JPH022999A - Ｘ線露光装置 - Google Patents
Ｘ線露光装置Info
- Publication number
- JPH022999A JPH022999A JP63145913A JP14591388A JPH022999A JP H022999 A JPH022999 A JP H022999A JP 63145913 A JP63145913 A JP 63145913A JP 14591388 A JP14591388 A JP 14591388A JP H022999 A JPH022999 A JP H022999A
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- JP
- Japan
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- ray
- mirror
- mask
- emitted light
- reciprocating movement
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はＸ線露光装置に関し、ざらに詳しくは大面積の
Ｘ線マスクパターンを均一に転写できるＸ線露光装置に
関する。
Ｘ線マスクパターンを均一に転写できるＸ線露光装置に
関する。
［従来の技術］
シンクロトロン放射光を使用づるＸ線露光装置の原理は
第３図に示すように、蓄積リング１中のシンクロトロン
放射光源２より発Ｖられたシンクロトロン放射光３をＸ
線吸収祠によりマスクパターンの描かれたＸ線マスク４
を通−して被加工物６上のレジス１〜膜５にマスクパタ
ーンを転写するものである。
第３図に示すように、蓄積リング１中のシンクロトロン
放射光源２より発Ｖられたシンクロトロン放射光３をＸ
線吸収祠によりマスクパターンの描かれたＸ線マスク４
を通−して被加工物６上のレジス１〜膜５にマスクパタ
ーンを転写するものである。
シンクロトロン放射光３は、電子軌道面に平行な方向に
は強度が均一であるが、垂直方向には鋭い角度分布をも
つため、放飼光源から約１０７ｒ１．離れた位置でも、
縦方向には幅ｆＩ１ｍｍの均一露光領域しか得られない
。従来、露光領域を拡大覆る方法として、１９８３年に
発行された用行物［ジャーナル・オブ・バキューム・１
ノイエンス・アンド・テクノ［１ジーＪ （Ｊｏｕｒｎ
ａｌ ｏｒ Ｖａｃｕｕｍ ５ｃｉｅｎｃｅ ａｎｄｒ
ｅｃｂｎｏｌｏｇｙ）［３１巻、１２６２〜１２６６頁
に開示されているように、シンクロ１〜ロン敢則光源２
とＸ線マスク４の間に設置したＸ線ミラー８を回転１１
１７を中心として振動さぜる方法が実施されている。
は強度が均一であるが、垂直方向には鋭い角度分布をも
つため、放飼光源から約１０７ｒ１．離れた位置でも、
縦方向には幅ｆＩ１ｍｍの均一露光領域しか得られない
。従来、露光領域を拡大覆る方法として、１９８３年に
発行された用行物［ジャーナル・オブ・バキューム・１
ノイエンス・アンド・テクノ［１ジーＪ （Ｊｏｕｒｎ
ａｌ ｏｒ Ｖａｃｕｕｍ ５ｃｉｅｎｃｅ ａｎｄｒ
ｅｃｂｎｏｌｏｇｙ）［３１巻、１２６２〜１２６６頁
に開示されているように、シンクロ１〜ロン敢則光源２
とＸ線マスク４の間に設置したＸ線ミラー８を回転１１
１７を中心として振動さぜる方法が実施されている。
［発明が解決しようとする課題］
以上述べた装置においでは、露光領域を拡大するという
目的は達しているが、次のような欠点を有している。
目的は達しているが、次のような欠点を有している。
即ら、マスク上を縦幅数ｍｍのＸ線ビームが上下に走査
するため、マスク上でＸ線に照射されている部分のみが
熱膨張を起し、被加工物にマスクパターンを転写する際
に位置ずれの原因となる。
するため、マスク上でＸ線に照射されている部分のみが
熱膨張を起し、被加工物にマスクパターンを転写する際
に位置ずれの原因となる。
本発明の［１的は、このような従来の問題点を除去し、
位置ずれの少ない大面積にわたる転写が可能なＸ線露光
装置を提供することにある。
位置ずれの少ない大面積にわたる転写が可能なＸ線露光
装置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明は、シンクロトロン放射光源から放射されるシン
クロトロン放射光をＸ線ミラーで反則させ、Ｘ線マスク
を通してＸ線レジストが塗布された被加工物上に照射し
てなるＸ線露光装置において、Ｘ線ミラーとして縦方向
に直線往復運動を覆る凸面鏡を用いることを特徴とする
Ｘ線露光装置である。
クロトロン放射光をＸ線ミラーで反則させ、Ｘ線マスク
を通してＸ線レジストが塗布された被加工物上に照射し
てなるＸ線露光装置において、Ｘ線ミラーとして縦方向
に直線往復運動を覆る凸面鏡を用いることを特徴とする
Ｘ線露光装置である。
［実施例］
以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第１図は本発明に係るＸ線露光装置の一実施例のＸ線ミ
ラ一部の概略構成図である。Ｘ線ミラ部以外の構成につ
いては第３図のＸ線露光装置と同様であるので、その説
明を省略する。
ラ一部の概略構成図である。Ｘ線ミラ部以外の構成につ
いては第３図のＸ線露光装置と同様であるので、その説
明を省略する。
叩ら、本発明では、第３図におけるＸ線ミラー８のかわ
りに第１図に示すにうな往復運動する凸面ｖ１１１を有
している。シンクロトロン放射光３は第１図の如きＸ線
ミラーで反則され、Ｘ線マスクおよび被加工物上に照射
されるが、Ｘ線ミラーは凸面鏡１１なのでビーム幅は拡
大される。さらに、駆動軸１２をｑｌ（１としてミラー
を縦方向（ビーム方向に対して垂直な方向）に往復運動
させることにより、照削角１３が変化するため、シンク
ロトロン放射光３の出射角が変化し、ビームがマスク上
をスキＡノンする。
りに第１図に示すにうな往復運動する凸面ｖ１１１を有
している。シンクロトロン放射光３は第１図の如きＸ線
ミラーで反則され、Ｘ線マスクおよび被加工物上に照射
されるが、Ｘ線ミラーは凸面鏡１１なのでビーム幅は拡
大される。さらに、駆動軸１２をｑｌ（１としてミラー
を縦方向（ビーム方向に対して垂直な方向）に往復運動
させることにより、照削角１３が変化するため、シンク
ロトロン放射光３の出射角が変化し、ビームがマスク上
をスキＡノンする。
第２図はマスク上におけるビーム幅を示す図でＡは本発
明によるビーム強度、Ｂは従来法によるビーム強度を示
す。同図かられかるように、ビーム幅を数倍に拡大する
ことは容易であり、マスクの部分的な熱膨張による位置
ずれを大幅に軽減できる。Ｊ：た、本発明ではミラーの
運動は直線運動だけなので、リニアアクチュエータ等を
用い、駆動１１１１１１を直接駆動することにより、装
置を単純化することかできる。
明によるビーム強度、Ｂは従来法によるビーム強度を示
す。同図かられかるように、ビーム幅を数倍に拡大する
ことは容易であり、マスクの部分的な熱膨張による位置
ずれを大幅に軽減できる。Ｊ：た、本発明ではミラーの
運動は直線運動だけなので、リニアアクチュエータ等を
用い、駆動１１１１１１を直接駆動することにより、装
置を単純化することかできる。
［発明の効果］
以上詳述した如く、本発明によればシンクロトロン敢ｑ
・１光を用いて大面積の均一露光を行う際、マスクの部
分的な熱膨張による位置ずれの少ない露光ができるとい
う顕著な効果を有するＸ線露光装置を提供できる。
・１光を用いて大面積の均一露光を行う際、マスクの部
分的な熱膨張による位置ずれの少ない露光ができるとい
う顕著な効果を有するＸ線露光装置を提供できる。
第１図は本発明の一実施例のＸ線ミラーを示づ概略構成
図、第２図は本発明によるＸ線露光におけるマスクーヒ
のＸ線強度分布を従来例と比較して承り図、第３図は従
来のＸ線露光装置の概略４１１１成図である。 １・・・蓄積リング ２・・・シンクロトロン放射光源 ３・・・シンクロトロン放射光 ４・・・Ｘ線マスク ５・・・レジスト膜６・・
・被加工物 ７・・・回転軸８・・・Ｘ線ミラ
ー １１・・・凸面鏡１２・・・駆動４ｑｂ １３・・・照Ｉ、！１角
図、第２図は本発明によるＸ線露光におけるマスクーヒ
のＸ線強度分布を従来例と比較して承り図、第３図は従
来のＸ線露光装置の概略４１１１成図である。 １・・・蓄積リング ２・・・シンクロトロン放射光源 ３・・・シンクロトロン放射光 ４・・・Ｘ線マスク ５・・・レジスト膜６・・
・被加工物 ７・・・回転軸８・・・Ｘ線ミラ
ー １１・・・凸面鏡１２・・・駆動４ｑｂ １３・・・照Ｉ、！１角
Claims (1)
- （１）シンクロトロン放射光源から放射されるシンクロ
トロン放射光をＸ線ミラーで反射させ、Ｘ線マスクを通
してＸ線レジストが塗布された被加工物上に照射してな
るＸ線露光装置において、Ｘ線ミラーとして縦方向に直
線往復運動をする凸面鏡を用いることを特徴とするＸ線
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145913A JPH022999A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | Ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145913A JPH022999A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | Ｘ線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH022999A true JPH022999A (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15395972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63145913A Pending JPH022999A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | Ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH022999A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6669815B1 (en) | 1997-09-11 | 2003-12-30 | Hymo Corporation | Sheet surface treating agent and ink-jet printing paper |
| US9264830B2 (en) | 2006-08-08 | 2016-02-16 | Thomson Licensing | Audio level meter |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP63145913A patent/JPH022999A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6669815B1 (en) | 1997-09-11 | 2003-12-30 | Hymo Corporation | Sheet surface treating agent and ink-jet printing paper |
| US9264830B2 (en) | 2006-08-08 | 2016-02-16 | Thomson Licensing | Audio level meter |
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