JPH02305014A - 静磁波装置 - Google Patents

静磁波装置

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JPH02305014A
JPH02305014A JP12601389A JP12601389A JPH02305014A JP H02305014 A JPH02305014 A JP H02305014A JP 12601389 A JP12601389 A JP 12601389A JP 12601389 A JP12601389 A JP 12601389A JP H02305014 A JPH02305014 A JP H02305014A
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JP
Japan
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thin film
magnetostatic wave
yig
major plane
ggg
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JP12601389A
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Toshio Nishikawa
敏夫 西川
Hiroaki Tanaka
裕明 田中
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は静磁波装置に関し、特に、GGG (ガドリ
ニウム、ガリウム、ガーネット)基板とGGG基板の一
方主面に形成されるYIG (イツトリウム、アイアン
、ガーネット)薄膜とを有し、たとえばフィルタ、発振
子、遅延線などとして用いられる、静磁波装置に関する
(従来技術) 第5図および第6図は、それぞれ、従来の静磁波装置の
一例を示す図解図および他の例を示す斜視図である。
第5図に示す静磁波装置1では、短冊状のGGG基板2
の一方主面にYIG薄膜3が形成され、そのYIG薄膜
3の主面上に2つの入出力アンテナ4aおよび4bが間
隔を隔てて形成されている。
また、第6図に示す静磁波装置1では、第5図に示す従
来例と比べて、さらに、エネルギーを効率よく閉じ込め
てQ値を高めるための2つの円板状の共振子電極5aお
よび5bが、入出力アンテナ4aおよび4bI?lでY
IG薄膜3の一方主面に形成されている。
これらの静磁波装置lは、そのGGG基板2がアース金
属板6上に配置される。そして、これらの静磁波装置で
は、YIG薄膜3に垂直に直流磁界を印加し一方の入出
力アンテナ4aに信号を入力すれば、一方の人出力ンテ
ナ4aから他方の入出力アンテナ4bに体積前進静磁波
(MSFVW)が伝搬され、他方の入出力アンテナ4b
から信号が出力される。
(発明が解決しようとする課題) ところが、これらの従来例では、GGG基板をアース金
属板に固定することが困難であってそれがアース金属板
上に配置されているだけであるので、GGG基板とアー
ス金属板との間の距離が変化しやすい。そして、その距
離が変化すると、エネルギーを閉じ込める効率が変わる
ので、Q値が変化してしまう。そのため、従来例では、
いずれも、Q値が不安定である。
それゆえに、この発明の主たる目的は、Q値の安定性の
よい、静磁波装置を提供することである。
(課題を解決するための手段) この発明は、GGG基板と、GGG基板の一方主面に形
成されるYIG薄膜と、YiG薄膜の主面上に形成され
る入出力アンテナと、GGG基板の他方主面に形成され
るアース電極とを含む、静磁波装置である。
(作用) GGG基板の他方主面にアース電極が形成されているた
め、エネルギーを閉じ込める効率がほとんど変わらない
(発明の効果) この発明によれば、エネルギーを閉し込める効率がほと
んど変わらないので、Q(iの安定性のよい静磁波装置
が得られる。
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
(実施例) 第1図はこの発明の一実施例を示す図解図である。この
静磁波装置10ば、たとえば矩形板状のGGG基板12
を含む。
GGG基板12の一方主面には、たとえば液相法などの
方法でYIG単結晶をエピタキシャル成長させることに
よって、YIG薄膜14が形成される。さらに、YIG
薄膜14の主面上には、その長手方向の一端側および他
端側でそれを横切るようにして、入出力アンテナ16a
および16bが、それぞれ形成される。
また、GGG基板12の他方主面には、たとえば銀など
の導電材料で、たとえばスパンタリング、蒸着、めっき
などの方法によって、アース電極18が形成される。
そして、この静磁波装置lOは、たとえば金属からなる
ケース20内に固定される。この場合、静磁波装置10
のアース電極1Bが、ケース20の底板20a上に、た
とえばはんだ付け、ろう付けなどの方法で固定される。
この静磁波装置10では、GGG基板12の他方主面に
アース電極1日が形成されているため、安定した7−ス
をとることができ、そのため、Q値の安定性がよい。
さらに、この静磁波装置10をたとえばケースなどの金
属板に固定する際には、アース電極18を金属板にたと
えばはんだ付け、ろう付けなどの方法で固定することが
できるので、容易にかつ強固に固定することができる。
また、この静磁波装置10では、アース電極18をたと
えば銀などの導電率の高い材料で形成した場合、それを
固定するためのたとえばケースなどの金属板が導電率の
低い材料で形成されていても、Q値などの特性がほとん
ど変わらない。
なお、この静磁波装置10は、たとえば、YIG薄膜1
4の主面に直交する方向に、直流磁界が印加される。そ
して、たとえば一方の入出力アンテナL6aに信号を入
力すれば、その入出力アンテナ16aから発生する電磁
波などによって、体積前進静磁波(MSFVW)が励起
される。また、この体積前進静磁波は、YIG薄膜14
上で他方の入出力アンテナ16b側に伝搬される。それ
から、伝搬された体積前進静磁波は、他方の入出力アン
テナ16bで受信され、その入出力アンテナ16bから
信号として出力される。
第2A図および第2B図は、それぞれ、第1図に示す実
施例の変形例を示し、第2A図はその平面図であり、第
2B図はその正面図である。この実施例では、特に、Y
IG基板14の一方主面において2つの入出力アンテナ
16aおよび16b間に、2つの円板状の共振子電極2
2aおよび22bが形成されている。そのため、それら
の共振子電極22aおよび22bによって、エネルギー
を閉じ込める効率が上がり、Q値が高くなる。したがっ
て、この実施例では、安定した高いQ値が得られる。
第3図は第2A図および第2B図に示す実施例の変形例
を示す正面図である。この実施例では、特に、GGG基
板12の他方主面側において、その長手方向の中間部を
横切るようにして、凹部12aが形成されている。そし
て、アース電極18は、その凹部12aの表面を含むG
GG基板12の他方主面に形成される。この実施例では
、GGG基板12の一部が薄くなるので、第2A図およ
び第2B図に示す実施例と比べて、エネルギーを閉じ込
める効率がさらに高くなり、そのため、Q値がさらに高
くなる。
第4A図および第4B図は、それぞれ、この発明の他の
実施例を示し、第4A図はその正面図であり、第4B図
はその平面図である。この実施例では、GGG基板12
の他方主面側において、その長手方向に間隔を隔てて、
多数の溝12b、12b、  ・・が形成されている。
そして、アース電極18は、それらの溝12b、12b
、  ・・の表面を含むGGG基板12の他方主面に形
成されている。この実施例のように、GGG基板12の
他方主面側に溝を形成し、溝の表面にもアース電極を形
成すれば、安定した高いQ値を得ることができるだけで
なく、静磁波の分散特性をコントロールすることもでき
る。
なお、静磁波装置10には、YIG薄膜14に対して平
行でかつ静磁波の伝搬方向に対して直角方向に磁界を印
加してもよい。この場合、YIG薄膜14上には、表面
静磁波(MSSW)が伝搬される。あるいは、YICF
!膜14に対して平行でかつ静磁波の伝搬方向に対して
平行な方向に磁界を印加してもよい。この場合、Y I
 G薄膜14上には、体積後退静磁波(MSBVW)が
伝搬される。このように、静磁波装置10に印加する磁
界の方向を任意に変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す図解図である。 第2A図および第2B図は、それぞれ、第1図に示す実
施例の変形例を示し、第2A図はその平面図であり、第
2B図はその正面図である。 第3図は第2A図および第2B図に示す実施例の変形例
を示す正面図ある。 第4A図および第4B図は、それぞれ、この発明の他の
実施例を示し、第4A図はその正面図であり、第4B図
はその平面図である。 第5図および第6図は、それぞれ、従来の静磁波装置の
一例を示す図解図および他の例を示す斜視図である。 図において、10は静磁波装置、12はGGG基板、1
4はYIG薄膜、16aおよび16bは入出力アンテナ
、18はアース電極を示す。 特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 岡 1) 全 啓 第5 囚 zoa      20 第2A図 第48図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 GGG基板、 前記GGG基板の一方主面に形成されるYIG薄膜、 前記YIG薄膜の主面上に形成される入出力アンテナ、
    および 前記GGG基板の他方主面に形成されるアース電極を含
    む、静磁波装置。
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JPH0379103A (ja) * 1989-08-23 1991-04-04 Sony Corp 薄膜強磁性共鳴共振子
WO1999005751A1 (fr) * 1997-07-24 1999-02-04 Tdk Corporation Dispositif d'ondes magnetostatiques

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JPH02118325U (ja) * 1989-03-08 1990-09-21

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