剤と多分散
乳剤との組合わせを混合あるいは重層して使用すること
もできる。
質的に同一の感色性を有する乳剤層において粒子サイズ
の異なる2種以上の単分散ハロゲン化銀乳剤もしくは同
一サイズで感度の異なる複数の粒子を同一層に混合また
は別層に重層塗布することができる。さらに2種類以上
の多分散ハロゲン化銀乳剤あるいは単分散乳剤と多分散
乳剤との組合わせを混合あるいは重層して使用すること
もできる。
本発明に使用するハロゲン化銀乳剤は、粒子内部または
表面に硫黄もしくはセレン増感、還元増悪、貴金属増感
などの単独もしくは併用により化学増感することができ
る。詳しい具体例は、例えばリサーチ・ディスクロージ
ャー誌m17643[[(1978年12月発行)P2
3などに記載の特許にある。
表面に硫黄もしくはセレン増感、還元増悪、貴金属増感
などの単独もしくは併用により化学増感することができ
る。詳しい具体例は、例えばリサーチ・ディスクロージ
ャー誌m17643[[(1978年12月発行)P2
3などに記載の特許にある。
本発明に用いる写真乳剤は、慣用の方法で写真用増感色
素によって分光増感される。特に有用な色素は、シアニ
ン色素、メロシアニン色素および複合メロシアニン色素
に属する色素であり、これらの色素は単独又は組合せて
使用できる。また上記の色素と強色増感剤を併用しても
よい、詳しい具体例は、例えばリサーチ・ディスクロー
ジャー誌隨1’7643−IV(1978年12月発行
)P23〜24などに記載の特許にある。
素によって分光増感される。特に有用な色素は、シアニ
ン色素、メロシアニン色素および複合メロシアニン色素
に属する色素であり、これらの色素は単独又は組合せて
使用できる。また上記の色素と強色増感剤を併用しても
よい、詳しい具体例は、例えばリサーチ・ディスクロー
ジャー誌隨1’7643−IV(1978年12月発行
)P23〜24などに記載の特許にある。
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程
、保存中あるいは写真処理中のカプリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的でカブリ防止剤または安
定剤を含有させることができる。詳しい具体例は、例え
ばリサーチ・ディスクロージャー誌胤17643−Vl
(19’78年12月発行)および、E、J、Btrr
著”5tabilizationof Photogr
aphtc 5ilver 1laflde E@ul
sion(Focal Press)、1974年刊な
どに記載されている。
、保存中あるいは写真処理中のカプリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的でカブリ防止剤または安
定剤を含有させることができる。詳しい具体例は、例え
ばリサーチ・ディスクロージャー誌胤17643−Vl
(19’78年12月発行)および、E、J、Btrr
著”5tabilizationof Photogr
aphtc 5ilver 1laflde E@ul
sion(Focal Press)、1974年刊な
どに記載されている。
本発明のかぶり処理は下記の「光かぶり法」及び/又は
「化学的かぶり法」によりなされる。
「化学的かぶり法」によりなされる。
本発明の「光かぶり法」における全面露光すなわちかぶ
り露光は、像様露光後、現像処理および/または現像処
理中に行われる。像様露光した感光材料を現像液中、あ
るいは現像液の前浴中に浸漬し、あるいはこれもの液よ
り取り出して乾燥しないうちに露光を行うが、現像液中
で露光するのが最も好ましい。
り露光は、像様露光後、現像処理および/または現像処
理中に行われる。像様露光した感光材料を現像液中、あ
るいは現像液の前浴中に浸漬し、あるいはこれもの液よ
り取り出して乾燥しないうちに露光を行うが、現像液中
で露光するのが最も好ましい。
かぶり露光の光源としては、感光材料の感光波長内の光
源を使用すればよく、一般に蛍光灯、タングステンラン
プ、キセノンランプ、大陽光等、いずれも使用しうる。
源を使用すればよく、一般に蛍光灯、タングステンラン
プ、キセノンランプ、大陽光等、いずれも使用しうる。
これらの具体的な方法は、例えば英国特許1,151,
363号、特公昭45−12710号、同45−127
09号、同5B−6936号、特開昭48−9727号
、同56−137350号、同57−129438号、
同58−62652号、同5B−60739号、同58
−70223号(対応米国特許4,440゜851号)
、同58−120240号(対応欧州特許89101A
2号)などに記載されている。
363号、特公昭45−12710号、同45−127
09号、同5B−6936号、特開昭48−9727号
、同56−137350号、同57−129438号、
同58−62652号、同5B−60739号、同58
−70223号(対応米国特許4,440゜851号)
、同58−120240号(対応欧州特許89101A
2号)などに記載されている。
全波長域に感光性をもつ感光材料、たとえばカラー感光
材料では特開昭56−137350号や同58−702
23号に記載されているような演色性の高い(なるべく
白色に近い)光源がよい、光の照度は0.O1〜200
0ルックス、好ましくは0.05〜30ルツクス、より
好ましくは0゜05〜5ルツクスが適当である。より高
感度の乳剤を使用している感光材料はど、低照度の感光
の方が好ましい。照度の調整は、光源の光度を変化させ
てもよいし、各種フィルター類による減光や、感光材料
と光源の距離、感光材料と光源の角度を変化させてもよ
い。また上記かぶり光の照度を低照度から高照度へ連続
的に、又は段階的に増加させることもできる。
材料では特開昭56−137350号や同58−702
23号に記載されているような演色性の高い(なるべく
白色に近い)光源がよい、光の照度は0.O1〜200
0ルックス、好ましくは0.05〜30ルツクス、より
好ましくは0゜05〜5ルツクスが適当である。より高
感度の乳剤を使用している感光材料はど、低照度の感光
の方が好ましい。照度の調整は、光源の光度を変化させ
てもよいし、各種フィルター類による減光や、感光材料
と光源の距離、感光材料と光源の角度を変化させてもよ
い。また上記かぶり光の照度を低照度から高照度へ連続
的に、又は段階的に増加させることもできる。
現像液またはその前浴の液に感光材料を漫消し、液が感
光材料の乳剤層に十分に浸透してから光照射するのがよ
い、液に浸透してから光かふり露光をするまでの時間は
、一般に2秒〜2分、好ましくは5秒〜1分、より好ま
しくは10秒〜30秒である。
光材料の乳剤層に十分に浸透してから光照射するのがよ
い、液に浸透してから光かふり露光をするまでの時間は
、一般に2秒〜2分、好ましくは5秒〜1分、より好ま
しくは10秒〜30秒である。
かぶりのための露光時間は、一般に0.01秒〜2分、
好ましくは0.1秒〜1分、さらに好ましくは1秒〜4
0秒である。
好ましくは0.1秒〜1分、さらに好ましくは1秒〜4
0秒である。
本発明において、いわゆる「化学的かぶり法」を施す場
合に使用する造核剤は感光材料中または感光材料の処理
液に含有させる事ができる。好ましくは感光材料中に含
有させる事ができる。
合に使用する造核剤は感光材料中または感光材料の処理
液に含有させる事ができる。好ましくは感光材料中に含
有させる事ができる。
ここで、「造核剤」とは、予めかぶらされていない内部
潜像型ハロゲン化銀乳剤を表面現像処理する際に作用し
て直接ポジ像を形成する働きをする物質である。とくに
、本発明においては、造核剤によりかぶり処理を施すこ
とが好ましい。
潜像型ハロゲン化銀乳剤を表面現像処理する際に作用し
て直接ポジ像を形成する働きをする物質である。とくに
、本発明においては、造核剤によりかぶり処理を施すこ
とが好ましい。
造核剤は一般式(1)で表わされる化合物は、写真感光
材料中の同一層であってもよいし、異なった層に含有さ
せてもよい。
材料中の同一層であってもよいし、異なった層に含有さ
せてもよい。
本発明に好ましく用いられる造核剤は、下記の一般式(
■)及び(■)で表わされる。
■)及び(■)で表わされる。
−数式(■)
(式中、Zは5ないし6員の複素環を形成するに必要な
非金属原子群を表わし、Zは置換基で置換されていても
よい、R37は脂肪族基であり、R18は水素原子、脂
肪族基または芳香族基である。
非金属原子群を表わし、Zは置換基で置換されていても
よい、R37は脂肪族基であり、R18は水素原子、脂
肪族基または芳香族基である。
R1?及びR11は置換基で置換されていてもよい。
また、R2,は更にZで完成される複素環と結合して環
を形成してもよい、但し、Ro、RIS及びZで表わさ
れる基のうち、少なくとも一つは、アルキニル基、アシ
ル基、ヒドラジン基またはヒドラゾン基を含むか、また
はR1とR1,とで6員環を形成し、ジヒドロピリジニ
ウム骨格を形成する。
を形成してもよい、但し、Ro、RIS及びZで表わさ
れる基のうち、少なくとも一つは、アルキニル基、アシ
ル基、ヒドラジン基またはヒドラゾン基を含むか、また
はR1とR1,とで6員環を形成し、ジヒドロピリジニ
ウム骨格を形成する。
さらにR1?、R1,及びZの置換基のうち少なくとも
一つは、ハロゲン化銀への吸着促進基を有してもよい。
一つは、ハロゲン化銀への吸着促進基を有してもよい。
Xは電荷バランスのための対イオンであり、mはOまた
は1である。
は1である。
更に詳しく説明すると、Zで完成される複素環は、例え
ばキノリニウム、ベンゾチアゾリウム、ベンズイミダゾ
リウム、ピリジニウム、チアゾリニウム、チアゾリウム
、ナフトチアゾリウム、セレナゾリウム、ベンゾセレナ
ゾリウム、イミダゾリウム、テトラゾリウム、インドレ
ニウム、ピロリニウム、アクリジニウム、フェナンスリ
ジニウム、イソキノリニウム、オキサシリウム、ナフト
オキサシリウム及びベンズオキサシリウム核があげられ
る。Zの置換基としては、アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、アリール基、アルキニル基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、了り−ルオキシ基、ハロゲン原子、
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオ
キシ基、アシルアミノ基、スルホニル基、スルホニルオ
キシ基、スルホニルアミノ基、カルボキシル基、アシル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シ
アノ基、ウレイド基、ウレタン基、炭酸エステル基、ヒ
ドラジン基、ヒドラゾン基、またはイミノ基などがあげ
られる。Zの置換基としては、例えば上記置換基の中か
ら少なくとも1個選ばれるが、2個以上の場合は同じで
も異なっていてもよい。また上記置換基はこれらの置換
基でさらに置換されていてもよい。
ばキノリニウム、ベンゾチアゾリウム、ベンズイミダゾ
リウム、ピリジニウム、チアゾリニウム、チアゾリウム
、ナフトチアゾリウム、セレナゾリウム、ベンゾセレナ
ゾリウム、イミダゾリウム、テトラゾリウム、インドレ
ニウム、ピロリニウム、アクリジニウム、フェナンスリ
ジニウム、イソキノリニウム、オキサシリウム、ナフト
オキサシリウム及びベンズオキサシリウム核があげられ
る。Zの置換基としては、アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、アリール基、アルキニル基、ヒドロキシ
基、アルコキシ基、了り−ルオキシ基、ハロゲン原子、
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオ
キシ基、アシルアミノ基、スルホニル基、スルホニルオ
キシ基、スルホニルアミノ基、カルボキシル基、アシル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シ
アノ基、ウレイド基、ウレタン基、炭酸エステル基、ヒ
ドラジン基、ヒドラゾン基、またはイミノ基などがあげ
られる。Zの置換基としては、例えば上記置換基の中か
ら少なくとも1個選ばれるが、2個以上の場合は同じで
も異なっていてもよい。また上記置換基はこれらの置換
基でさらに置換されていてもよい。
更にZ装置m基として、適当な連結基りを介してZの完
成される複素環四級アンモニウム基を有してもよい。こ
の場合はいわゆるダイマーの構造を取る。
成される複素環四級アンモニウム基を有してもよい。こ
の場合はいわゆるダイマーの構造を取る。
Zで完成される複素環として、好ましくはキノリニウム
、ベンゾチアゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピリジ
ニウム、アクリジニウム、フエナンスリジニウム、及び
イソキノリニウム核があげられる。更に好ましくはキノ
リニウム、ベンゾチアゾリウムである。
、ベンゾチアゾリウム、ベンズイミダゾリウム、ピリジ
ニウム、アクリジニウム、フエナンスリジニウム、及び
イソキノリニウム核があげられる。更に好ましくはキノ
リニウム、ベンゾチアゾリウムである。
R1?及びR11の脂肪族基は、炭素数1〜18個の無
置換アルキル基およびアルキル部分の炭素数が1〜18
個の置換アルキル基である。置換基としては、Zの置換
基として述べたものがあげられる。
置換アルキル基およびアルキル部分の炭素数が1〜18
個の置換アルキル基である。置換基としては、Zの置換
基として述べたものがあげられる。
R11+で表わされる芳香族基は炭素数6〜20個のも
ので、例えばフェニル基、ナフチル基などがあげられる
。置換基としてはZの置換基として述べたものがあげら
れる。
ので、例えばフェニル基、ナフチル基などがあげられる
。置換基としてはZの置換基として述べたものがあげら
れる。
Rtt、R1,及びZで表わされる基のうち、少なくと
も一つはアルキニル基、アシル基、ヒドラジン基、また
はヒドラジン基を有するか、またはRttとR1とで6
員環を形成し、ジヒドロピリジニウム骨核を形成するが
、これらはZで表わされる基への置換基として先に述べ
た基で置換されていてもよい。
も一つはアルキニル基、アシル基、ヒドラジン基、また
はヒドラジン基を有するか、またはRttとR1とで6
員環を形成し、ジヒドロピリジニウム骨核を形成するが
、これらはZで表わされる基への置換基として先に述べ
た基で置換されていてもよい。
Rtt、Rtt及びZで表わされる基または環への置換
基の少なくとも1つは、アルキニル基またはアシル基で
ある場合、あるいはRttとRttとが連結してジヒド
ロピリジニウム骨核を形成する場合が好ましい。
基の少なくとも1つは、アルキニル基またはアシル基で
ある場合、あるいはRttとRttとが連結してジヒド
ロピリジニウム骨核を形成する場合が好ましい。
これらの化合物及びその合成法は、例えばリサーチーデ
イスクロージ+ −(Research Disclo
sure)誌11m22.534 (1983年1月発
行、50〜54頁)、及び同Na23,213 (19
83年8月発行、267〜270頁)に引用された特許
、特公昭49−38,164号、同52−19.452
号、同52−47,326号、特開昭52−69.61
3号、同52−3,426号、同55138.742号
、同60−11,837号、米国特許第4,306,0
16号、及び同4.471.044号に記載されている
。
イスクロージ+ −(Research Disclo
sure)誌11m22.534 (1983年1月発
行、50〜54頁)、及び同Na23,213 (19
83年8月発行、267〜270頁)に引用された特許
、特公昭49−38,164号、同52−19.452
号、同52−47,326号、特開昭52−69.61
3号、同52−3,426号、同55138.742号
、同60−11,837号、米国特許第4,306,0
16号、及び同4.471.044号に記載されている
。
−C式(■)で表わされる化合物の具体例を以下にあげ
る。
る。
(■−1)
CH,C=CH
(■−2)
CI(。
(■−3)
(■−7)
(■−4)
CH,C:CI
(■−8)
H
cnzc=cn
(■−5)
cthcミCH
(■−9)
co、c=c■
1゛
C1I□C=CU
(■−10)
CB、C=CH
C1hC=CH
CI 、CミCI
(■−15)
CH,C=CI(
(■−16)
1゛
CHtC=Ct1
C1(2CミCH
C)l 、C= C)l
cn 、c = C)l
一般式(■)
R?−N−N−G、−R宝
I Az
式中、R?は脂肪族基または芳香族基を表わし、[は水
素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシカ
ルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニル
基、スルホキシ基、P−基、又はイミノメチレン基を表
わし、A1、R? A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が
置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換
もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もし
くは無置換のアシル基を表わす。
素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシカ
ルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニル
基、スルホキシ基、P−基、又はイミノメチレン基を表
わし、A1、R? A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が
置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換
もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もし
くは無置換のアシル基を表わす。
一般式(■)において、R?で表わされる脂肪族基は好
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化
されていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
こで分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへ
テロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化
されていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基
、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カ
ルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
−数式(■)においてR?で表される芳香族基は単環ま
たは2環の7リール基または不飽和へテロ環基である。
たは2環の7リール基または不飽和へテロ環基である。
ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R?のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、ア
ラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3
の単環または2環)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜20)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキル基で置換されたアミノ)、アシルアミノ基(
好ましくは炭素数2〜30)、スルホンアミド基(好ま
しく炭素数1〜30)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30)などがある。
いてもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、ア
ラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3
の単環または2環)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜20)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキル基で置換されたアミノ)、アシルアミノ基(
好ましくは炭素数2〜30)、スルホンアミド基(好ま
しく炭素数1〜30)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30)などがある。
−数式(■)においてR?で表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
アリール基としては単環または2環の了り−ル基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホ基などで置換されていてもよい
。
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホ基などで置換されていてもよい
。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1−10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
At、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0
,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル
基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上とな
るように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分
岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基
としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンア
ミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基が挙げられる。))−数式(■)で示される
化合物の具体例を以下に示す。
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0
,5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル
基、又はハメットの置換基定数の和が−0,5以上とな
るように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分
岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基
としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンア
ミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基が挙げられる。))−数式(■)で示される
化合物の具体例を以下に示す。
(■−1)
(■−6)
(■−2)
(■−7)
(■−4)
(■−8)
H
(■−5)
(■−9)
cHzcHzcHzsH
(■−10)
(■−11)
(■−12)
(■−13)
(■−18)
(■−21)
(■−14)
(■−16)
(■−17)
LLs11++
5lhNHにH1
(■−22)
(■−23)
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCfl DISCLO5UR
E l tea23516 (1983年11月号、P
、346)およびそこに引用された文献の他、米国特許
4゜080.207号、同4,269.929号、同4
.276.364号、同4,278,748号、同4,
385.108号、同4,459.347号、同4,5
60,638号、同4,478,928号、英国特許2
,011,391B、特開昭60−179734号、同
62−270.948号、同63−29.751号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、Ep21?、310号等に記載
されたものを用いることができる。
ものの他に、RESEARCfl DISCLO5UR
E l tea23516 (1983年11月号、P
、346)およびそこに引用された文献の他、米国特許
4゜080.207号、同4,269.929号、同4
.276.364号、同4,278,748号、同4,
385.108号、同4,459.347号、同4,5
60,638号、同4,478,928号、英国特許2
,011,391B、特開昭60−179734号、同
62−270.948号、同63−29.751号、特
開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、Ep21?、310号等に記載
されたものを用いることができる。
本発明に使用される造核剤は感材中または感材の処理液
に含有させる事ができ、好ましくは感材中に含有させる
事ができる。また造核剤は2種以上併用してもよい。
に含有させる事ができ、好ましくは感材中に含有させる
事ができる。また造核剤は2種以上併用してもよい。
感材中に含有させる場合は、内層型ハロゲン化銀乳剤層
に添加することが好ましいが、塗布中、或いは処理中に
拡散して造核剤がハロゲン化銀に吸着する限り、他の層
たとえば、中間層、下塗り層やバック層に添加してもよ
い。造核剤を処理液に添加する場合は、現像液または特
開昭58−178350号に記載されているような低p
Hの前浴に含有してもよい。
に添加することが好ましいが、塗布中、或いは処理中に
拡散して造核剤がハロゲン化銀に吸着する限り、他の層
たとえば、中間層、下塗り層やバック層に添加してもよ
い。造核剤を処理液に添加する場合は、現像液または特
開昭58−178350号に記載されているような低p
Hの前浴に含有してもよい。
造核剤を感材に含有させる場合、その使用量は、ハロゲ
ン化Im 1モル当り10−1′〜10−2モルが好ま
しく、更に好ましくは1O−7〜10−3モルである。
ン化Im 1モル当り10−1′〜10−2モルが好ま
しく、更に好ましくは1O−7〜10−3モルである。
また、造核剤を処理液に添加する場合、その使用量は、
ltl当り10−S〜10−1モルが好ましく、より好
ましくは10−’〜10−8モルである一本発明の一般
式(1)で表わされる造核促進剤プレカーサーと組合わ
せる造核剤としては前記−数式(■)で表わされる。複
素環第四級アンモニウム塩が低pH処理(pH<12)
での造核促進の点で特に好ましい。
ltl当り10−S〜10−1モルが好ましく、より好
ましくは10−’〜10−8モルである一本発明の一般
式(1)で表わされる造核促進剤プレカーサーと組合わ
せる造核剤としては前記−数式(■)で表わされる。複
素環第四級アンモニウム塩が低pH処理(pH<12)
での造核促進の点で特に好ましい。
本発明による造核促進効果を更に高めるために、下記の
化合物を木造核促進剤と組合せて用いる事ができる。
化合物を木造核促進剤と組合せて用いる事ができる。
ハイドロキノン類(たとえば米国特許3,227.55
2号、4,279,987号記載の化合物);クロマン
類(たとえば米国特許4.268621号、特開昭54
−103031号、リサーチディスクロージャー182
64号(1979年)記載の化合物) ;キノンis(
たとえばリサーチディスクロージャー21206号(1
981年)記載の化合物);アミン類(たとえば米国特
許4150993号や特開昭58−174757号記載
の化合物);酸化荊類(たとえば特開昭60−2600
39号、リサーチディスクロージ、ヤー16936号(
1978年)記載の化合物) ;カテコール類(たとえ
ば特開昭55−21013号や同55−65944号、
記載の化合物);現像時に造核剤を放出する化合物(た
とえば特開昭60−107029号記載の化合物) ;
チオ尿素[(たとえば特開昭60−95533号記載の
化合物);スピロビスインダン類(たとえば特開昭55
−65944号記載の化合物)。
2号、4,279,987号記載の化合物);クロマン
類(たとえば米国特許4.268621号、特開昭54
−103031号、リサーチディスクロージャー182
64号(1979年)記載の化合物) ;キノンis(
たとえばリサーチディスクロージャー21206号(1
981年)記載の化合物);アミン類(たとえば米国特
許4150993号や特開昭58−174757号記載
の化合物);酸化荊類(たとえば特開昭60−2600
39号、リサーチディスクロージ、ヤー16936号(
1978年)記載の化合物) ;カテコール類(たとえ
ば特開昭55−21013号や同55−65944号、
記載の化合物);現像時に造核剤を放出する化合物(た
とえば特開昭60−107029号記載の化合物) ;
チオ尿素[(たとえば特開昭60−95533号記載の
化合物);スピロビスインダン類(たとえば特開昭55
−65944号記載の化合物)。
本発明において直接ポジカラー画像を形成するには種々
のカラーカプラーを使用することができる。カラーカプ
ラーは、芳香族第一級アミン系発色現像薬の酸化体とカ
ップリング反応して実質的に非拡散性の色素を生成また
は放出する化合物であって、それ自身実質的に非拡散性
の化合物であることが好ましい。有用なカラーカプラー
の典型例には、ナフトールもしくはフェノール系化合物
、ピラゾロンもしくはピラゾロアゾール系化合物および
開鎖もしくは複素環のケトメチレン化合物である。本発
明で使用しうるこれらのシアン、マゼンタおよびイエロ
ーカプラーの具体例は「リサーチ・ディスクロージャー
」認隘17643 (1978年12月発行)P25、
■−D項、回磁18717 (1979年11月発行)
および特願昭61−32462号に記載の化合物および
それらに引用された特許に記載されている。
のカラーカプラーを使用することができる。カラーカプ
ラーは、芳香族第一級アミン系発色現像薬の酸化体とカ
ップリング反応して実質的に非拡散性の色素を生成また
は放出する化合物であって、それ自身実質的に非拡散性
の化合物であることが好ましい。有用なカラーカプラー
の典型例には、ナフトールもしくはフェノール系化合物
、ピラゾロンもしくはピラゾロアゾール系化合物および
開鎖もしくは複素環のケトメチレン化合物である。本発
明で使用しうるこれらのシアン、マゼンタおよびイエロ
ーカプラーの具体例は「リサーチ・ディスクロージャー
」認隘17643 (1978年12月発行)P25、
■−D項、回磁18717 (1979年11月発行)
および特願昭61−32462号に記載の化合物および
それらに引用された特許に記載されている。
なかでも本発明に使用できるイエローカプラーとしては
、酸素原子離脱型や窒素原子離脱型のイエロm:当量カ
プラーをその代表例として挙げることができる。特にα
−ピバロイルアセトアニリド系カプラーは発色色素の堅
牢性、特に光堅牢性が優れており、一方α−ベンゾイル
アセトアニリド系カプラーは高い発色濃度が得られるの
で好ましい。
、酸素原子離脱型や窒素原子離脱型のイエロm:当量カ
プラーをその代表例として挙げることができる。特にα
−ピバロイルアセトアニリド系カプラーは発色色素の堅
牢性、特に光堅牢性が優れており、一方α−ベンゾイル
アセトアニリド系カプラーは高い発色濃度が得られるの
で好ましい。
また、本発明に好ましく使用できる5−ピラゾロン系マ
ゼンタカプラーとしては、3位がアリールアミノ基又は
アシルアミノ基で置換された5−ピラゾロン系カプラー
(なかでも硫黄原子離脱型の二当量カプラー)である。
ゼンタカプラーとしては、3位がアリールアミノ基又は
アシルアミノ基で置換された5−ピラゾロン系カプラー
(なかでも硫黄原子離脱型の二当量カプラー)である。
更に好ましいのはピラゾロアゾール系カプラーであって
、なかでも米国特許3,725,067号に記載のピラ
ゾロ(5,1−c)(1,2,4)トリアゾール類等が
好ましいが、発色色素のイエロー副吸収の少なさおよび
光堅牢性の点で米国特許第4,500,630号に記載
のイミダゾ〔1゜2−b〕ピラゾール類はいっそう好ま
しく、米国特許第4,540,654号に記載のピラゾ
ロ(1,5−b)(1,2,4))リアゾールは特に好
ましい。
、なかでも米国特許3,725,067号に記載のピラ
ゾロ(5,1−c)(1,2,4)トリアゾール類等が
好ましいが、発色色素のイエロー副吸収の少なさおよび
光堅牢性の点で米国特許第4,500,630号に記載
のイミダゾ〔1゜2−b〕ピラゾール類はいっそう好ま
しく、米国特許第4,540,654号に記載のピラゾ
ロ(1,5−b)(1,2,4))リアゾールは特に好
ましい。
本発明に好ましく使用できるシアンカプラーとしては、
米国特許第2,474,293号、同4゜502.21
2号等に記載されたナフトール系およびフェノール系の
カプラー、米国特許3,772.002号に記載された
フェノール核のメタ位にエチル基以上のアルキル基を有
するフェノール系シアンカプラーであり、その他2.5
−ジアシルアミノ置換フェノール系カプラーも色像堅牢
性の点で好ましい。
米国特許第2,474,293号、同4゜502.21
2号等に記載されたナフトール系およびフェノール系の
カプラー、米国特許3,772.002号に記載された
フェノール核のメタ位にエチル基以上のアルキル基を有
するフェノール系シアンカプラーであり、その他2.5
−ジアシルアミノ置換フェノール系カプラーも色像堅牢
性の点で好ましい。
生成する色素が有する短波長域の不要吸収を補正するた
めのカラードカプラー、発色色素が適度の拡散性を有す
るカプラー、無呈色カプラー、カンプリング反応に伴っ
て現像抑制剤を放出するDIRカプラーやポリマー化さ
れたカプラーも又使用できる。
めのカラードカプラー、発色色素が適度の拡散性を有す
るカプラー、無呈色カプラー、カンプリング反応に伴っ
て現像抑制剤を放出するDIRカプラーやポリマー化さ
れたカプラーも又使用できる。
カラーカプラーの標準的な使用量は、感光性ハロゲン化
銀1モルあたり0.001ないし1モルの範囲であり、
好ましくはイエローカプラーでは0.01ないし0.5
モル、マゼンタカプラーでは、0.03モルないし0.
5モル、またシアンカプラーでは0.002ないし0
. 5モルである。
銀1モルあたり0.001ないし1モルの範囲であり、
好ましくはイエローカプラーでは0.01ないし0.5
モル、マゼンタカプラーでは、0.03モルないし0.
5モル、またシアンカプラーでは0.002ないし0
. 5モルである。
本発明のカプラーは高沸点および/または低沸点の有機
溶媒に溶解し、ゼラチンまたはその他親水性コロイド水
溶液中に、ホモジナイザー等高速攪拌により、コロイド
ミル等の機械的な微細化によりあるいは超音波を利用し
た技術により乳化分散せしめ、これを乳剤層中に添加せ
しめる。この場合、高沸点有機溶媒は必ずしも用いる必
要はないが、特開昭62−215272号、440〜4
67頁に記載の化合物を用いるのが好ましい。
溶媒に溶解し、ゼラチンまたはその他親水性コロイド水
溶液中に、ホモジナイザー等高速攪拌により、コロイド
ミル等の機械的な微細化によりあるいは超音波を利用し
た技術により乳化分散せしめ、これを乳剤層中に添加せ
しめる。この場合、高沸点有機溶媒は必ずしも用いる必
要はないが、特開昭62−215272号、440〜4
67頁に記載の化合物を用いるのが好ましい。
本発明のカプラーは特開昭62−215272号468
〜475頁に記載の方法で親水性コロイド中に分散する
ことができる。
〜475頁に記載の方法で親水性コロイド中に分散する
ことができる。
本発明の感光材料の乳剤層や中間層に用いることのでき
る結合剤または保護コロイドとL7ては、ゼラチンを用
いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも用
いることができる。
る結合剤または保護コロイドとL7ては、ゼラチンを用
いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも用
いることができる。
本発明の感光材料には、イラジェーションもハレーショ
ンを防止する染剤、紫外線吸収剤、可塑剤、蛍光増白剤
、マット剤、空気カブリ防止剤、塗布助剤、硬膜剤、帯
電防止側やスベリ性改良剤等を添加する事ができる。こ
れらの添加剤の代表例は、リサーチ・ディスクロージャ
ー誌隘17643VX−Xlff項(1978年12月
発行)p25〜27、および同18716 (1979
年11月発行)p647〜651に記載されている。
ンを防止する染剤、紫外線吸収剤、可塑剤、蛍光増白剤
、マット剤、空気カブリ防止剤、塗布助剤、硬膜剤、帯
電防止側やスベリ性改良剤等を添加する事ができる。こ
れらの添加剤の代表例は、リサーチ・ディスクロージャ
ー誌隘17643VX−Xlff項(1978年12月
発行)p25〜27、および同18716 (1979
年11月発行)p647〜651に記載されている。
本発明に係る感光材料は、ハロゲン化銀乳剤層の他に、
保護層、中間層、フィルター層、ハレーション防止層、
バック層、白色反射層などの補助層を適宜設けることが
好ましい。
保護層、中間層、フィルター層、ハレーション防止層、
バック層、白色反射層などの補助層を適宜設けることが
好ましい。
本発明の写真感光材料において写真乳剤層その他の層は
リサーチ・ディスクロージャー誌N117643蹟項(
1978年12月発行)p28に記載のものやヨーロッ
パ特許0,182,253号や特開昭61−97655
号に記載の支持体に塗布される。またリサーチ・ディス
クロージャー誌隘17643XI1項pzs〜29に記
載の塗布方法を利用することができる。
リサーチ・ディスクロージャー誌N117643蹟項(
1978年12月発行)p28に記載のものやヨーロッ
パ特許0,182,253号や特開昭61−97655
号に記載の支持体に塗布される。またリサーチ・ディス
クロージャー誌隘17643XI1項pzs〜29に記
載の塗布方法を利用することができる。
本発明は種々のカラー感光材料に適用することができる
。
。
例えば、スライド用もしくはテレビ用のカラー反転フィ
ルム、カラー反転ペーパー、インスタントカラーフィル
ムなどを代表例として挙げることができる。またフルカ
ラー複写機やCRTの画像を保存するためのカラーハー
ドコピーなどにも適用することができる。本発明はまた
、[リサーチ・ディスクロージャー誌磁17123 (
1978年7月発行)などに記載の三色カプラー混合を
利用した白黒感光材料にも適用できる。
ルム、カラー反転ペーパー、インスタントカラーフィル
ムなどを代表例として挙げることができる。またフルカ
ラー複写機やCRTの画像を保存するためのカラーハー
ドコピーなどにも適用することができる。本発明はまた
、[リサーチ・ディスクロージャー誌磁17123 (
1978年7月発行)などに記載の三色カプラー混合を
利用した白黒感光材料にも適用できる。
更に本発明は黒白写真感光材料にも適用できる。
本発明を応用できる黒白(B/W)写真感光材料として
は、特開昭59−208540.特開昭60−2600
39に記載されているB/W直接ポジ用写真感光材料(
例えばXレイ用感材、デユープ感材、マイクロ感材、写
真用感材、印刷惑材)などがある。
は、特開昭59−208540.特開昭60−2600
39に記載されているB/W直接ポジ用写真感光材料(
例えばXレイ用感材、デユープ感材、マイクロ感材、写
真用感材、印刷惑材)などがある。
本発明の感光材料の現像処理に用いる発色現像液は、好
ましくは芳香族第一級アミン系発色現像主薬を主成分と
するアルカリ性水溶液である。この発色現像主薬として
は、アミノフェノール系化合物も有用であるが、p−フ
ェニレンジアミン系化合物が好ましく使用され、その代
表例としては3−メチル−4−アミノ−N、N−ジエチ
ルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N
−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−ア
ミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエチ
ルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N
−β−メトキシエチルアニリン及びこれらの硫酸塩、塩
酸塩もしくはp−)ルエンスルホン酸塩が挙げられる。
ましくは芳香族第一級アミン系発色現像主薬を主成分と
するアルカリ性水溶液である。この発色現像主薬として
は、アミノフェノール系化合物も有用であるが、p−フ
ェニレンジアミン系化合物が好ましく使用され、その代
表例としては3−メチル−4−アミノ−N、N−ジエチ
ルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N
−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4−ア
ミノ−N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエチ
ルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N
−β−メトキシエチルアニリン及びこれらの硫酸塩、塩
酸塩もしくはp−)ルエンスルホン酸塩が挙げられる。
これらの化合物は目的に応じ2種以上併用することもで
きる。
きる。
これらの発色現像液のpHは9〜12であり、好ましく
は9.5〜11.5である。
は9.5〜11.5である。
発色現像後の写真乳剤層は通常漂白処理される。
漂白処理は定着処理と同時に行なわれてもよいしく漂白
定着処理)、個別に行なわれてもよい。更に処理の迅速
化を図るため、漂白処理後漂白定着処理する処理方法で
もよい、さらに二種の連続した漂白定着浴で処理するこ
と、漂白定着処理の前に定着処理すること、又は漂白定
着処理後漂白処理することも目的に応じ任意に実施でき
る。漂白剤としては、例えば鉄(■)、コバルト(1)
、クロム(Vl) 、w4(u)などの多価金属の化合
物、過酸類、キノン類、ニトロ化合物等が用いられる。
定着処理)、個別に行なわれてもよい。更に処理の迅速
化を図るため、漂白処理後漂白定着処理する処理方法で
もよい、さらに二種の連続した漂白定着浴で処理するこ
と、漂白定着処理の前に定着処理すること、又は漂白定
着処理後漂白処理することも目的に応じ任意に実施でき
る。漂白剤としては、例えば鉄(■)、コバルト(1)
、クロム(Vl) 、w4(u)などの多価金属の化合
物、過酸類、キノン類、ニトロ化合物等が用いられる。
代表的漂白剤としてはフェリシアン化物;重クロム酸塩
;鉄(I[[)もしくはコバルト(I[l)の有機錯塩
、例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミ
ン五酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢酸、メチルイミ
ノニ酢酸、1.3−ジアミノプロパン四酢酸、グリコー
ルエーテルアミン四酢酸、などのアミノポリカルボン酸
類もしくはクエン酸、酒石酸、リンゴ酸などの錯塩;過
硫酸塩;臭素酸塩;過マンガン酸塩;ニトロベンゼン類
などを用いることができる。これらのうちエチレンジア
ミン四酢酸鉄(I[[)!1塩を始めとするアミノポリ
カルボン酸鉄(III)錯塩及び過硫酸塩は迅速処理と
環境汚染防止の観点から好ましい。さらにアミノポリカ
ルボン酸鉄(I[l)錯塩は漂白液においても、漂白定
着液においても特に有用である。これらのアミノポリカ
ルボン酸鉄(III)錯塩を用いた漂白液又は漂白定着
液のpHは通常5.5〜8であるが、処理の迅速化のた
めに、さらに低いpHで処理することもできる。
;鉄(I[[)もしくはコバルト(I[l)の有機錯塩
、例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミ
ン五酢酸、シクロヘキサンジアミン四酢酸、メチルイミ
ノニ酢酸、1.3−ジアミノプロパン四酢酸、グリコー
ルエーテルアミン四酢酸、などのアミノポリカルボン酸
類もしくはクエン酸、酒石酸、リンゴ酸などの錯塩;過
硫酸塩;臭素酸塩;過マンガン酸塩;ニトロベンゼン類
などを用いることができる。これらのうちエチレンジア
ミン四酢酸鉄(I[[)!1塩を始めとするアミノポリ
カルボン酸鉄(III)錯塩及び過硫酸塩は迅速処理と
環境汚染防止の観点から好ましい。さらにアミノポリカ
ルボン酸鉄(I[l)錯塩は漂白液においても、漂白定
着液においても特に有用である。これらのアミノポリカ
ルボン酸鉄(III)錯塩を用いた漂白液又は漂白定着
液のpHは通常5.5〜8であるが、処理の迅速化のた
めに、さらに低いpHで処理することもできる。
定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩、千オニー
チル系化合物、チオ尿素類、多量の沃化物塩等をあげる
ことができるが、チオ硫酸塩の使用が一般的であり、特
にチオ硫酸アンモニウムが最も広範に使用できる。漂白
定着液の保恒剤としては、亜硫酸塩や、重亜硫酸塩ある
いはカルボニル重亜硫酸付加物が好ましい。
チル系化合物、チオ尿素類、多量の沃化物塩等をあげる
ことができるが、チオ硫酸塩の使用が一般的であり、特
にチオ硫酸アンモニウムが最も広範に使用できる。漂白
定着液の保恒剤としては、亜硫酸塩や、重亜硫酸塩ある
いはカルボニル重亜硫酸付加物が好ましい。
本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料は、脱銀処理
後、水洗及び/又は安定工程を経るのが一般的である。
後、水洗及び/又は安定工程を経るのが一般的である。
水洗工程での水洗水量は、感光材料の特性(例えばカプ
ラー等使用素材による)、用途、更には水洗水温、水洗
タンクの数(段′#31.)、向流、順流等の補充方式
、その他種々の条件によって広範囲に設定し得る。この
うち、多段向流方式における水洗タンク数と水量の関係
は、Journalof the 5ociety o
f Motion Picture and Tele
visionEngineers第64巻、P、24B
−253(1955年5月号)に記載の方法で、求める
ことができる。
ラー等使用素材による)、用途、更には水洗水温、水洗
タンクの数(段′#31.)、向流、順流等の補充方式
、その他種々の条件によって広範囲に設定し得る。この
うち、多段向流方式における水洗タンク数と水量の関係
は、Journalof the 5ociety o
f Motion Picture and Tele
visionEngineers第64巻、P、24B
−253(1955年5月号)に記載の方法で、求める
ことができる。
本発明の感光材料の処理における水洗水のpHは、4〜
9であり、好ましくは5〜8である。水洗水温、水洗時
間も、感光材料の特性、用途等で種々設定し得るが、一
般には、15〜45℃で20秒〜10分、好ましくは2
5〜40℃で30秒〜5分の範囲が選択される。更に、
本発明の感光材料は、上記水洗に代り、直接安定液によ
って処理することもできる。このような安定化処理にお
いては、特開昭57−8543号、同5B−14834
号、同60−220345号に記載の公知の方法はすべ
て用いることができる。この安定浴にも各種キレート剤
や防黴剤を加えることもできる。
9であり、好ましくは5〜8である。水洗水温、水洗時
間も、感光材料の特性、用途等で種々設定し得るが、一
般には、15〜45℃で20秒〜10分、好ましくは2
5〜40℃で30秒〜5分の範囲が選択される。更に、
本発明の感光材料は、上記水洗に代り、直接安定液によ
って処理することもできる。このような安定化処理にお
いては、特開昭57−8543号、同5B−14834
号、同60−220345号に記載の公知の方法はすべ
て用いることができる。この安定浴にも各種キレート剤
や防黴剤を加えることもできる。
一方、本発明において黒白感光材料を現像するには、知
られている種々の現像主薬を用いることができる。すな
わちポリヒドロキシベンゼン類、たとえばハイドロキノ
ン、2−クロロハイドロキノン、2−メチルハイドロキ
ノン、カテコール、ビロガールなど;アミノフェノール
類、たとえばp−アミノフェノール、N−メチルニルル
アミノフェノール、2.4−ジアミノフェノールなど;
3−ピラゾリドン類、例えばl−フェニル−3−ビラゾ
リドン類、1−フェニル−4,4′−ジメチル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキ
シメチル−3−ピラゾリドン、5.5−ジメチル−1−
フェニル−3−ピラゾリドン等;アスコルビン酸類など
の、単独又は組合せを用いることができる。又、特開昭
58−55928号に記載されている現像液も使用でき
る。
られている種々の現像主薬を用いることができる。すな
わちポリヒドロキシベンゼン類、たとえばハイドロキノ
ン、2−クロロハイドロキノン、2−メチルハイドロキ
ノン、カテコール、ビロガールなど;アミノフェノール
類、たとえばp−アミノフェノール、N−メチルニルル
アミノフェノール、2.4−ジアミノフェノールなど;
3−ピラゾリドン類、例えばl−フェニル−3−ビラゾ
リドン類、1−フェニル−4,4′−ジメチル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキ
シメチル−3−ピラゾリドン、5.5−ジメチル−1−
フェニル−3−ピラゾリドン等;アスコルビン酸類など
の、単独又は組合せを用いることができる。又、特開昭
58−55928号に記載されている現像液も使用でき
る。
黒白感光材料についての現像剤、保恒剤、緩衝剤および
現像方法の詳しい具体例およびその使用法については「
リサーチディスクロージャー」誌ぬ17643 (19
78年12月発行)菫〜が項などに記載されている。
現像方法の詳しい具体例およびその使用法については「
リサーチディスクロージャー」誌ぬ17643 (19
78年12月発行)菫〜が項などに記載されている。
(実施例)
以下に本発明を実施例にしたがい説明する。
実施例−1
下記の乳剤を調製した。
乳剤A
臭化カリうムの水溶液と硝酸銀の水溶液をAg1モル当
り0.3gの3.4−ジメチル−1,3−チアゾリジン
−2−チオンを添加したゼラチン水溶液に激しく攪拌し
ながら、75℃で約20分を要して同時に添加し、平均
粒子径が0.4μmの八面体単分散の臭化銀乳剤を得た
。この乳剤に銀1モル当りそれぞれ6■のチオ硫酸ナト
リウムと塩化金M(4水塩)を加え75℃で80分関加
熱することにより化学増感処理を行なった。こうして得
た臭化銀粒子をコアとして、第1回目と同じ沈殿環境で
さらに40分間処理することによりさらに成長させ、最
終的に平均粒子径0.7μmの八面体単分散/シェル臭
化銀乳剤を得た。水洗・脱塩後この乳剤に銀1モル当り
それぞれ1. 5■量のチオ硫酸ナトリウムおよび塩化
金#I(4水塩)を加え60℃で60分加熱して化学増
感処理を行い、内部潜像型ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
り0.3gの3.4−ジメチル−1,3−チアゾリジン
−2−チオンを添加したゼラチン水溶液に激しく攪拌し
ながら、75℃で約20分を要して同時に添加し、平均
粒子径が0.4μmの八面体単分散の臭化銀乳剤を得た
。この乳剤に銀1モル当りそれぞれ6■のチオ硫酸ナト
リウムと塩化金M(4水塩)を加え75℃で80分関加
熱することにより化学増感処理を行なった。こうして得
た臭化銀粒子をコアとして、第1回目と同じ沈殿環境で
さらに40分間処理することによりさらに成長させ、最
終的に平均粒子径0.7μmの八面体単分散/シェル臭
化銀乳剤を得た。水洗・脱塩後この乳剤に銀1モル当り
それぞれ1. 5■量のチオ硫酸ナトリウムおよび塩化
金#I(4水塩)を加え60℃で60分加熱して化学増
感処理を行い、内部潜像型ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
実施例1
下記のようにして調製した塗布液をポリエチレンで両面
ラミネートした紙支持体上に塗布してカラー印画紙Na
l〜28を作成した。
ラミネートした紙支持体上に塗布してカラー印画紙Na
l〜28を作成した。
マゼンタカプラー(alと色像安定性(blを含む容器
に酢酸エチルと溶媒(C1を加えて溶解し、この溶液を
10%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む1
0%ゼラチン水溶液に乳化分散させた。
に酢酸エチルと溶媒(C1を加えて溶解し、この溶液を
10%ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む1
0%ゼラチン水溶液に乳化分散させた。
この乳化分散物と前記のコア/シェル型内部潜像ハロゲ
ン化銀乳剤A(緑感性色素とイラジェーション染料を含
む)を混合溶解し、第1表に示す組成となる様にゼラチ
ンで濃度を調節し、更に造核剤(■−14)を銀1モル
当り1.8X10−’と第2表に記載の本発明化合物(
+)及び比較化合物を加えて塗布液を調製した。
ン化銀乳剤A(緑感性色素とイラジェーション染料を含
む)を混合溶解し、第1表に示す組成となる様にゼラチ
ンで濃度を調節し、更に造核剤(■−14)を銀1モル
当り1.8X10−’と第2表に記載の本発明化合物(
+)及び比較化合物を加えて塗布液を調製した。
この塗布液をポリエチレンラミネート紙の上に塗布した
。その時同時にこの層の上に下記組成の紫外線吸収層と
、さらにその上に下記組成の保護層を塗布した。
。その時同時にこの層の上に下記組成の紫外線吸収層と
、さらにその上に下記組成の保護層を塗布した。
紫外線吸収層
ゼラチン 1.60g/n(コロイ
ド銀 0.10g/rr+保護層 ゼラチン 133g/イボリビニル
アルコールの アクリル変性共重合体 (変性度17%)’ 0.17g/rrl第
1表 緑感層の組成 一土友底分一 −刺朋1=乳剤A
II四〇、 39g/n(ゼラチン マゼンタカプラーial 4. 6 X 10−’
s+ol/n(色像安定剤偽1 0.1
4g/耐溶媒(010,42g/nf 造核剤(■−27) 本発明化合物(1)及び比較化合物(第2表)現像促進
剤tX1 32■/d緑惑性色素 緑感性乳剤層用イラジェーション防止染料SO3に 03K (C) のt:x:t、s混合物(重量比) (n)LCa\/CJ*(n) のL:2:2混合物(重量比) (×) 0■ H このようにして作成されたカラー印画紙に緑フイルタ−
(富士写真フィルム■製5P−2)を通してウェッジ露
光(1/10秒IQCMS)を与えた後に下記の処理工
程Aに施してマゼンタ発色画像濃度を測定した(写真特
性−1)。
ド銀 0.10g/rr+保護層 ゼラチン 133g/イボリビニル
アルコールの アクリル変性共重合体 (変性度17%)’ 0.17g/rrl第
1表 緑感層の組成 一土友底分一 −刺朋1=乳剤A
II四〇、 39g/n(ゼラチン マゼンタカプラーial 4. 6 X 10−’
s+ol/n(色像安定剤偽1 0.1
4g/耐溶媒(010,42g/nf 造核剤(■−27) 本発明化合物(1)及び比較化合物(第2表)現像促進
剤tX1 32■/d緑惑性色素 緑感性乳剤層用イラジェーション防止染料SO3に 03K (C) のt:x:t、s混合物(重量比) (n)LCa\/CJ*(n) のL:2:2混合物(重量比) (×) 0■ H このようにして作成されたカラー印画紙に緑フイルタ−
(富士写真フィルム■製5P−2)を通してウェッジ露
光(1/10秒IQCMS)を与えた後に下記の処理工
程Aに施してマゼンタ発色画像濃度を測定した(写真特
性−1)。
なお、
処理工程A
発色現像 1分30秒 33℃
漂白定着 40秒 33℃
安定■ 20秒 33℃
0 20秒 33℃
■ 20秒 33℃
安定浴の補充方式は、安定浴■に補充し、安定浴■のオ
ーバーフロー液を安定浴■に導き、安定浴■のオーバー
フロー液を安定浴■に導く、いわゆる向流補充方式とし
た。
ーバーフロー液を安定浴■に導き、安定浴■のオーバー
フロー液を安定浴■に導く、いわゆる向流補充方式とし
た。
ジエチレントリアミン五酢酸
ヘンシルアルコール
ジエチレングリコール
亜硫酸ナトリウム
臭化ナトリウム
硫酸ヒドロキシルアミン
塩化ナトリウム
3−メチル−4−アミノ−N
エチル−N−(β−メタ
ンスルホンアミドエチル)
2.0g
12.8g
3、4g
2.0g
0.26g
2.60g
3.20g
アニリン 4.25g炭酸カリウム
30.0g螢光増白剤(スチルベン系
) 1.0g水を加えて
1ooo−pH11,20 pHは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
30.0g螢光増白剤(スチルベン系
) 1.0g水を加えて
1ooo−pH11,20 pHは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
母液
チオ硫酸アンモニウム 110g亜硫酸水
素ナトリウム lOgジエチレントリアミ
ン五酢酸 鉄(I[I)アンモニウム・1 水塩 56gエチレンジア
ミン四酢酸2ナ トリウム・2水塩 5g水を加えて
1000adpH6,5 pHはアンモニア水又は塩酸で調整した。
素ナトリウム lOgジエチレントリアミ
ン五酢酸 鉄(I[I)アンモニウム・1 水塩 56gエチレンジア
ミン四酢酸2ナ トリウム・2水塩 5g水を加えて
1000adpH6,5 pHはアンモニア水又は塩酸で調整した。
l−ヒドロキシエチリデン
1.1′−ジホスホン酸
(60%)
塩化ビスマス
ポリビニルピロリドン
アンモニア水
ニトリロ三酢酸・3Na
5−クロロ−2−メチル−4
イソチアプリン−3−オ
母液
1、6−
0.35g
0.25g
2、5−
1、0g
ン
50■2−オクチル−4−イソチア ゾリン−3−オン 50■螢光増白剤(
4,4’−ジア ミノスチルベン系) 1.0g水を加え
て tooo−pH7,5 pHは、水酸化カリウム又は塩酸で調整する。
50■2−オクチル−4−イソチア ゾリン−3−オン 50■螢光増白剤(
4,4’−ジア ミノスチルベン系) 1.0g水を加え
て tooo−pH7,5 pHは、水酸化カリウム又は塩酸で調整する。
比較化合物A
比較化合物B
比較化合物C
第2表から明らかな様に、一般弐N)の化合物を用いな
い比較化合物試料OI〜α旧よ、十分な最大画像濃度(
Dmax)を得るために比較化合物の添加量を増すと、
最小画像濃度(Dmin)の増加を示しく写真特性−1
)、さらに良好な添加量でも高1猛高温経時(45℃、
80%RH17日)後の露光、現像試験(写真特性−2
)で、最大画像濃度の低下が著しい、 これに対し、本
発明の一般式(1)で示される化合物を処理した試料+
11〜(9)は、添加量を増しても、最小画像濃度は増
加せず、良好な添加量での前記高温高温経時試験(写真
特性−2)でも、最大画像濃度は低下せず、良好な画像
が得られた。
い比較化合物試料OI〜α旧よ、十分な最大画像濃度(
Dmax)を得るために比較化合物の添加量を増すと、
最小画像濃度(Dmin)の増加を示しく写真特性−1
)、さらに良好な添加量でも高1猛高温経時(45℃、
80%RH17日)後の露光、現像試験(写真特性−2
)で、最大画像濃度の低下が著しい、 これに対し、本
発明の一般式(1)で示される化合物を処理した試料+
11〜(9)は、添加量を増しても、最小画像濃度は増
加せず、良好な添加量での前記高温高温経時試験(写真
特性−2)でも、最大画像濃度は低下せず、良好な画像
が得られた。
実施例−2
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体(厚さ10
0ミクロン)の表側に、次の第−層から弟子四層を、裏
側に弟子五層から弟子六層を重Nim布したカラー写真
感光材料を作成した。第−層塗布側のポリエチレンには
酸化チタンを白色顔料として、また微量の群青を青み付
は染料として含む(支持体の表面の色度はLl)、a*
、be系で88.0.−0.20、−0.75であった
。)。
0ミクロン)の表側に、次の第−層から弟子四層を、裏
側に弟子五層から弟子六層を重Nim布したカラー写真
感光材料を作成した。第−層塗布側のポリエチレンには
酸化チタンを白色顔料として、また微量の群青を青み付
は染料として含む(支持体の表面の色度はLl)、a*
、be系で88.0.−0.20、−0.75であった
。)。
(感光層組成)
以下に成分と塗布量(g/rrf単位)を示す、なおハ
ロゲン化銀については銀換算の塗布量を示す。
ロゲン化銀については銀換算の塗布量を示す。
各層に用いた乳剤は乳剤Bの製法に準じて作られた。但
し弟子四層の乳剤は表面化学増感しないリップマン乳剤
を用いた。
し弟子四層の乳剤は表面化学増感しないリップマン乳剤
を用いた。
第1層(アンチハレーション層)
黒色コロイド銀 0.10ゼラチン
0.70第2層(中間層) ゼラチン 0.70第3層(低
感度赤感層) 赤色増感色素(ExS−1,2,3)で分光増感された
臭化1!(平均粒子サイズ0.25μ、サイズ分布〔8
%、八面体) 0.04赤色増感色素(ExS−1
,2,3)で分光増感された塩臭化!!(塩化115モ
ル%、平均粒子サイズ0.40μ、サイズ分布10%、
八面体) 0.08ゼラチ
ン 1.00シアンカプラー(
ExS−1,2,3等量)0.30 退色防止剤(Cpd−1,2,3,4等量)0.18 スティン防止剤(Cpd−5) 0.003力プラ
ー分散媒(Cpd−6) o、03カプラー溶媒(
sotv−1+2+3+等量)0.12第4層(高感度
赤感層) 赤色増感色素(ExS−1,2,3)で分光増感された
臭化銀(平均粒子サイズ0.60μ、サイズ分布15%
、八面体) 0.14ゼラチン
1.00シアンカプラー(ExC−12,3等
量)0.30 退色防止剤(Cpd−1,2,3,4等量)0.18 カプラー分散媒(Cpd−6) 0.03カプラ
ー溶媒(Solv−1,2,3等量)0.12 第5層(中間層) ゼラチン 1.00混色防止剤
(Cpd−7) 0.08混色防止剤溶媒(S
olv−4,5等量)0.16 ポリマーラテックス(Cpd−8> 0、lO 第6層(低感度緑感層) 緑色増感色素(ExS−4)で分光増感された臭化銀(
平均粒子サイズ0.25μ、サイズ分布8%、八面体)
0.04緑色増惑色素(ExS−4)
で分光増感された塩臭化銀(塩化1!5モル%、平均粒
子サイズ0.40μ、サイズ分布10%、八面体)0.
06 ゼラチン 0.80マゼンタカ
プラー(ExM−L2等量)0.11 退色防止剤(Cpd−9) 0.10ステイ
ン防止剤(Cpd−10,11,12,13を10ニア
:7:1比で> 0.025力プラー分散媒(Cp
d−6) 0.05カプラー溶媒(Solv−4
,6等量)0.15 第7層(高感度緑感層) 緑色増感色素(E x S −4)で分光増感された臭
化銀(平均粒子サイズ0.65μ、サイズ分布16%、
八面体) 0.10ゼラチン
0.80マゼンタカプラー(ExM−1,
2等量)0゜ 0゜ 11. 0゜ 0゜ 6等量) 0.15 退色防止剤(Cpd−9) スティン防止剤(Cpd−10, 13を10ニア:7:l比で) カプラー分散媒(Cpd−6) カプラー溶媒(Solv−4、 12、 第8層(中間層) 第5層と同じ 第9層(イエローフィルター層) イエローコロイド銀 ゼラチン 混色防止剤(Cpd−7) 混色防止剤溶媒(Solv−4, 0、12 0、07 0、03 5等り 0、10 ポリマーラテックス (Cpd−8) 0、07 第10層(中間層) 第5層と同じ 第11層(低感度青感層) 青色増感色素(ExS−5,6)で分光増感された臭化
銀(平均粒子サイズ0.40μ、サイズ分布8%、八面
体) 0.07青色増惑色素(E x S
−5,6)で分光増感された塩臭化銀(塩化銀8モル%
、平均粒子サイズ0.60μ、サイズ分布11%、八面
体)0.14 ゼラチン 0.80イエローカ
プラー(ExY−1) 0.35退色防止荊(Cp
d−14) 0.10ステイン防止剤(Cpd
−5,15を1:5比で)
O,OQ7カプラー分散媒(Cpd−6) 0
.05カプラー?容媒(Solv−2) 0.1
0第12層(高域度青惑層) 青色増感色素(ExS−5,6)で分光増感された臭化
銀(平均粒子サイズ0.85μ、サイズ分布18%、八
面体) 0.15ゼラチン
0.600、30 0、10 15を1=5比 0、QO7 0、05 0、l 0 イエローカプラー(ExY−1) 退色防止剤(Cpd−14) スティン防止剤(cpa−5、 で) カプラー分散媒(Cpd−6) カプラー溶媒(Sol・v−2) 第13層(紫外線吸収層) ゼラチン 紫外線吸収剤(Cpd 1、00 2.4.16等量) 0、50 混色防止剤(Cpd−7,17等1t)0、03 分散媒(Cpd−6) 0.02紫外線
吸収剖溶媒(Solv−2,7等量)0.08 イラジェーション防止染料(Cpd−18,19,20
,21をlQ:10=13:15比で)
0.04第14層(保護層) 微粒子塩臭化il(塩化t!97モル%、平均サイズ0
.2μ> 0.03ポリビニルアル
コールのアクリル変性共重合体0.01 ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒子サイズ2.4
μ)と酸化けい素(平均粒子サイズ5μ)等量
0.05ゼラチン
1.80ゼラチン硬化剤(H−1、H−2等量)0
.18 第15層(裏層) ゼラチン 2.50第16層(
裏面保護層) ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒子サイズ2.4
μ)と酸化けい素(平均粒子サイズ5μ)等量
0.05ゼラチン
2.OOゼラチン硬化剤(H−1,H−2等量)0.1
4 乳剤Bの作り方 臭化カリウムと硝酸銀の水溶液をゼラチン水溶液に激し
く攪拌しながら75℃で15分を要して同時に添加し、
平均粒径が0.40μの八面体臭化銀粒子を得た。この
乳剤に銀1モル当たり0゜3gの3.4−ジメチル−1
,3−チアゾリン−2−チオン、6μ1gのチオ硫酸ナ
トリウムと7曙の塩化金酸(4水塩)を順次加え75℃
で80分間加熱することにより化学増感処理を行なった
。こうして得た粒子をコアとして、第1回目と同様な沈
澱環境で更に成長させ、最終的に平均粒径が0.7μの
八面体単分散コア/シェル臭化銀乳剤を得た0粒子サイ
ズの変動係数は約lO%であった。この乳剤に銀1モル
当たり1.5■のチオ硫酸ナトリウムと1.5■の塩化
金酸(4水塩)を加え60℃で60分間加熱して化学増
感処理を行ない内部潜像型ハロゲン化銀乳剤Bを得た。
0.70第2層(中間層) ゼラチン 0.70第3層(低
感度赤感層) 赤色増感色素(ExS−1,2,3)で分光増感された
臭化1!(平均粒子サイズ0.25μ、サイズ分布〔8
%、八面体) 0.04赤色増感色素(ExS−1
,2,3)で分光増感された塩臭化!!(塩化115モ
ル%、平均粒子サイズ0.40μ、サイズ分布10%、
八面体) 0.08ゼラチ
ン 1.00シアンカプラー(
ExS−1,2,3等量)0.30 退色防止剤(Cpd−1,2,3,4等量)0.18 スティン防止剤(Cpd−5) 0.003力プラ
ー分散媒(Cpd−6) o、03カプラー溶媒(
sotv−1+2+3+等量)0.12第4層(高感度
赤感層) 赤色増感色素(ExS−1,2,3)で分光増感された
臭化銀(平均粒子サイズ0.60μ、サイズ分布15%
、八面体) 0.14ゼラチン
1.00シアンカプラー(ExC−12,3等
量)0.30 退色防止剤(Cpd−1,2,3,4等量)0.18 カプラー分散媒(Cpd−6) 0.03カプラ
ー溶媒(Solv−1,2,3等量)0.12 第5層(中間層) ゼラチン 1.00混色防止剤
(Cpd−7) 0.08混色防止剤溶媒(S
olv−4,5等量)0.16 ポリマーラテックス(Cpd−8> 0、lO 第6層(低感度緑感層) 緑色増感色素(ExS−4)で分光増感された臭化銀(
平均粒子サイズ0.25μ、サイズ分布8%、八面体)
0.04緑色増惑色素(ExS−4)
で分光増感された塩臭化銀(塩化1!5モル%、平均粒
子サイズ0.40μ、サイズ分布10%、八面体)0.
06 ゼラチン 0.80マゼンタカ
プラー(ExM−L2等量)0.11 退色防止剤(Cpd−9) 0.10ステイ
ン防止剤(Cpd−10,11,12,13を10ニア
:7:1比で> 0.025力プラー分散媒(Cp
d−6) 0.05カプラー溶媒(Solv−4
,6等量)0.15 第7層(高感度緑感層) 緑色増感色素(E x S −4)で分光増感された臭
化銀(平均粒子サイズ0.65μ、サイズ分布16%、
八面体) 0.10ゼラチン
0.80マゼンタカプラー(ExM−1,
2等量)0゜ 0゜ 11. 0゜ 0゜ 6等量) 0.15 退色防止剤(Cpd−9) スティン防止剤(Cpd−10, 13を10ニア:7:l比で) カプラー分散媒(Cpd−6) カプラー溶媒(Solv−4、 12、 第8層(中間層) 第5層と同じ 第9層(イエローフィルター層) イエローコロイド銀 ゼラチン 混色防止剤(Cpd−7) 混色防止剤溶媒(Solv−4, 0、12 0、07 0、03 5等り 0、10 ポリマーラテックス (Cpd−8) 0、07 第10層(中間層) 第5層と同じ 第11層(低感度青感層) 青色増感色素(ExS−5,6)で分光増感された臭化
銀(平均粒子サイズ0.40μ、サイズ分布8%、八面
体) 0.07青色増惑色素(E x S
−5,6)で分光増感された塩臭化銀(塩化銀8モル%
、平均粒子サイズ0.60μ、サイズ分布11%、八面
体)0.14 ゼラチン 0.80イエローカ
プラー(ExY−1) 0.35退色防止荊(Cp
d−14) 0.10ステイン防止剤(Cpd
−5,15を1:5比で)
O,OQ7カプラー分散媒(Cpd−6) 0
.05カプラー?容媒(Solv−2) 0.1
0第12層(高域度青惑層) 青色増感色素(ExS−5,6)で分光増感された臭化
銀(平均粒子サイズ0.85μ、サイズ分布18%、八
面体) 0.15ゼラチン
0.600、30 0、10 15を1=5比 0、QO7 0、05 0、l 0 イエローカプラー(ExY−1) 退色防止剤(Cpd−14) スティン防止剤(cpa−5、 で) カプラー分散媒(Cpd−6) カプラー溶媒(Sol・v−2) 第13層(紫外線吸収層) ゼラチン 紫外線吸収剤(Cpd 1、00 2.4.16等量) 0、50 混色防止剤(Cpd−7,17等1t)0、03 分散媒(Cpd−6) 0.02紫外線
吸収剖溶媒(Solv−2,7等量)0.08 イラジェーション防止染料(Cpd−18,19,20
,21をlQ:10=13:15比で)
0.04第14層(保護層) 微粒子塩臭化il(塩化t!97モル%、平均サイズ0
.2μ> 0.03ポリビニルアル
コールのアクリル変性共重合体0.01 ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒子サイズ2.4
μ)と酸化けい素(平均粒子サイズ5μ)等量
0.05ゼラチン
1.80ゼラチン硬化剤(H−1、H−2等量)0
.18 第15層(裏層) ゼラチン 2.50第16層(
裏面保護層) ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒子サイズ2.4
μ)と酸化けい素(平均粒子サイズ5μ)等量
0.05ゼラチン
2.OOゼラチン硬化剤(H−1,H−2等量)0.1
4 乳剤Bの作り方 臭化カリウムと硝酸銀の水溶液をゼラチン水溶液に激し
く攪拌しながら75℃で15分を要して同時に添加し、
平均粒径が0.40μの八面体臭化銀粒子を得た。この
乳剤に銀1モル当たり0゜3gの3.4−ジメチル−1
,3−チアゾリン−2−チオン、6μ1gのチオ硫酸ナ
トリウムと7曙の塩化金酸(4水塩)を順次加え75℃
で80分間加熱することにより化学増感処理を行なった
。こうして得た粒子をコアとして、第1回目と同様な沈
澱環境で更に成長させ、最終的に平均粒径が0.7μの
八面体単分散コア/シェル臭化銀乳剤を得た0粒子サイ
ズの変動係数は約lO%であった。この乳剤に銀1モル
当たり1.5■のチオ硫酸ナトリウムと1.5■の塩化
金酸(4水塩)を加え60℃で60分間加熱して化学増
感処理を行ない内部潜像型ハロゲン化銀乳剤Bを得た。
各感光層には、造核剤として■−8をハロゲン化銀塗布
量に対して3.6X10−hモル/Agモル、一般式(
I)の化合物および比較化合物を添加した。更に各層に
は乳化分散助剤としてアルカノールX C(Dupon
t社) 及ヒアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムを
、塗布助剤としてコハク酸エステル及びMagefac
F −120(大日本インキ社製)を用いた。ハロゲ
ン化銀及びコロイド銀含有層には安定剤として(Cpd
−23,24,25)を用いた。この試料を試料番号(
1)〜t1すとした。
量に対して3.6X10−hモル/Agモル、一般式(
I)の化合物および比較化合物を添加した。更に各層に
は乳化分散助剤としてアルカノールX C(Dupon
t社) 及ヒアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムを
、塗布助剤としてコハク酸エステル及びMagefac
F −120(大日本インキ社製)を用いた。ハロゲ
ン化銀及びコロイド銀含有層には安定剤として(Cpd
−23,24,25)を用いた。この試料を試料番号(
1)〜t1すとした。
以下に実施例に用いた化合物を示す。
xS−3
xS
xS
(CHz)s
O3
O3H
・N(Czlls)s
(CHz) x
O3H
xS−5
5OJ−N(CJs)+
O3H
ExS−6
Cpd
■0
Cpd
Cpd
Cpd−IQ
Cpd−11
Cpd−12
Cpd−13
0■
pct
Cpd
pti−6
H
Cpd−7
Cpd
0■
Cpd
Cpd−14
Cpd−15
H
Cpd−17
H
pd
pd
03K
pd−20
S(hK
XC
XC
XC−3
03K
SO,に
H
pd−21
pd−23
pd
pd
XM−1
CeH+t(t)
XM−2
CsH+、(t)
XY−1
l
olv
l
olv−2
olv−3
alv−4
olv−5
olv−6
o1v−7
(■−8)
ジ(2−エチルヘキシル)セパ
ケート
トリノニルホスフェート
ジ(3−メチルヘキシル)フタ
レート
トリクレジルホスフェート
ジブチルフタレート
トリオクチルホスフェート
ジ(2−エチルヘキシル)フタ
レート
1.2−ビス(ビニルスルホニ
ルアセトアミド)エタン
4.6−ジクロロ−2−ヒドロ
キシ−1,3,5−)リアジン
Na塩
?−(3−(5−メルカプトテ
トラゾール−1−イル)ベンズ
ア辷ド)−10−プロパルギル
−1,2,3,4−テトラヒド
ロアクリジニウムペルフロラ−
以上のようにして作成したカラー感光材料に下記処理工
程Bに変更する以外は実施例1と同様に写真性試験を行
なった。得られたカラー画像のシアン濃度を測定した。
程Bに変更する以外は実施例1と同様に写真性試験を行
なった。得られたカラー画像のシアン濃度を測定した。
処理工程B
発色現像 90秒 38℃
漂白定着 40〃 33〃
水洗Tll 40” 33〃
水洗(2)40#33〃
水洗(3115〃33〃
乾 燥 30− 80〃水洗水の補充
方式は、水洗浴(3)に補充し、水洗浴(3)のオーバ
ーフロー液を水洗浴(2)に導き、水洗浴(2)のオー
バーフロー液を水洗浴Tl)に導く、いわゆる向流補充
方式とした。このとき感光材料による漂白定着浴から水
洗浴(1)への漂白定着液の持ち込み量は35d/n(
であり、漂白定着液の持ち込み量に対する水洗水補充量
の倍率は9.1倍であった。
方式は、水洗浴(3)に補充し、水洗浴(3)のオーバ
ーフロー液を水洗浴(2)に導き、水洗浴(2)のオー
バーフロー液を水洗浴Tl)に導く、いわゆる向流補充
方式とした。このとき感光材料による漂白定着浴から水
洗浴(1)への漂白定着液の持ち込み量は35d/n(
であり、漂白定着液の持ち込み量に対する水洗水補充量
の倍率は9.1倍であった。
各処理液の組成は、以下の通りであった。
蛍光増白剤(ジアミノスチル
ベン系)
1、 0g
エチレンジアミンテトラキス
メチレンホスホン酸
ジエチレングリコール
ベンジルアルコール
臭化カリウム
亜硫酸ナトリウム
N、N−ジエチルヒドロキシ
ルアミン
トリエチレンジアミン(1゜
4−ジアザビシクロ[2゜
2.2〕オクタン)
N−エチル−N−(β−メタ
ノニルホンアミドエチル)
−3−メチルアニリン硫酸
塩
炭酸カリウム
0、5g
1〇−
12、(ld
O,65g
2、4g
4゜
0g
4゜
g
5゜
g
27゜
g
pH(25℃)
盈亘定1辰
10.50
エチレンジチミン4酢酸・2
ナトリウム・2水塩
エチレンジアミン4酢酸・Fe
(III) ・アンモニウム・2
水塩
チオ硫酸アンモニウム
(700g/1)
p−)ルエンスルフィン酸ナ
トリウム
重亜硫酸ナトリウム
臭化アンモニウム
硝酸アンモニウム
4、0g
46.0g
20゜
12゜
50゜
30゜
pH(25℃)
6、20
比較化合物り
処理工程C
第4表から明らかな様に、本発明の一般式(1)で示さ
れる化合物を処理した試料(11〜(8)は、実施例1
と同様、添加量を増しても最小画像濃度は増加せず、高
温高温経時試験(写真特性−2)でも、最大画像濃度は
低下せず、良好な画像が得られた。
れる化合物を処理した試料(11〜(8)は、実施例1
と同様、添加量を増しても最小画像濃度は増加せず、高
温高温経時試験(写真特性−2)でも、最大画像濃度は
低下せず、良好な画像が得られた。
実施例−3
造核剤を除去した以外は、実施例−2と同様にしてカラ
ー感光材料を作製した。下記処理工程Cに変更する以外
実施例−2と同様の写真性試験を行なった。実施例−2
と同等かや\劣る結果を得た。
ー感光材料を作製した。下記処理工程Cに変更する以外
実施例−2と同様の写真性試験を行なった。実施例−2
と同等かや\劣る結果を得た。
時間 温度
発色現像”’135秒 36℃
漂白定着 40秒 36℃
安定0 40秒 36℃
安定■ 40秒 36℃
乾 燥 40秒 70℃率l)発色現像
液に15秒間浸漬後、11uxの白色光で15秒間光カ
ブラセを行ないながら発色現像処理した。
液に15秒間浸漬後、11uxの白色光で15秒間光カ
ブラセを行ないながら発色現像処理した。
母液
ヒドロキシエチルイミノニ酢
酸
β−シクロデキストリン
モノエチレングリコール
ベンジルアルコール
モノエタノールアミン
臭化ナトリウム
塩化ナトリウム
0、5g
1、5g
9、0g
9.0g
2、5g
2、3g
5、5g
N、N−ジエチルヒドロキシ
ルアミン 5,9g3−メチル
−4−アミノ−N −エチルーN−(β−メタ ンスルホンアミドエチル) 一アニリン硫酸塩 2.7g3−メチル−
4−アミノ−N −エチルーN−(β−ヒド ロキシエチル)−アニリン 硫酸塩 4.5g炭酸カリウム
30.0g蛍光増白剤(スチルベ
ン系) 1.0g純水を加えて
1000mff100O10,30 ptiは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
−4−アミノ−N −エチルーN−(β−メタ ンスルホンアミドエチル) 一アニリン硫酸塩 2.7g3−メチル−
4−アミノ−N −エチルーN−(β−ヒド ロキシエチル)−アニリン 硫酸塩 4.5g炭酸カリウム
30.0g蛍光増白剤(スチルベ
ン系) 1.0g純水を加えて
1000mff100O10,30 ptiは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
チオ硫酸アンモニウム 110g亜硫酸水素
ナトリウム 12gジエチレントリアミン
五酢酸 鉄(Il[)アンモニウム 80gジエチレ
ントリアミン五酢酸 5g2−メルカプト−5
−アミノ 1.3.4−チアジアゾ ール 0.3g純水を加えて
100(ldpH6,80 pttはアンモニア水又は塩酸で調整した。
ナトリウム 12gジエチレントリアミン
五酢酸 鉄(Il[)アンモニウム 80gジエチレ
ントリアミン五酢酸 5g2−メルカプト−5
−アミノ 1.3.4−チアジアゾ ール 0.3g純水を加えて
100(ldpH6,80 pttはアンモニア水又は塩酸で調整した。
母液
1−ヒドロキシエチリデン
1.1−ジホスホン酸
O−フェニルフェノール
塩化カリウム
塩化ビスマス
塩化亜鉛
亜硫酸ナトリウム
硫酸アンモニウム
蛍光増白剤(スチルベン系)
純水を加えて
2、7g
0.2g
2、5g
1.0g
0.25g
0.3g
4、5g
0.5g
000d
pH7,2
pHは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
実施例−4
造核剤を■−13にし、処理工程を下記りにした以外は
、実施例−2をくり返し同様の結果を得た。
、実施例−2をくり返し同様の結果を得た。
処理工程り
発色現像 70秒 38℃
漂白定着 30秒 38℃
水洗■ 30秒 38℃
水洗0 30秒 38℃
このとき、水洗液の補充倍率は8.6倍であった。
ジエチレントリアミン五酢酸
1−ヒドロキシエチリデン−
1,1−ジホスホン酸
ジエチレングリコール
0、5g
0、5g
8、0g
ベンジルアルコール 9.0g臭化ナトリ
ウム 0.7g塩化ナトリウム
0.5g亜硫酸ナトリウム
2.0g硫酸ヒドロキシルアミン 2.8
g3−メチル−4−アミノ−N エチル−N−(β−メタ ンスルホンアミドエチル) −アニリン硫酸塩 2.0g3−メチル−
4−アミノ−N エチル−N−(β−ヒド ロキシエチル)−アニリン 硫酸塩 4.0g炭酸カリウム
30.0g蛍光増白剤(スチルベ
ン系) 1.0g純水を加えて
100(1+ff1pH10,50 pHは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
ウム 0.7g塩化ナトリウム
0.5g亜硫酸ナトリウム
2.0g硫酸ヒドロキシルアミン 2.8
g3−メチル−4−アミノ−N エチル−N−(β−メタ ンスルホンアミドエチル) −アニリン硫酸塩 2.0g3−メチル−
4−アミノ−N エチル−N−(β−ヒド ロキシエチル)−アニリン 硫酸塩 4.0g炭酸カリウム
30.0g蛍光増白剤(スチルベ
ン系) 1.0g純水を加えて
100(1+ff1pH10,50 pHは水酸化カリウム又は塩酸で調整した。
チオ硫酸アンモニウム ??。
亜硫酸水素ナトリウム 14.0gエチレンジ
アミン四酢酸鉄 (DI)アンモニウム・2水 塩 40.0gエ
チレンジアミン四酢M2ナ トリウム・2水塩 4.0g2−メルカプ
ト−1,3,4 純水を加えて 1000adpH7,
O pHはアンモニア水又は塩酸で調整した。
アミン四酢酸鉄 (DI)アンモニウム・2水 塩 40.0gエ
チレンジアミン四酢M2ナ トリウム・2水塩 4.0g2−メルカプ
ト−1,3,4 純水を加えて 1000adpH7,
O pHはアンモニア水又は塩酸で調整した。
純水を用いた(母液−補充液)
実施例−5
1剋又ΩU
硝酸銀水溶液と臭化カリウム水溶液とを、同時に一定速
度で銀電極電位を一定に保ちながら、11当り20■の
チオエーテル(1,8−ジヒドロキシ−3,6−シチア
オクタン)を含有した75℃のゼラチン水溶液(pH−
5,5)によく攪拌しながら、1/8モルに相当する硝
酸銀を5分間で添加し、平均粒径が約0.14μの球型
AgB r単分散乳剤を得た。この乳剤にハロゲン化銀
1モル当り、20■のチオ硫酸ナトリウムと20■の塩
化金酸(4水塩)とを各々加えて、I)H7,5に調節
し、よく攪拌しながら、75℃で80分間化学増増感理
したものをコア乳剤とした0次に、同温度で硝酸銀水溶
液(7/8モルの硝酸銀を含む)と臭化カリウム水溶液
とをよく攪拌された条件下で、正八面体粒子が成長する
銀電極電位に保ちながら、40分間にわたって同時添加
し、シェルの成長を行わせ、平均粒径が約0.3μの単
分散立方体コア/シェル型乳剤を得た。この乳剤のpH
を6.5に調節して、ハロゲン化銀1モル当り、5■の
チオ硫酸ナトリウムと5■の塩化金酸(4水塩)とをそ
れぞれ加えて、75℃で60分間熟成し、シェル表面の
化学増感処理を行い、最終的に内部潜像型の単分散八面
体コア/シェル型乳剤(乳剤X)を得た。この乳剤の粒
子サイズ分布を電子顕微鏡写真から測定した結果、平均
粒径は0.30μ、変動係数(統計学上の標準偏差を前
記の平均粒径で除した値の百分率)は10%であった。
度で銀電極電位を一定に保ちながら、11当り20■の
チオエーテル(1,8−ジヒドロキシ−3,6−シチア
オクタン)を含有した75℃のゼラチン水溶液(pH−
5,5)によく攪拌しながら、1/8モルに相当する硝
酸銀を5分間で添加し、平均粒径が約0.14μの球型
AgB r単分散乳剤を得た。この乳剤にハロゲン化銀
1モル当り、20■のチオ硫酸ナトリウムと20■の塩
化金酸(4水塩)とを各々加えて、I)H7,5に調節
し、よく攪拌しながら、75℃で80分間化学増増感理
したものをコア乳剤とした0次に、同温度で硝酸銀水溶
液(7/8モルの硝酸銀を含む)と臭化カリウム水溶液
とをよく攪拌された条件下で、正八面体粒子が成長する
銀電極電位に保ちながら、40分間にわたって同時添加
し、シェルの成長を行わせ、平均粒径が約0.3μの単
分散立方体コア/シェル型乳剤を得た。この乳剤のpH
を6.5に調節して、ハロゲン化銀1モル当り、5■の
チオ硫酸ナトリウムと5■の塩化金酸(4水塩)とをそ
れぞれ加えて、75℃で60分間熟成し、シェル表面の
化学増感処理を行い、最終的に内部潜像型の単分散八面
体コア/シェル型乳剤(乳剤X)を得た。この乳剤の粒
子サイズ分布を電子顕微鏡写真から測定した結果、平均
粒径は0.30μ、変動係数(統計学上の標準偏差を前
記の平均粒径で除した値の百分率)は10%であった。
上記乳剤Xにパンクロ増感色素3.3′−ジエチル−9
−メチルチアカルボシアニンをハロゲン化銀1モル当り
5■を添加したのち、造核側として1−ホルミル−2−
(4−(3−(5−メルカプトテトラゾール−1−イル
)ベンズアミド〕フヱニル)ヒドラジン(■−10)、
ハロゲン化銀1モルあたり3.5XlO−’モルおよび
造核促進剤として第5表記載のものをハロゲン化!11
モルあたり1.8X10−’モル添加したものをポリエ
チレンテレフタレート支持体上に銀量が2.8g/dに
なるように塗布し、その際、その上にゼラチン及び硬膜
剤から成る保護層を同時塗布して、赤色光にまで感光す
る直接ポジ写真感光材料−1〜Na1Oを作成した。
−メチルチアカルボシアニンをハロゲン化銀1モル当り
5■を添加したのち、造核側として1−ホルミル−2−
(4−(3−(5−メルカプトテトラゾール−1−イル
)ベンズアミド〕フヱニル)ヒドラジン(■−10)、
ハロゲン化銀1モルあたり3.5XlO−’モルおよび
造核促進剤として第5表記載のものをハロゲン化!11
モルあたり1.8X10−’モル添加したものをポリエ
チレンテレフタレート支持体上に銀量が2.8g/dに
なるように塗布し、その際、その上にゼラチン及び硬膜
剤から成る保護層を同時塗布して、赤色光にまで感光す
る直接ポジ写真感光材料−1〜Na1Oを作成した。
上記の感光材料をIKWタングステン灯(色温度285
4 (ロ))感光針で、ステップウェッジを介して、0
.1秒間露光した。次に、自動現像機(Kodak P
roster I Processor)でKodak
ProsterPlus処理液(現像液pH10,7
)を用いて、38℃で18秒間現像を行い、同現像機で
引続き、水洗、定着、水洗後乾燥させた。こうして得た
、各試料の直接ポジ画像の最大濃度(D+5ax) 、
最低濃度(Dmin)を測定した。
4 (ロ))感光針で、ステップウェッジを介して、0
.1秒間露光した。次に、自動現像機(Kodak P
roster I Processor)でKodak
ProsterPlus処理液(現像液pH10,7
)を用いて、38℃で18秒間現像を行い、同現像機で
引続き、水洗、定着、水洗後乾燥させた。こうして得た
、各試料の直接ポジ画像の最大濃度(D+5ax) 、
最低濃度(Dmin)を測定した。
第5表
比較化合物E
比較化合物F
第5表から明らかな様に、本発明の一般式(1)で表わ
される化合物を処理した試料+11〜(5)比較例に比
べ、D+mayが高く、口sinが低く、高温高温経時
試験(写真特性−2)でも、Dmaxは低下せず、良好
な結果が得られた。
される化合物を処理した試料+11〜(5)比較例に比
べ、D+mayが高く、口sinが低く、高温高温経時
試験(写真特性−2)でも、Dmaxは低下せず、良好
な結果が得られた。
(発明の効果)
本発明によれば、高い最大画像濃度と低い最小画像濃度
とをあわせ与える直接ポジ写真感光材料が得られる。し
かも上記特性は高温下に保存しても損なわれないもので
あり、実用上のメリットは大である。
とをあわせ与える直接ポジ写真感光材料が得られる。し
かも上記特性は高温下に保存しても損なわれないもので
あり、実用上のメリットは大である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 予めかぶらされていない内部潜像型ハロゲン化銀粒子を
含有する写真乳剤層を少なくとも一層支持体上に有する
写真感光材料を像様露光後、かぶり処理し、又はかぶり
処理を施しながら現像処理して直接ポジ画像を形成する
方法において、前記現像処理を下記一般式( I )で示
される化合物の少くとも一種の存在下で行なうことを特
徴とする直接ポジ画像形成方法。 一般式〔 I 〕 A−B 式中、Aは処理時に造核促進剤を放出することのできる
ブロック基を表わし、Bはヘテロ原子を介して、Aに結
合している造核促進剤を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17975888A JPH0229644A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 直接ポジ画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17975888A JPH0229644A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 直接ポジ画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0229644A true JPH0229644A (ja) | 1990-01-31 |
Family
ID=16071366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17975888A Pending JPH0229644A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 直接ポジ画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0229644A (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58178345A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法 |
| JPS59201057A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6143739A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6195347A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS62245252A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS6337347A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラ−画像形成方法 |
| JPS63141045A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラ−写真感光材料 |
-
1988
- 1988-07-19 JP JP17975888A patent/JPH0229644A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58178345A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジハロゲン化銀感光材料の処理方法 |
| JPS59201057A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6143739A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6195347A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS62245252A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS6337347A (ja) * | 1986-08-01 | 1988-02-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラ−画像形成方法 |
| JPS63141045A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 直接ポジカラ−写真感光材料 |
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