JPH0236164A - ２‐ニトロ‐５‐（置換アリールオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は２−ニトロ−５−（置換アリールオキシ）ベン
ゾヒドロキシム酸誘導体の製造法に関し、さらに詳しく
は除草剤として有用な下記式（Ｉ［）式中、２はＣＸま
たは窒素原子であり、ここて、Ｘは水素またはハロゲン
原子であり、Ｒ１及びＲ３はそれぞれ低級アルキル基で
あり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基である、 で示される２−ニトロ−５−（置換アリールオキシ）ベ
ンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法に関する。

先行技術 従来、前記式（Ｕ）化合物の製造方法として下記反応式
Ａに示す工程に従い合成する方法が知られている［特開
昭６２−２０１８６０号公報参照］。

しかしながら、アミド化の工程において使用する原料の
アミノオキシアルカン酸エステルは非常に高価である。

さらに、アルキル化の工程において、塩基の存在下でハ
ロゲン化合物を反応させる方法では、〇−アルキル化の
選択性が悪く非常に低収率であるという欠点を有してい
る。

また、アルキル化の工程において前記式中のＲ１がメチ
ル基の場合には、ジアゾメタンを用いることが可能であ
るが、ジアゾメタンは高価であり、毒性、爆発性が強く
工業的には使用できないという欠点を有している。

解決すべき課題 本発明の目的は、優れた除草活性化合物である前記式（
ｎ）の化合物を、入手し易い安価な原料を用いて、短い
反応工程で製造する方法を見い出すことである。

発明の要旨 本発明者らは、少ない施用量で高い障草活性を示し、殺
草スペクトラムが広く且つ主要作物に良好な選択性を有
する前記式（ＩＩ）で示される７エ二ルエーテル類の工
業的製法を確立すべく鋭意研究努力を重ねた。

その結果、従来の文献に未載の前記式（Ｉ）で示される
化合物を出発物質として用い、これをニトロ化すること
によりｌ工程で、除草剤として非常に有用な前記式（Ｉ
Ｉ）で示されるフェニルエーテル類を工業的に有利に製
造する方法を見い出しｔこ　。

かくして、本発明によれば、下記式（Ｉ）式中、２はＣ
Ｘまたは窒素原子であり、ここで、Ｘは水素またはハロ
ゲン原子であり、Ｒ１及びＲ３はそれぞれ低級アルキル
基であり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基である
、 で示される化合物をニトロ化することを特徴とする下記
式（ｎ） 式中、ＺＳＲ’、Ｒ”及びＲ３は上記定義のとおりであ
る、 で示される化合物の製造方法が提供される。

上記式（Ｉ）及び（ｎ）で示される化合物は立体異性体
（Ｓ　ｙｎ型及びＡｎｔｉ型）として存在しうるが、こ
れらはいずれも本発明の範囲にあることを理解すべきで
ある。

本発明の方法は、出発原料として用いられる上記式（Ｉ
）で示される化合物が容易に入手できる３−（置換アリ
ールオキシ）安息香酸エステル誘導体から３工程で容易
に製造することができ、しかもこれをニトロ化すること
により、前記式（Ｉ［）で示されるフェニルエーテル類
を工業的に安価に製造できる非常に有用な方法である。

さらに本発明の方法によれば、出発物質としてＡｎｔｉ
型含量の多いＳｙｎ型及びＡｎｔｉ型の混合物を用いて
も、反応生成物中にはＳｙｎ型化合物が優先的に生成し
、この反応生成物を結晶化等の後処理することにより、
純粋な形でＳｙｎ型化合物を得ることができる。

発明の詳細な説明 本明細書において、「ハロゲン原子」としてはたとえば
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子が挙げられる。こ
れらの中でもフッ素または塩素原子が好ましい。

また、本明細書において「低級」なる語はこの語が付さ
れた原子団または化合物の炭素原子数が６個以下、好ま
しくは４個以下であることを意味する。

かくして、「低級アルキル基」は直鎖状または分岐鎖状
のいずれのタイプのものであってもよく、例えばメチル
、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、
Ｓ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔブチル、ｎ−アミル等が挙
げられる。

上記の方法において、式（Ｉ）の化合物のニトロ化に用
いられるニトロ化剤としては、硝酸／硫酸、硝酸ナトリ
ウム／硫酸、硝酸カリウム／硫酸等の通常のニトロ化剤
が挙げられる。

これらニトロ化剤の使用量は厳密に制限されるものでは
ないが、一般には式（Ｉ）の化合物１モル当り１〜１０
モル、好ましくは１〜３モルの範囲内で用いるのが適当
である。また、反応温度もニトロ化剤の種類等に応じて
変えることができるが、一般には一２０°Ｏ−１００℃
、好ましくは一１０°Ｃ〜８０℃の範囲の温度を用いる
ことができ、反応はかかる温度において通常０．５〜５
時間程度で終らせることができる。

さらに、上記ニトロ化反応は無溶媒で行なってもよく、
或いは溶媒、例えばジクロルメタン、ジクロルエタン等
の中で行なってもよい。

反応終了後、反応混合物例えばを水中にあけ有機溶媒で
抽出し、結晶化させることにより、前記式（Ｉ［）の目
的化合物を容易に好収率で単離することができる。

本発明の方法において出発原料として使用される式（Ｉ
）の化合物は新規なものであり、例えば下記反応式Ｂに
示す方法により合成することができる。

反応式Ｂ ［第１工程：反応（ａ）又は反応（ｂ）］ＣＦ。

（Ｘ） Ｃｌ ＯＲ’ 上記各式中、２％Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記定義のとお
りであり、Ｒ′は低級アルキルであり、Ｌは脱離性基で
ある。

以下、上記第１〜３工程についてさらに詳しく説明する
。

第１工程：反応（ａ）の工程は、３−（置換アリールオ
キシ）安息香酸エステル誘導体（ＩＩＩ）と硫化剤（Ｔ
Ｖ）を不活性溶媒中で反応させることにより化合物（Ｖ
）を製造する工程である。

硫化剤（ＩＶ）としては、例えば、２，４−ビス（４−
メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２゜４−ジフオ
スフエタンー２，４−ジスルフィド、ジエチルジチオフ
ォスフエイト、三硫化リン等を用いることができる。

反応は、化合物（■）１モル当り硫化剤（ＩＶ）を一般
に１〜５０モル、好ましくは１〜２０モル用い、通常室
温乃至溶媒の還流温度、好ましくは室温乃至約１５０度
の範囲内の温度で、通常１時間乃至ｌＯ日日間好ましく
は３時間乃至７日間行われる。

この反応において使用しうる不活性溶媒としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類：ク
ロルベンゼン、アセトニトリル等が挙げられる。

反応終了後、例えば、溶媒を留去した後カラムクロマト
グラフィーにより処理するか、或いは反応混合物にペン
タン、ヘキサン、石油エーテル等の非極性溶媒を加えて
沈澱を生じさせ、濾過し、濾液を濃縮するなどの方法に
より、式（Ｖ）の化合物を充分な純度で単離することが
できる。

反応（ｂ）の工程は、３−（置換アリールオキン）安息
香酸アミド誘導体（ＩＩ）とホスゲンを不活性溶媒中で
反応させ、イミドイルクロライドの塩（Ｘ）を得、これ
に低級アルコールを反応させた後、塩基の存在下、硫化
水素を反応させることにより、本発明の化合物（Ｖ）を
製造することができる。

上記反応（ｂ）に示す反応（イ）は、化合物（［）１モ
ル当りホスゲンを１〜３０モル好ましくは２〜２０モル
用い、通常室温乃至溶媒の還流温度、好ましくは室温乃
至約１００°Ｃの範囲内の温度で、通常１時間乃至１０
日間、好ましくは３時間乃至７日間行われる。

この反応において使用しうる不活性溶媒としては、例え
ば、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素；テトラヒドロ７ラン、ジオキサン
等のエーテル類等が挙げられる。

反応終了後、中間体（Ｘ）を単離することも出来るが、
通常溶媒と過剰のホスゲンを留去した残留物を用いて次
の反応（ロ）を行う。

反応（ロ）と（ハ）は、通常同一の溶媒、同一の反応容
器で連続して行うことが出来る。

反応（ロ）は、化合物（Ｘ）１モル当り低級アルコール
を１〜１０モル好ましくは１〜２モル用い、通常約−５
０°Ｃ乃至溶媒の還流温度、好ましくは約−２０°Ｃ乃
至室温の範囲内の温度で、通常１分間乃至１日間、好ま
しくは５分間乃至１時間行われる。

反応（ハ）において使用する塩基としては、例えば、ト
リエチルアミン、ピリジン、２．６−ルチジン、ジアザ
ビシクロウンデセン等を用いることができる。塩基は化
合物（ＸＩ）１モル当り１〜２０モル好ましくは２〜１
０モル用い、硫化水素は化合物（ＸＩ）１モル当り１〜
５０モル好ましくは１〜２０モル用い、通常約−５０°
Ｃ乃至溶媒の還流温度、好ましくは約−２０°Ｃ乃至室
温の範囲内の温度で、通常１分間乃至１日間、好ましく
は５分間乃至１時間行われる。

この反応において使用しうる不活性溶媒としては、例え
ば、ジクロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル のエーテル類及びそれらの混合溶媒等が挙げられる。

反応終了後、通常の後処理をした後、過剰の塩基を留去
することにより、充分な純度で本発明化合物を単離する
ことができる。

第２工程二木工程は、第１工程で得られる３−（置換ア
リールオキシ）チオ安息香酸○ーアルキルエステル誘導
体（Ｖ）とヒドロキシルアミン（ＶＩ）を有機溶媒中で
反応させることにより化合物（■）を製造する工程であ
る。

反応は、化合物（Ｖ）１モル当りヒドロキシルアミン（
ＶＩ）を一般に１〜５モル、好ましくは１〜２モル用い
、氷冷下乃至２００°Ｃ１好ましくは室温乃至１２０°
Ｃの範囲内の温度で、通常５分間乃至１０日間、好まし
くは１５分間乃至３日間行なわれる。

この反応において使用される溶媒としては、例えば、メ
タノール、エタノール等のアルコール類；ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素：エーテル、テト
ラヒドロ７ラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロル
メタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類ニアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等の有機溶媒及びこれらの溶媒と水の
混合溶媒が挙げられる。

また、ヒドロキシルアミン（ＶＩ）の溶液を調製するに
際して、ヒドロキシルアミンの塩酸塩、硫酸塩、シュウ
酸塩などの塩を用いる場合には、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナ
トリウム、酢酸カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナ
トリウムエトキサイド等の塩基を用いて予め処理するの
が好都合である。

反応終了後、反応混合物を例えば溶媒を留去した後、水
と有機溶媒での抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー等の常法に従って処理することにより、式（■）の化
合物を単離することができる。

第３工程二木工程は第２工程で得られる３−（置換アリ
ールオキシ）ベンゾヒドロキシム酸Ｏーアルキルエーテ
ル誘導体（■）と化合物（■）を、塩基の存在下に有機
溶媒中で反応させて本発明の方法の出発原料である化合
物（Ｉ）を製造する工程である。

反応は化合物（■）１モル当り化合物（■）を一般に１
〜５モル、好ましくは１〜３モル用い、通常−５０℃乃
至溶媒の還流温度、好ましくはｌＯ′Ｃ乃至８０度付近
の温度で、通常０．５乃至２０時間行われる。

上記化合物（■）における脱離性基りとしては、塩素、
臭素、ヨウ素、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トル
エンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、
トリプルオロメタンスルホニルオキシ基等を例示するこ
とができる。

上記反応において使用しうる溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール等のアルコール類；ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素：テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類；クロロホルム、塩化メ
チレン等のハロゲン化炭化水素；アセトン、アセトニト
リル、ジメチルポルムアミド、ジメチルスルホキシド、
Ｎ−メチルピロリドン等の有機溶媒及びこれらの溶媒と
水との混合溶媒が挙げられる。

また、使用しうる塩基としては、ナトリウムメトキサイ
ド、ナトリウムエトキサイド、水素化ナトリウム、カリ
ウムｔ−ブトキサイド、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を例示すること
ができる。

さらに、上記反応は２層系中で行うこともでき、その場
合は、テトラブチルアンモニウムブロマイド、ベンジル
トリブチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム塩、ベ
ンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド等の四級ホ
スホニウム塩等の相間移動触媒を化合物（■）に対して
１〜６０重量％、好ましく１ま５〜４０重量％用いて行
なうのが好都合である。

反応終了後、反応混合物を例えば水中にあけ有機溶媒で
の抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の常法に
従って処理することにより、式（Ｉ）の化合物を単離す
ることができる。

次に実施例により本発明の方法をさらに具体的に説明す
る。

メチル　Ｏ−メトキンカルボニルメチル　３−（２−ク
ロロ−４−トリフルオロメチルフェノキシ）ベンゾヒド
ロキシメート０．４７　ｇ　（Ｉ，１２ミリモル）（Ｓ
ｙｎ型：Ａｎｔｉ型−約４＝６）のジクロルエタン（０
，７１ｍＱ）溶液に硫酸１．３１ｇを−ｌＯ°Ｃで加え
、得られた溶液に硝酸カリウムを一２°Ｃ〜５°Ｃで少
しずつ加えた後、さらに同温度で２時間撹拌した。反応
混合物を氷水ｌＯｍＱに注ぎ、ジクロルメタン１０ｍＱ
で２回抽出し、水、飽和食塩水の順で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、溶媒を留去し得
られる油状物質（Ｓ　ｙｎ型：Ａｎｔｉ型＝約１０：ｌ
）をメタノールで結晶化させ、目的の化合物Ｎｏ、１を
得た（収量０．３６ｇ、収率７０％、Ｓｙｎ型のみ）。

上記実施例と同様の方法で下記表−１に示す式（Ｈ）の
化合物を合成した。

参考例：式（ｒ）の化合物の製造 メチル　３−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフ
ェノキシ）ベンゾエート２４．４ｇ（０゜０７４モル）
をキシレン８０ｒｘＱに溶解し、２゜４−ビス（４−メ
トキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−シフォス
フエタンー２．４−ジスルフィド４００ｇ（０，０９９
モル）を添加した後、還流温度で２０時間撹拌し、キシ
レンを留去した。得られる残渣をカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル／ｎ−ヘキサン−エーテル９８：２）
で精製し、目的の化合物Ｖａを得た（収量２３゜０ｇ１
収率９０％）。

アミド４．２　ｇ　（０，０１２２モル）　ヲ、ホスゲ
ン８．２ｇの塩化メチレン溶液（２６ｍ（２）に室温で
加え、同温度で１８時間撹拌し、過剰のホスゲン及び塩
化メチレンを留去した。得られた残渣を塩化メチレン２
６ｍＱに溶がし、エタノール０．５９ｇ　（０，０１２
８モル）のＴＨＦ溶液（２ｏｍＱ）中に５〜ｌＯ℃で滴
下した。滴下終了後３０分間、同温度で撹拌し、５〜１
０℃でピリジン４．３ｍＱ（０，０５３２モル）を滴下
しながら硫化水素を飽和するまで吹き込んだ。さらに同
温度で１５分間撹拌した後、溶媒を留去し、水３０ｒａ
Ｑを加えエーテル３０ＩＩＩＱで３回抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、溶媒とピリジン
を留去して目的の化合物Ｖｆを得た（収量４．０ｇ、収
率９１％）。

上記（Ａ）及び（Ａ′）と同様の方法により下記表−２
に示す式（Ｖ）の化合物を合成した。

Ｎ、Ｎ−ジメチル−３−（３−クロロ−５−トリフルオ
ロメチル−２−ピリジルオキシ）ペンズ（Ｂ）　　メチ
ル　３−（２−クロｏ−４−トリフヒドロキシルアミン
塩酸塩１．５３ｇ　（０，０２２モル）をメタノール２
１ｍＱに溶解し、２８％ナトリウムメトキサイド／メタ
ノール溶液４．２４ｇ（０，０２２モル）を氷冷下で加
えた。同温度で１５分間撹拌後、吸引濾過してヒドロキ
シルアミンのメタノール溶液を得た。

○−メチル　３−（２−クロロ−４−トリフルオロメチ
ルフェノキシ）チオベンゾエート６．５９ｇ（０，０１
９モル）のメタノール（Ｉ５＋＋＋Ｑ）溶液に先に得た
ヒドロキシルアミンのメタノール溶液を加え、還流温度
で１．５時間撹拌した。溶媒を留去し得られる油状混合
物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／ｎ−ヘキ
サン−酢酸エチル４；Ｉ）で精製し、目的の化合物■ａ
を得た（収量５．５６ｇ　　収率８５％　Ｓｙｎ：Ａｎ
ｔｉ−約４＝６）。

これをざらにカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／
クロロホルム）で注意深く精製することにより、Ａｎｔ
ｉ体（化合物■ｂ）及びＳｙｎ体（化合物■Ｃ）を得る
ことができた。

上記（Ｂ）と同様の方法により下記衣−３に示す式（■
）の化合物を合成した。

（Ｃ）　　メチル　Ｏ−メトキシカルボニルメチルメチ
ル　３−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノ
キシ）ベンゾヒドロキシメート３゜４６ｇ（０，０１モ
ル）のＤＭＦ　（３０ｍ（Ｉ）溶液に、水素化ナトリウ
ム（６０％　ｉｎ　ｏｉｌ）　０．４４ｇ（０，０１１
モル）を少しずつ添加後、室温で３０分間撹拌し、得ら
れた溶液にブロモ酢酸メチル１６８　ｇ　（０，０１１
モル）を室温で加え、さらに室温で３時間撹拌した。反
応混合物を氷水６０ｍＱに注ぎ、エーテル４０ＩｌｌＱ
で２回抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。乾燥剤を濾別後、溶媒を留去し得られる油
状物質をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル５：１）で精製し、目的の化合物
Ｉａを得た（収量３．８ｇ、収率９１％、Ｓｙｎ：Ａｎ
ｔｉ−約４＝６）。

これをさらにカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／
ｎ−ヘキサン−クロロホルム２＝３）で注意深く精製す
ることにより、Ａｎｔｉ体（化合物Ｉｂ）及びＳｙｎ体
（化合物Ｉｃ）を得ることができた。

上記（Ｃ）と同様の方法により下記表−４に示す式（Ｉ
）の化合物を合成した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・（
   I ） 式中、ＺはＣＸまたは窒素原子であり、こ こで、Ｘは水素またはハロゲン原子であり、Ｒ＾１及び
   Ｒ＾３はそれぞれ低級アルキル基であり、Ｒ＾２は水素
   原子または低級アルキル基である、 で示される化合物をニトロ化することを特徴とする式（
   II） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・（I
   I） 式中、Ｚ、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上記定義のとお
   りである、 で示される２−ニトロ−５−（置換アリールオキシ）ベ
   ンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法。