JPH0237348B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0237348B2
JPH0237348B2 JP57108823A JP10882382A JPH0237348B2 JP H0237348 B2 JPH0237348 B2 JP H0237348B2 JP 57108823 A JP57108823 A JP 57108823A JP 10882382 A JP10882382 A JP 10882382A JP H0237348 B2 JPH0237348 B2 JP H0237348B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
formula
trifluoromethylhalogenobenzene
trifluoromethylbenzonitrile
copper
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57108823A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58225053A (ja
Inventor
Sadamu Ishii
Yasuhisa Furutaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to JP57108823A priority Critical patent/JPS58225053A/ja
Priority to EP83106025A priority patent/EP0097357B1/en
Priority to US06/506,358 priority patent/US4493800A/en
Priority to DE8383106025T priority patent/DE3361778D1/de
Publication of JPS58225053A publication Critical patent/JPS58225053A/ja
Publication of JPH0237348B2 publication Critical patent/JPH0237348B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、トリフルオロメチルベンゼン誘導体
の製造方法に関し、更に詳しくはトリフルオロメ
チルハロゲノベンゼンを特定の溶媒中、臭化第二
銅の存在下、シアン化銅と反応させることから成
るトリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法
に関する。 芳香族ハロゲン化合物は脂肪族ハロゲン化合物
にくらべて反応性が著しく小さく、適当な電子吸
引基で活性化されていない限り、通常のSNAr型
の求核置換反応を行わない。トリフルオロメチル
基は、フツ素原子の電気陰性度と負の超共役の寄
与のため、−Iおよび−E効果を示す電子吸引基
として働くことが知られているが、求核攻撃に対
して芳香環を活性化する度合は比較的小さい。従
つて、トリフルオロメチルハロゲノベンゼンにシ
アノ基を導入しようとする場合、シアン化アルカ
リを直接作用させたとしても、芳香環よりもむし
ろトリフルオロメチル側鎖上の反応の方が起こり
やすいことになり、ベンゾニトリル誘導体の所期
通りに得ることは困難である。 芳香族ハロゲン化合物から対応するニトリルを
得る方法としては、Rosenmund−von Braun反
応がよく知られている。この反応は、芳香族臭素
化合物とシアン化銅を250〜260℃の高温に加熱
し、臭素原子をシアノ基で置換するものである。
しかし、過激な反応条件を必要とするため、副反
応を伴うという欠点を有している。近年、パラジ
ウム塩やパラジウム−ホスフイン錯体の存在下に
反応させる方法も提案されているが、工業的な製
造には適していない。 本出願人は、先にトリフルオロメチルハロゲノ
ベンゼンおよびその誘導体から対応するニトリル
を得る、簡単でかつ効率のよい、しかも副反応を
伴わない手法として、トリフルオロメチルハロゲ
ノベンゼンとシアン化銅をヘキサメチル燐酸トリ
アミド(以下、HMPAという。)およびN−メチ
ルピロリドン(以下、NMPという。)から選ば
れた少くとも1種の溶媒中、臭化銅または沃化銅
の存在下に反応させる方法を提案した(特願昭57
−5215号明細書参照)。 本発明者らは、この方法について工業的見地か
ら改良を加えるべく更に研究を重ねた結果、臭化
銅として、前記明細書では具体的に開示されてい
ない臭化第二銅を選択使用することにより、前記
明細書記載の臭化第一銅を使用する場合に比べ、
溶媒としてHMPAを用いるときはほぼ同等の収
率で、またHMPAより安価なNMPを用いるとき
は著しくすぐれた収率で目的物が得られ、しかも
臭化第二銅の使用量(モル)も臭化第一銅の約半
分でよく、非常に工業的に有利であることを見い
出し、本発明を完成するに至つた。 すなわち、本発明の要旨は、ヘキサメチル燐酸
トリアミドおよびN−メチルピロリドンから選ば
れた少くとも1種の溶媒中、臭化第二銅の存在下
に、式: 〔式中、Xはハロゲン、Yは水素またはニトロ基
を表わす。〕 で示されるトリフルオロメチルハロゲノベンゼン
をシアン化銅と反応させて式: 〔式中、Yは前記と同意義。〕 で示されるトリフルオロメチルベンゾニトリルを
得ることを特徴とするトリフルオロメチルベンゼ
ン誘導体の製造法に存する。 なお、前述したRosenmund−von Braun反応
では、2価の銅塩、たとえばCuSO4がすぐれた触
媒効果を示すことが知られている。しかし、本発
明者らの研究によれば、本発明反応ではCuSO4
はじめCuCl2、CuO、Cu(NO32などの2価の銅
塩は全く反応に寄与しないが、CuBr2のみが特異
的にすぐれた触媒効果を発揮することが明らかに
なつた。 本発明において出発物質として用いられるトリ
フルオロメチルハロゲノベンゼン()の例とし
ては、o−クロロベンゾトリフルオリド、m−ク
ロロ−ベンゾトリフルオリド、p−クロロベンゾ
トリフルオリド、o−、p−またはm−ブロモベ
ンゾトリフルオリド、o−、p−またはm−ヨー
ドベンゾトリフルオリド、2−クロロ−5−ニト
ロベンゾトリフルオリド、2−ニトロ−5−クロ
ロベンゾトリフルオリド、3−ニトロ−4−クロ
ロベンゾトリフルオリド、2−ニトロ−5−ブロ
モベンゾトリフルオリド、などが挙げられる。 シアン化銅の使用割合は、トリフルオロメチル
ハロゲノベンゼン()1モルに対し、少くとも
1モル、好ましくは少くとも2モル、たとえば2
〜3モルである。また、シアン化アルカリ、たえ
えばシアン化カリウムまたはシアン化ナトリウム
をシアン化銅と併用することもできる。 臭化第二銅は、トリフルオロメチルハロゲノベ
ンゼン()に対し、0.02〜2倍モル、好ましく
は0.3〜1倍モルで用いられる。 溶媒としては、HMPAおよびNMPの非プロト
ン極性溶媒を用いる。これら非プロトン極性溶媒
は、単独で用いることができるほか、他の極性溶
媒と混合して使用することができる。他の極性溶
媒としては、たとえばジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、グライム類などが好ましく挙げられ
る。ニトロ基に代表される強い電子吸引基とトリ
フルオロメチル基の電子効果とが相乗的に作用す
る位置にハロゲン原子を有する出発物質を使用す
る時は、溶媒としてHMPAよりもN−メチルピ
ロリドンを用いるのが望ましい場合がある。 反応は、通常、常圧において、100〜250℃、好
ましくは150〜210℃、特に190〜200℃の温度で行
う。 反応時間は、一般に1〜10時間である。 この様にして得られるトリフルオロメチルベン
ゾニトリル()は、加水分解することにより、
安息香酸およびその誘導体またはフタル酸および
その誘導体に変換することができる。 加水分解は、酸または塩基加水分解のいずれで
も行うことができる。 希酸または弱酸で加水分解する場合、反応速度
はきわめて遅いが、安息香酸およびその誘導体が
生成する。これに対し、強酸で加水分解を行う
と、シアノ基に加えてトリフルオロメチル基も加
水分解されてフタル酸およびその誘導体が生成す
る。 塩基で加水分解する場合、通常、対応するモノ
カルボン酸が生成するが、o−トリフルオロメチ
ルベンゾニトリルからは対応する酸アミドが生成
し、また水酸化カルシウムや水酸化バリウムを塩
基として用いると酸アミドとカルボン酸の混合物
が生じる。この酸アミドは、ニトロソ化反応によ
り容易にカルボン酸に変換することができる。 次に実施例および比較例を示し、本発明を具体
的に説明する。 実施例 1 200mlフラスコに、p−クロロベンゾトリフル
オリド7.80g(43ミリモル)、シアン化銅7.17g
(80ミリモル)、臭化第二銅10g(45ミリモル)お
よびHMPA50mlを仕込み、撹拌下に210℃で9時
間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラフ
イ(担体SE−30)に付し、p−トリフルオロメ
チルベンゾニトリルが収率99%で生成しているこ
とを確認した。 実施例2〜4および比較例1〜5 第1表に示す出発物質、2価の銅塩および溶媒
を用い、同表の条件で反応を行つてp−トリフル
オロメチルベンゾニトリルを得た。収率を第1表
に示す。 実施例 5 p−クロロベンゾトリフルオリド7.8g(43ミ
リモル)に代えて3−ニトロ−4−クロロベンゾ
トリフルオリド9g(40ミリモル)を用いたほか
は実施例1と同一条件で反応させた。反応混合物
をガスクロマトグラフイーに付し、2−ニトロ−
4−トリフルオロメチルベンゾニトリルが収率81
%で生成していることを確認した。 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ヘキサメチル燐酸トリアミドおよびN−メチ
    ルピロリドンから選ばれた少くとも1種の溶媒
    中、臭化第二銅の存在下に、 式: で示されるトリフルオロメチルハロゲノベンゼン
    をシアン化銅と反応させて 式: で示されるトリフルオロメチルベンゾニトリルを
    得ることを特徴とするトリフルオロメチルベンゼ
    ン誘導体の製造方法。 [式中、Xはハロゲン、Yは水素またはニトロ基
    を表わす。] 2 臭化第二銅をトリフルオロメチルハロゲノベ
    ンゼンに対し0.02〜2倍モル用いる特許請求の範
    囲第1項記載の製造方法。 3 反応温度が100〜250℃、好ましくは150〜210
    ℃である特許請求の範囲第1項または第2項に記
    載の製造方法。
JP57108823A 1982-06-23 1982-06-23 トリフルオロメチルベンゼン誘導体の製造方法 Granted JPS58225053A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57108823A JPS58225053A (ja) 1982-06-23 1982-06-23 トリフルオロメチルベンゼン誘導体の製造方法
EP83106025A EP0097357B1 (en) 1982-06-23 1983-06-21 Process for preparing trifluoromethylbenzene derivatives
US06/506,358 US4493800A (en) 1982-06-23 1983-06-21 Process for preparing a trifluoromethylbenzene derivative
DE8383106025T DE3361778D1 (en) 1982-06-23 1983-06-21 Process for preparing trifluoromethylbenzene derivatives

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JP57108823A JPS58225053A (ja) 1982-06-23 1982-06-23 トリフルオロメチルベンゼン誘導体の製造方法

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JPS58225053A JPS58225053A (ja) 1983-12-27
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2550262A1 (de) * 1975-11-08 1977-05-12 Bayer Ag Trifluormethylsubstituierte benzonitrile
JPS55120549A (en) * 1979-03-09 1980-09-17 Nippon Kayaku Co Ltd Preparation of 2-chloro-6-nitrobenzonitrile

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58225053A (ja) 1983-12-27

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