JPH0235980A - 露光マスク洗浄装置 - Google Patents
露光マスク洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0235980A JPH0235980A JP18516288A JP18516288A JPH0235980A JP H0235980 A JPH0235980 A JP H0235980A JP 18516288 A JP18516288 A JP 18516288A JP 18516288 A JP18516288 A JP 18516288A JP H0235980 A JPH0235980 A JP H0235980A
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- JP
- Japan
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- exposure mask
- cleaning
- rotation
- brush
- vertical
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体素子製造に用いる光露光用の露光マスク
洗浄装置に関する。
洗浄装置に関する。
従来、この種の露光マスク洗浄装置は第一の洗浄処理で
露光マスクをブラシ洗浄及びシャワー洗浄する際、露光
マスクを上下方向に動かしながら洗浄していた。
露光マスクをブラシ洗浄及びシャワー洗浄する際、露光
マスクを上下方向に動かしながら洗浄していた。
第２図は従来の露光マスク洗浄装置のシャワー洗浄部の
説明図である。１は露光マスク、３は露光マスク中の遮
光部であるクロムパターン、４はブラシ、５はシャワー
パイプである。
説明図である。１は露光マスク、３は露光マスク中の遮
光部であるクロムパターン、４はブラシ、５はシャワー
パイプである。
従来はシャワーパイプ５から電解液を出しながら、露光
マスク１を上下に動かしてブラシ４で露光マスク１の表
裏面を洗浄していた。
マスク１を上下に動かしてブラシ４で露光マスク１の表
裏面を洗浄していた。
しかしながら、ブラシ４は、これを使っているうちに摩
耗し、クロムパターン３のエツジにブラシ４から出た塵
埃が付着してしまうことがあり、垂直方向のクロムパタ
ーン３のエツジに付着した塵埃はシャワー洗浄の時に流
せるが、水平方向のエツジに付着した塵埃は、垂直方向
に洗浄液を流すシャワー洗浄では取り除くことができず
、その状態で露光マスクを露光に使用すると、クロムパ
ターン３のエツジに付着した塵埃が製品に転写されてし
まい、不良品となってしまうという欠点がある。
耗し、クロムパターン３のエツジにブラシ４から出た塵
埃が付着してしまうことがあり、垂直方向のクロムパタ
ーン３のエツジに付着した塵埃はシャワー洗浄の時に流
せるが、水平方向のエツジに付着した塵埃は、垂直方向
に洗浄液を流すシャワー洗浄では取り除くことができず
、その状態で露光マスクを露光に使用すると、クロムパ
ターン３のエツジに付着した塵埃が製品に転写されてし
まい、不良品となってしまうという欠点がある。
本発明の目的は前記課題を解決した露光マスク洗浄装置
を提供することにある。
を提供することにある。
上述した従来の露光マスク洗浄装置はブラシ洗浄、シャ
ワー洗浄の際、露光マスクを上下動させていたのに対し
、本発明の露光マスクは洗浄能力を高めるために上下運
動に加えて、露光マスク平面に対して垂直方向を回転軸
とする回転運動を加えたという相違点を有する。
ワー洗浄の際、露光マスクを上下動させていたのに対し
、本発明の露光マスクは洗浄能力を高めるために上下運
動に加えて、露光マスク平面に対して垂直方向を回転軸
とする回転運動を加えたという相違点を有する。
前記目的を達成するため、本発明は半導体装置の製造に
用いる露光マスクを垂直姿勢に保持して洗浄を行なう露
光マスク洗浄装置において、露光マスクを上下運動させ
る機構と、露光マスクを該マスクに対して垂直な回転軸
芯のまわりに回転させる機構とを有するものである。
用いる露光マスクを垂直姿勢に保持して洗浄を行なう露
光マスク洗浄装置において、露光マスクを上下運動させ
る機構と、露光マスクを該マスクに対して垂直な回転軸
芯のまわりに回転させる機構とを有するものである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である６図にお
いて、本発明は垂直姿゛勢で保持された露光マスク１を
上下動させる上下機ｍＡと、該露光マスク１を露光マス
クに対して垂直な回転軸芯のまわりに回動させる回転機
構Ｂとを備えている。
いて、本発明は垂直姿゛勢で保持された露光マスク１を
上下動させる上下機ｍＡと、該露光マスク１を露光マス
クに対して垂直な回転軸芯のまわりに回動させる回転機
構Ｂとを備えている。
該回転機Ｊ１１８は垂直に吊下した２本の保持アーム２
．２と、該保持アーム２の下端に装着した一対のホルダ
２ａ、２ａとを有しており、該回転機構Ｂは上下機構Ａ
に昇降Ｔｉｒ能に支持されている。
．２と、該保持アーム２の下端に装着した一対のホルダ
２ａ、２ａとを有しており、該回転機構Ｂは上下機構Ａ
に昇降Ｔｉｒ能に支持されている。
実施例において、一対のホルダ２ａ、２ａｔ−露光マス
ク１の対向角部を挟持して該露光マスク１を垂直姿勢に
保持する。回転機構Ｂは２木の保持アーム２．２を点線
で示すように左右方向に平行移動させるとともに上下方
向に平行移動させて、露光マスク１を矢印Ｃで示すよう
にマスク１に対して垂直な回転軸芯のまわりに回動させ
る。一方、上下Ｒ構Ａは回転機構Ｂを昇降させて露光マ
スク１を矢印りで示ずように上下動させる。
ク１の対向角部を挟持して該露光マスク１を垂直姿勢に
保持する。回転機構Ｂは２木の保持アーム２．２を点線
で示すように左右方向に平行移動させるとともに上下方
向に平行移動させて、露光マスク１を矢印Ｃで示すよう
にマスク１に対して垂直な回転軸芯のまわりに回動させ
る。一方、上下Ｒ構Ａは回転機構Ｂを昇降させて露光マ
スク１を矢印りで示ずように上下動させる。
本発明によれば、第２図のように露光マスク１を上下動
させてブラシ洗浄、シャワー洗浄を行なう際に、第１図
のように保持アーム２を交互に上下動させることにより
、露光マスク１に回転方向の動きを与える。この状ｇで
洗浄ずれは、ブラシから出た塵埃かクロムパターンのエ
ツジに付着しても、パターンが垂直方向に姿勢転換させ
ることにより、シャワー洗浄で洗い流すことが可能にな
る。
させてブラシ洗浄、シャワー洗浄を行なう際に、第１図
のように保持アーム２を交互に上下動させることにより
、露光マスク１に回転方向の動きを与える。この状ｇで
洗浄ずれは、ブラシから出た塵埃かクロムパターンのエ
ツジに付着しても、パターンが垂直方向に姿勢転換させ
ることにより、シャワー洗浄で洗い流すことが可能にな
る。
以上説明したように本発明は露光マスクを上下方向に動
かすとともに、回転運動を行なうことにより、ブラシの
摩耗により発生した塵埃かクロムパターンのエツジに付
着しても、洗い流すことかでき、これにより、露光マス
クに付着している塵埃は、はぼ皆無になり、露光マスク
上の塵埃が半導体基板に転写され製品に不良を発生させ
ることがなくなるという効果を有する。
かすとともに、回転運動を行なうことにより、ブラシの
摩耗により発生した塵埃かクロムパターンのエツジに付
着しても、洗い流すことかでき、これにより、露光マス
クに付着している塵埃は、はぼ皆無になり、露光マスク
上の塵埃が半導体基板に転写され製品に不良を発生させ
ることがなくなるという効果を有する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
例を示す図である。 １・・・露光マスク ２・・・保持アーム２ａ・
・・ホルダ Ａ・・・上下機構Ｂ・・・回転ａ
横 特許出願人 日本電気株式会社 代 理 人 弁理士 菅 野
中怜・ 箆１図
例を示す図である。 １・・・露光マスク ２・・・保持アーム２ａ・
・・ホルダ Ａ・・・上下機構Ｂ・・・回転ａ
横 特許出願人 日本電気株式会社 代 理 人 弁理士 菅 野
中怜・ 箆１図
Claims (1)
- （１）半導体装置の製造に用いる露光マスクを垂直姿勢
に保持して洗浄を行なう露光マスク洗浄装置において、
露光マスクを上下運動させる機構と、露光マスクを該マ
スクに対して垂直な回転軸芯のまわりに回転させる機構
とを有することを特徴とする露光マスク洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18516288A JPH0235980A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | 露光マスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18516288A JPH0235980A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | 露光マスク洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0235980A true JPH0235980A (ja) | 1990-02-06 |
Family
ID=16165916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18516288A Pending JPH0235980A (ja) | 1988-07-25 | 1988-07-25 | 露光マスク洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0235980A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011177664A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | マスク部材の洗浄装置 |
| CN106094443A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-11-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法 |
| CN108941129A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-12-07 | 明光康诚伟业机电设备有限公司 | 一种手机摄像头玻璃的清洗装置 |
-
1988
- 1988-07-25 JP JP18516288A patent/JPH0235980A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011177664A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | マスク部材の洗浄装置 |
| CN106094443A (zh) * | 2016-05-31 | 2016-11-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法 |
| CN106094443B (zh) * | 2016-05-31 | 2017-12-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法 |
| CN108941129A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-12-07 | 明光康诚伟业机电设备有限公司 | 一种手机摄像头玻璃的清洗装置 |
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