JPH01153673A - ２−アシルシクロヘキサン誘導体およびその製造法 - Google Patents
２−アシルシクロヘキサン誘導体およびその製造法Info
- Publication number
- JPH01153673A JPH01153673A JP31355587A JP31355587A JPH01153673A JP H01153673 A JPH01153673 A JP H01153673A JP 31355587 A JP31355587 A JP 31355587A JP 31355587 A JP31355587 A JP 31355587A JP H01153673 A JPH01153673 A JP H01153673A
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- JP
- Japan
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- formula
- group
- general formula
- compound
- acylcyclohexane
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- Pending
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は新規な２−アシルシクロヘキサン誘導体および
その製造法に関するものである。さらに詳しくは、特開
昭６２−１６７５２６号、特願昭６２−１６７６８８号
、特願昭６２−１６９５４８号、特願昭６２−１８１７
４４号、特願昭６２−１８５２８４号等に記載の除草剤
を製造する上で有用な製造原料である一般式［１］〔式
中、Ｘは低級ハロアルキル基または低級ハロアルコキシ
基を表わし Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８は水素原子またはメチル
基を表わし Ｒ４は低級アルキル基または低級アルコキ
シメチル基を表わす。〕 で示される２−アシルシクロヘキサン誘導体（以下、本
発明化合物と記す。）およびその製造法を提供するもの
である。 まず、本発明化合物の製造法について説明する。 本発明化合物は一般式［１１ および／または一般式〔曹〕 〔一般式［１］および（１） ｊ（オイテＸ１Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ８およびＲ４は前記と同じ意味を表わす。〕で示
されるシクロヘキセノン誘導体を触媒の存在下に転位反
応を起こさせることにより製造することができる。 該反応は、通常不活性溶媒中で行われ、用いられる触媒
としては、例えば４−ジメチルアミノピリジン等の塩基
、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸や塩化亜鉛等の
ルイス酸などがあげられ、通常塩基触媒が用いられる。 反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トル
エン、クロロホルム、ジクロロエタン、酢酸エチル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等があ
げられる。用いられる触媒の量は一般式［１］または〔
閂〕で示される化合物１当量に対して通常０．０ Ｏ５
〜０．５当量用いられる。反応温度の範囲は通常６０〜
１５０℃であり、該反応は通常数時間で終了し、反応終
了後は水にあけ、酸性条件下で有機溶媒抽出等の通常の
後処理を行う仁とにより本発明化合物を得る仁とができ
る。また、必要によ−り再結晶、クロマトグラフィー等
の操作により精製する。 また、本発明化合物は一般式［ＩＶ］ 〔式中、Ｘ％Ｒ１、Ｒ＊およびＲ１１は前記と同じ意味
を表わす。〕 で示される化合物と一般式［Ｖｌ （ＲＣ０）２０ ［Ｖｌ
その製造法に関するものである。さらに詳しくは、特開
昭６２−１６７５２６号、特願昭６２−１６７６８８号
、特願昭６２−１６９５４８号、特願昭６２−１８１７
４４号、特願昭６２−１８５２８４号等に記載の除草剤
を製造する上で有用な製造原料である一般式［１］〔式
中、Ｘは低級ハロアルキル基または低級ハロアルコキシ
基を表わし Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８は水素原子またはメチル
基を表わし Ｒ４は低級アルキル基または低級アルコキ
シメチル基を表わす。〕 で示される２−アシルシクロヘキサン誘導体（以下、本
発明化合物と記す。）およびその製造法を提供するもの
である。 まず、本発明化合物の製造法について説明する。 本発明化合物は一般式［１１ および／または一般式〔曹〕 〔一般式［１］および（１） ｊ（オイテＸ１Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ８およびＲ４は前記と同じ意味を表わす。〕で示
されるシクロヘキセノン誘導体を触媒の存在下に転位反
応を起こさせることにより製造することができる。 該反応は、通常不活性溶媒中で行われ、用いられる触媒
としては、例えば４−ジメチルアミノピリジン等の塩基
、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸や塩化亜鉛等の
ルイス酸などがあげられ、通常塩基触媒が用いられる。 反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トル
エン、クロロホルム、ジクロロエタン、酢酸エチル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等があ
げられる。用いられる触媒の量は一般式［１］または〔
閂〕で示される化合物１当量に対して通常０．０ Ｏ５
〜０．５当量用いられる。反応温度の範囲は通常６０〜
１５０℃であり、該反応は通常数時間で終了し、反応終
了後は水にあけ、酸性条件下で有機溶媒抽出等の通常の
後処理を行う仁とにより本発明化合物を得る仁とができ
る。また、必要によ−り再結晶、クロマトグラフィー等
の操作により精製する。 また、本発明化合物は一般式［ＩＶ］ 〔式中、Ｘ％Ｒ１、Ｒ＊およびＲ１１は前記と同じ意味
を表わす。〕 で示される化合物と一般式［Ｖｌ （ＲＣ０）２０ ［Ｖｌ
【式中、Ｒ４は前記と同じ意味を表わす。】で示される
酸無水物とを触媒の存在下に反応させることによって得
ることができる。 該反応は、通常不活性溶媒中で行われ、触媒としては前
記の転位反応で用いたものと同様の触媒が用いられる。 用いられる反応溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、クロロホルム、ジクロロエタン、酢酸エチル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等の有
機溶媒があげられ、反応温度は通常５０〜１５０℃の範
囲である。 反応に供せられる試剤の量は、一般式［ＩＶ］で示され
る化合物１当量に対して、一般式（Ｖｌで示される酸無
水物は通常１〜５当量、触媒は通常０．００５〜０．５
当量である。該反応は通常数時間で終了し、反応終了後
は水にあけ、酸性条件下で有機溶媒抽出等の通常の後処
理を行うことにより本発明化合物を得ることができる。 また、必要により再結晶、クロマトグラフィー等の操作
により精製する。 次に、これらの製造法により製造される本発明化合物の
いくつかを第１表に示す。 第 １ 表 尚、本発明化合物を製造する際の原料化合物である一般
式［１１、［１３、［ＩＶ］で示される化合物は下記の
経路により製造することができる。 ［式中、ｘ、 Ｒｔ、Ｒ２、Ｒ８およびＲ４は前記と同
じ意味を表わし Ｒ６は低級アルキル基を表わす。］即
ち、置換ベンゼンチオールとα、β−不飽和アルデヒド
とを塩基触媒の存在下に付加反応を行わせ、次いでＷｉ
ｔｔｉｇ反応を行い、さらにマロン酸エステル誘導体を
反応させて環化反応を行い、アルカリ加水分解、ついで
脱炭酸反応を行って、−最中［１％’ｌで示される化合
物番得ることができる。 一般式［ＩＶ］で示される化合物は不活性溶媒中、塩基
の存在下に酸ハロゲン化物と反応させることによって、
−最中［１１）および／またはＥｌ］で示される化合物
に導かれる。 本発明化合物は、〇−置換ヒドロキシルアミンと反応さ
せることにより有用な除草性化合物に導かれる。 次に、本発明化合物の製造例を具体例にて示すが、本発
明は下記の製造例のみに限定されるものではない。 製造例１ 〔本発明化合物（８）の製造〕８．６ｇの１
−プロピニルオキシ−５−［２−（４−）リフルオロメ
チルフェニルチオ）エチルコシクロヘキサン−１，８−
ジオンと−０，５１の４−ジメチルアミノピリジンとを
１５１１のアセトニトリルに溶かし、８．５時間加熱還
流した。反応赦を水に加え、塩、酸で酸性にして酢酸エ
チルで抽出した。減圧下に酢酸エチルを除去して８．．
１ｆの２−プロピオニル−５−（２−（４−）リフルオ
ロメチルフェニルチオ）エチルコシクロヘキサン−１゜
８−ジオンを得た。 ’ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（Ｊｓ） δ（ｐｐｍ）１８．５（ＩＨ，Ｓ）、７．４５（４Ｈｓ
ＡＢＱ）、８．、ｏ ８ （２Ｈ，ｔ ）、８．０〜１
．５（９Ｈ，ｍ）、１．１２（８Ｈ。 ｔ） 製造例２ 〔本発明化合物（２）の製造〕５−（２−（
４−トリフルオロメチルフェニルチオ）エチルコシクロ
ヘキサン−１，８一ジオン８．２ｆをトルエン２０ｇ＋
／に溶かし、無水酢酸１．２ｇと４−ジメチルアミノピ
リジン０．８ｆとを□加え、８時間加熱還流した。反応
液を室温まで放冷した後、希塩酸次いで水で洗浄した。 減圧下に溶媒を除去して８．２１の２−アセチル−５−
［２−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）エチル
コシクロヘキサン−１，８−ジオンを得た。 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ６３） δ（ｐｐｍ） １８．１６ （ＩＨ，ｓ ）、７．４６
（４Ｈ＃ＡＢｑ）、８．０８（２Ｈ，ｔ）、２，５８（
８Ｈ，ｓ）、２．８〜１．６（７Ｈ，ｍ）上記のように
して得られた本発明化合物のいくつかを第２表に示す。
酸無水物とを触媒の存在下に反応させることによって得
ることができる。 該反応は、通常不活性溶媒中で行われ、触媒としては前
記の転位反応で用いたものと同様の触媒が用いられる。 用いられる反応溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、クロロホルム、ジクロロエタン、酢酸エチル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル等の有
機溶媒があげられ、反応温度は通常５０〜１５０℃の範
囲である。 反応に供せられる試剤の量は、一般式［ＩＶ］で示され
る化合物１当量に対して、一般式（Ｖｌで示される酸無
水物は通常１〜５当量、触媒は通常０．００５〜０．５
当量である。該反応は通常数時間で終了し、反応終了後
は水にあけ、酸性条件下で有機溶媒抽出等の通常の後処
理を行うことにより本発明化合物を得ることができる。 また、必要により再結晶、クロマトグラフィー等の操作
により精製する。 次に、これらの製造法により製造される本発明化合物の
いくつかを第１表に示す。 第 １ 表 尚、本発明化合物を製造する際の原料化合物である一般
式［１１、［１３、［ＩＶ］で示される化合物は下記の
経路により製造することができる。 ［式中、ｘ、 Ｒｔ、Ｒ２、Ｒ８およびＲ４は前記と同
じ意味を表わし Ｒ６は低級アルキル基を表わす。］即
ち、置換ベンゼンチオールとα、β−不飽和アルデヒド
とを塩基触媒の存在下に付加反応を行わせ、次いでＷｉ
ｔｔｉｇ反応を行い、さらにマロン酸エステル誘導体を
反応させて環化反応を行い、アルカリ加水分解、ついで
脱炭酸反応を行って、−最中［１％’ｌで示される化合
物番得ることができる。 一般式［ＩＶ］で示される化合物は不活性溶媒中、塩基
の存在下に酸ハロゲン化物と反応させることによって、
−最中［１１）および／またはＥｌ］で示される化合物
に導かれる。 本発明化合物は、〇−置換ヒドロキシルアミンと反応さ
せることにより有用な除草性化合物に導かれる。 次に、本発明化合物の製造例を具体例にて示すが、本発
明は下記の製造例のみに限定されるものではない。 製造例１ 〔本発明化合物（８）の製造〕８．６ｇの１
−プロピニルオキシ−５−［２−（４−）リフルオロメ
チルフェニルチオ）エチルコシクロヘキサン−１，８−
ジオンと−０，５１の４−ジメチルアミノピリジンとを
１５１１のアセトニトリルに溶かし、８．５時間加熱還
流した。反応赦を水に加え、塩、酸で酸性にして酢酸エ
チルで抽出した。減圧下に酢酸エチルを除去して８．．
１ｆの２−プロピオニル−５−（２−（４−）リフルオ
ロメチルフェニルチオ）エチルコシクロヘキサン−１゜
８−ジオンを得た。 ’ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（Ｊｓ） δ（ｐｐｍ）１８．５（ＩＨ，Ｓ）、７．４５（４Ｈｓ
ＡＢＱ）、８．、ｏ ８ （２Ｈ，ｔ ）、８．０〜１
．５（９Ｈ，ｍ）、１．１２（８Ｈ。 ｔ） 製造例２ 〔本発明化合物（２）の製造〕５−（２−（
４−トリフルオロメチルフェニルチオ）エチルコシクロ
ヘキサン−１，８一ジオン８．２ｆをトルエン２０ｇ＋
／に溶かし、無水酢酸１．２ｇと４−ジメチルアミノピ
リジン０．８ｆとを□加え、８時間加熱還流した。反応
液を室温まで放冷した後、希塩酸次いで水で洗浄した。 減圧下に溶媒を除去して８．２１の２−アセチル−５−
［２−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）エチル
コシクロヘキサン−１，８−ジオンを得た。 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ６３） δ（ｐｐｍ） １８．１６ （ＩＨ，ｓ ）、７．４６
（４Ｈ＃ＡＢｑ）、８．０８（２Ｈ，ｔ）、２，５８（
８Ｈ，ｓ）、２．８〜１．６（７Ｈ，ｍ）上記のように
して得られた本発明化合物のいくつかを第２表に示す。
Claims (3)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは低級ハロアルキル基または低 級ハロアルコキシ基を表わし、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３
は水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ＾４は低級アル
キル基または低級アルコキシメ チル基を表わす。〕 で示される２−アシルシクロヘキサン誘導体。 - （２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼および／または ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは低級ハロアルキル基または低 級ハロアルコキシ基を表わし、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３
は水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ＾４は低級アル
キル基または低級アルコキシメ チル基を表わす。〕 で示されるシクロヘキセノン誘導体を触媒の存在下に転
位反応を起こさせることにより一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は前
記と同じ意味を表わす。〕 で示される２−アシルシクロヘキサン誘導体を製造する
方法。 - （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは低級ハロアルキル基または低 級ハロアルコキシ基を表わし、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３
は水素原子またはメチル基を表わす。〕 で示される化合物と一般式 （Ｒ＾４ＣＯ）＿２Ｏ 〔式中、Ｒ＾４は低級アルキル基または低級アルコキシ
メチル基を表わす。〕 で示される酸無水物とを触媒の存在下に反応させること
を特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は前
記と同じ意味を表わす。］ で示される２−アシルシクロヘキサン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31355587A JPH01153673A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | ２−アシルシクロヘキサン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31355587A JPH01153673A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | ２−アシルシクロヘキサン誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01153673A true JPH01153673A (ja) | 1989-06-15 |
Family
ID=18042728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31355587A Pending JPH01153673A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | ２−アシルシクロヘキサン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01153673A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991001289A1 (fr) * | 1989-07-14 | 1991-02-07 | Nippon Soda Co., Ltd. | Derives de cyclohexanedione substitue |
| CN103607895A (zh) * | 2011-05-30 | 2014-02-26 | 住友化学株式会社 | 环己酮化合物和包含该化合物的除草剂 |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP31355587A patent/JPH01153673A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991001289A1 (fr) * | 1989-07-14 | 1991-02-07 | Nippon Soda Co., Ltd. | Derives de cyclohexanedione substitue |
| CN103607895A (zh) * | 2011-05-30 | 2014-02-26 | 住友化学株式会社 | 环己酮化合物和包含该化合物的除草剂 |
| CN103607895B (zh) * | 2011-05-30 | 2017-04-12 | 住友化学株式会社 | 环己酮化合物和包含该化合物的除草剂 |
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