JPH0236275Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は、レーザ等を用いて光学的にプリント
基板あるいはフイルム等の感光基板上にパターン
を描画するパターン描画装置に関する。更に詳し
くは、本考案は、副走査用の移動ステージ上に感
光基板を載置して、この感光基板の感光面を変調
された光スポツトで主走査することにより、感光
面に所望のパターンを描画するパターン描画装置
に関するものである。

〔考案の背景〕

第５図は、この種の装置の構成斜視図である。
この装置は、光源１からのレーザ光を、光学変調
素子２、光走査手段としてのポリゴンミラー３、
fθレンズ４を介して移動ステージ５上の感光基板
６上に照射し、光スポツトを感光基板６上でｘ軸
方向に主走査させるとともに、移動ステージ５を
ｙ軸方向に移動させ、感光基板６の感光面に所望
のパターンを描画するものである。ここで、７は
光路途中に設置したハーフミラー、８はミラー、
９はエクスパンダー、１０はパワーモニター、１
１は折り曲げミラーであり、１２は移動ステージ
５側に設けられたトリガ用デイテイクターであ
る。

このような構成のパターン描画装置は、移動ス
テージ上に載置される感光基板６の厚さを一定の
厚さとして想定し、感光面上に光スポツトの焦点
を結ぶように（結像するように）各ミラーやfθレ
ンズ等が設置されているため、感光基板６の厚さ
が変化すると、焦点がずれて鮮明なパターンを描
画することができなくなるという問題点があつ
た。

この問題点を解決するために、感光基板の厚さ
に応じて折り曲げミラー１１を動かし、焦点合せ
を行なえるように構成することも考えられるが、
構成が複雑になるうえに、感光基板の厚さが、両
端で異なる楔形である場合には、効果がないとい
う問題があつた。

〔考案の目的〕

本考案は、このような問題点に鑑みてなされた
もので、その目的は、光スポツトの主走査と移動
ステージによる副走査とにより感光体上に所望の
パターンを描画する描画装置において、感光基板
の厚さが変つても、また、この基板の両端部分で
厚さが異なるような場合であつても、安定して鮮
明なパターンを描画することのできるパターン描
画装置を実現しようとするものである。

〔考案の概要〕

本考案に係るパターン描画装置は、副走査用の
移動ステージを有するステージ上に感光体を載置
し、位置設定手段により該感光体の感光面の位置
を光スポツトの結像位置に対して所定の位置関係
に設定し、該感光面を変調された光スポツトで主
走査することにより、前記感光面に所望のパター
ンを描画する装置であつて、上記目的を達成する
ために、前記位置設定手段は、前記光スポツトの
主走査軌道を挟んで前記移動ステージの副走査方
向に離れて配置されかつ該感光体の副走査方向の
移動に伴つて回転可能に配置された一対の転動体
を有し、該転動体は前記感光面との接触面積を少
なくするために凹部が形成された円周面を有し、
前記ステージは前記転動体の円周面が前記感光体
に当接するように、前記感光体を前記転動体に向
けて押圧付勢する付勢手段を有することを特徴と
するものであ。尚、前記移動ステージが静圧気体
軸受で浮上するように構成されている場合、この
静圧気体軸受で前記付勢手段を兼ねることも可能
である。

〔実施例〕

第１図は、本考案に係る装置の要部の構成断面
図で、ここでは、第５図に示す装置における移動
ステージ５を中心にして示してある。この図にお
いて、１３は感光体基板６の感光面に当接する外
周面を有し、この当接面１３１の位置が、光スポ
ツトによる走査面（結像面）と一致するように定
められた、即ち合焦位置となるように定められた
複数個のローラーのような転動体である。これら
の転動体は、支持部材１３２によつて支持されて
おり、第２図にその側面図を示すように（ここで
は２個の転動体１３ａ，１３ｂを用いている）、
各転動体１３ａ，１３ｂの感光基板６への当接面
１３１の位置が、光スポツトの主走査軌道を挟
み、かつ移動ステージ５の副走査方向（ｙ軸方
向）に所定の間隔ｄだけ離れて配置されている。
１４は感光基板６が載置され、この感光基板６の
感光面の裏面を真空吸着する吸着台であり、不図
示のホースが継がれるジヨイント１５を介して排
気がなされる。この吸着台１４は移動ステージ５
上に設けられている。

５０は移動ステージ５の基盤、５１は移動ステ
ージ５を基盤５０に対して移動（副走査）させる
駆動ネジである。なお、この例では、移動ステー
ジ５は、基盤５０との間に静圧気体軸受（エア・
パツド）５２を有しており、この静圧気体軸受
は、感光基板６を押圧付勢する役目を兼ねてい
る。このため、駆動ネジ５１に螺合するナツト
は、駆動ネジ５１のラジアル方向に微少量自由に
移動できるように、移動ステージ５に取り付けら
れている。

このように構成した装置によれば、感光基板６
の感光面は、転動体１３の当接面１３１に、付勢
手段としての静圧気体軸受５２によつて当接、押
付けられる。ここで当接面１３１の位置は、光ス
ポツトの合焦位置であり、感光基板６の感光面
は、合焦位置に保持されることとなる。感光基板
６の厚さが、両端部分で異なつている場合でも、
厚さの差は静圧気体軸受５２の上方への浮力によ
る基盤５０とのギヤツプ変化によつて吸収され
る。従つて、第２図に示される如く、移動ステー
ジのｙ方向（副走査方向）の移動に伴つて一対の
転動体１３ａ，１３ｂがｘ方向（主走査方向）の
回転軸を中心として回転し、感光基板６の感光面
が転動体１３ａ，１３ｂに押圧され、感光面が転
動体によつて常に一定位置に設定される。

第３図及び第４図は、転動体１３の例を示す要
部の構成説明図である。

第３図の実施例は、ローラ円周面に複数の溝の
如き凹部１３３を形成させたもので、感光基板の
感光面への接触面積を少なくしたものである。

第４図の実施例は、ローラの円周面において、
感光面のパターン描画領域に接触しないように凹
部を形成し、感光基板６の周辺のみが当接するよ
うにしたものである。

いずれも、感光面６ａへのゴミ等の付着を低減
するとともに感光面を傷付けにくくする効果があ
る。本実施例では静圧気体軸受５２の上方への浮
力を付勢手段として利用したが、移動ステージ５
と吸着台１４との間にバネ等を別設しても同様の
効果が得られる。

〔考案の効果〕

以上説明したように、本考案によれば、感光基
板の厚さが両端部分で異なる場合であつても、常
に感光面を光スポツトの合焦位置に一致させるこ
とができるようにしたので、鮮明なパターンを描
画することのできるパターン描画装置が実現でき
る。しかも、大きな感光基板に対しても、一対の
転動体が主走査軌道を挟んで配置されるため、光
スポツトによつて描画露出される感光面の主走査
軌道上の部分領域が、光スポツトに対して常に所
定の位置に正確に設定され、位定して優れたパタ
ーンの描画を行うことが可能である。また主走査
軌道を挟むように転動体を配置するだけでよいの
で、構成が簡単であり、感光面と当接する転動体
の円周面に凹部が形成されていることにより、異
物（ゴミやホコリ）の付着も少なくとすることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本考案に係る装置の要部の構成断面
図、第２図は第１図装置における転動体の側面
図、第３図及び第４図は転動体の要部の構成説明
図、第５図はパターン描画装置の構成斜視図であ
る。 ５……移動ステージ、６……感光基板、１３…
…転動体、１３１……当接面、１４……吸着台、
１５……ジヨイント。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 副走査用の移動ステージを有するステージ上
   に感光体を載置し、位置設定手段により該感光
   体の感光面の位置を光スポツトの結像位置に対
   して所定の位置関係に設定し、該感光面を変調
   された光スポツトで主走査することにより、前
   記感光面に所望のパターンを描画する装置にお
   いて、 前記位置設定手段は、前記光スポツトの主走
   査軌道を挟んで前記移動ステージの副走査方向
   に離れて配置されかつ該感光体の副走査方向の
   移動に伴つて回転可能に配置された一対の転動
   体を有し、該転動体は前記感光面との接触面積
   を少なくするために凹部が形成された円周面を
   有し、前記ステージは前記転動体の円周面が前
   記感光体に当接するように、前記感光体を前記
   転動体に向けて押圧付勢する付勢手段を有する
   ことを特徴とするパターン描画装置。 ２ 前記移動ステージは、前記ステージ上で静圧
   気体軸受により浮上するように構成され、該静
   圧気体軸受が前記付勢手段を兼用していること
   を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記
   載のパターン描画装置。