JPH0239018B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0239018B2 JPH0239018B2 JP56071752A JP7175281A JPH0239018B2 JP H0239018 B2 JPH0239018 B2 JP H0239018B2 JP 56071752 A JP56071752 A JP 56071752A JP 7175281 A JP7175281 A JP 7175281A JP H0239018 B2 JPH0239018 B2 JP H0239018B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- metal thin
- magnetic layer
- film
- acyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Landscapes
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層表面
の改質を行ない、耐食性、走行性の向上を目ざし
たものである。 一般に真空蒸着またはメツキ法で作成した金属
薄膜型磁気記録媒体は高密度性に優れているとい
われている。特に近年はオーデイオ録音用やビデ
オ録音テープ用しての用途が期待されており、小
型録音テープ用として、プラスチツク基板上に真
空蒸着によつて、コバルト主成分合金の薄膜を形
成したものは、実用化の域に入り、市販されるよ
うになつた。しかし、一般的に強磁性金属は腐食
し易く、これを避けるために磁性体自体の合金化
の方法や磁性層上に高分子化合物の皮膜を形成す
るなどの方法が採用されている。しかしこれらの
方法においては、磁性層の合金化の場合、磁気特
性の観点からは、耐食性の良い合金が必ずしも良
い特性を有するとは言えないのが普通である。ま
た、磁性層表面に耐食性のある被膜を形成する事
は、効果はあるが、電磁変換特性の観点からは、
あまり皮膜層の膜厚が大きすぎるのは好ましいと
は言えない。皮膜層の厚みの許され得る範囲は
高々500Åであり、望ましくは200Å程度である。
この程度の膜厚を持ち、耐食性のある皮膜を安定
にしかも量産性良く形成するのは非常な困難を伴
う。また皮膜が形成されたとしても、この程度の
厚みでは完全に水分の侵入を妨げることは困難で
ある。 本発明では、以上のような従来の困難さを避け
る目的で、チタンアシレートの溶液を塗布した
後、乾燥させることによつて、十分な耐食性を得
るものである。 以下本発明について説明する。 真空蒸着法、電気メツキ法、スパツタリング法
などで作成した、コバルトなどの強磁性金属より
成る磁気記録用薄膜媒体上にチタンアシレート溶
液を塗布する。チタンアシレートは、次式に示す
ような分子式で表わされる。 （R1，R2，R3，R4のうち、少くとも１つ以上が
アシル基であり、他はアルキル基を持つている。） 上式においてＲがアルキル基の場合、微量の水
分によつて加水分解され、次式のような構造をも
つようになる。 また、Ｒがアシル基の場合には、加水分解反応
は起こらず、皮膜中に―ORが残ることになる。 アルキル基によつて加水分解の速度が異なり、
市販品としては、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、２―エチルヘキシル基、ステアリル基が用い
られている。 アシル基は、未反応基として被膜に残るため、
撥水性、滑性の観点から炭素数８から22の長鎖の
アシル基を用いる。 溶媒としては、ｎ―ブタノール、ｎ―ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、メチル
クロロホルム、四塩化炭素を用いる。 濃度は10％から0.001％が有効であり、１％か
ら0.01％が望ましい。 濃度が濃い場合には、均一な膜が生成しにくく
チヨーキング現象を起こし、接着性が低下する。
また、濃度が低い場合には、十分な厚みをもつた
皮膜が得られず、金属薄膜が露出する部分が生じ
十分な耐食性が得られない。 チタンアシレートは、金属薄膜上の微量の水分
や水酸基と反応し、錆の原因となる水分、水酸基
を減少させる。また反応後の長鎖のアシル基が残
るため疎水性を示し、水に対する接触角も増大す
るため、錆の原因となる水の浸入を防ぎ、耐食性
が向上する。 また、長鎖のアシル基は、良好な潤滑性を持つ
ていることから、走行性も改善される。 また、チタンアシレートのポリマー（２〜５量
体）でも同様の効果が得られる。 なお後述の実施例では強磁性金属薄膜として
Co―Ni膜を用いているが、Co膜，Co―Cr膜，
Co―Ni―Cr膜、Co―Fe膜等においても類似の効
果が得られた。 次に具体的に実施例の説明を行う。 実施例 １ ポリエステルフイルム上に真空蒸着法で作成し
たコバルト（80％），ニツケル（20％）の強磁性
合金薄膜の磁性層に下記の組成の溶液を塗布し
た。 トリ―ｎ―ブトキシチタンモノステアレート
１部 Ti（ｏ―nC4H9）3（oCOC17H35）〔日本曹達(株)製
チタンアシレート（TBSTA）〕ｎ―ブタノー
ル 100部 塗布後60℃で約30分間乾燥した。処理したもの
は処理前に比較して、磁性層の撥水性が改善され
た。また、鏡面仕上げのSUS304のブロツク上で
10ｇの荷重下での摩擦抵抗を測定したところ処理
前に比較して、約９分の８に低下していた。 第１表に接触角の測定結果と環境試験結果を示
す。
の改質を行ない、耐食性、走行性の向上を目ざし
たものである。 一般に真空蒸着またはメツキ法で作成した金属
薄膜型磁気記録媒体は高密度性に優れているとい
われている。特に近年はオーデイオ録音用やビデ
オ録音テープ用しての用途が期待されており、小
型録音テープ用として、プラスチツク基板上に真
空蒸着によつて、コバルト主成分合金の薄膜を形
成したものは、実用化の域に入り、市販されるよ
うになつた。しかし、一般的に強磁性金属は腐食
し易く、これを避けるために磁性体自体の合金化
の方法や磁性層上に高分子化合物の皮膜を形成す
るなどの方法が採用されている。しかしこれらの
方法においては、磁性層の合金化の場合、磁気特
性の観点からは、耐食性の良い合金が必ずしも良
い特性を有するとは言えないのが普通である。ま
た、磁性層表面に耐食性のある被膜を形成する事
は、効果はあるが、電磁変換特性の観点からは、
あまり皮膜層の膜厚が大きすぎるのは好ましいと
は言えない。皮膜層の厚みの許され得る範囲は
高々500Åであり、望ましくは200Å程度である。
この程度の膜厚を持ち、耐食性のある皮膜を安定
にしかも量産性良く形成するのは非常な困難を伴
う。また皮膜が形成されたとしても、この程度の
厚みでは完全に水分の侵入を妨げることは困難で
ある。 本発明では、以上のような従来の困難さを避け
る目的で、チタンアシレートの溶液を塗布した
後、乾燥させることによつて、十分な耐食性を得
るものである。 以下本発明について説明する。 真空蒸着法、電気メツキ法、スパツタリング法
などで作成した、コバルトなどの強磁性金属より
成る磁気記録用薄膜媒体上にチタンアシレート溶
液を塗布する。チタンアシレートは、次式に示す
ような分子式で表わされる。 （R1，R2，R3，R4のうち、少くとも１つ以上が
アシル基であり、他はアルキル基を持つている。） 上式においてＲがアルキル基の場合、微量の水
分によつて加水分解され、次式のような構造をも
つようになる。 また、Ｒがアシル基の場合には、加水分解反応
は起こらず、皮膜中に―ORが残ることになる。 アルキル基によつて加水分解の速度が異なり、
市販品としては、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、２―エチルヘキシル基、ステアリル基が用い
られている。 アシル基は、未反応基として被膜に残るため、
撥水性、滑性の観点から炭素数８から22の長鎖の
アシル基を用いる。 溶媒としては、ｎ―ブタノール、ｎ―ヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、メチル
クロロホルム、四塩化炭素を用いる。 濃度は10％から0.001％が有効であり、１％か
ら0.01％が望ましい。 濃度が濃い場合には、均一な膜が生成しにくく
チヨーキング現象を起こし、接着性が低下する。
また、濃度が低い場合には、十分な厚みをもつた
皮膜が得られず、金属薄膜が露出する部分が生じ
十分な耐食性が得られない。 チタンアシレートは、金属薄膜上の微量の水分
や水酸基と反応し、錆の原因となる水分、水酸基
を減少させる。また反応後の長鎖のアシル基が残
るため疎水性を示し、水に対する接触角も増大す
るため、錆の原因となる水の浸入を防ぎ、耐食性
が向上する。 また、長鎖のアシル基は、良好な潤滑性を持つ
ていることから、走行性も改善される。 また、チタンアシレートのポリマー（２〜５量
体）でも同様の効果が得られる。 なお後述の実施例では強磁性金属薄膜として
Co―Ni膜を用いているが、Co膜，Co―Cr膜，
Co―Ni―Cr膜、Co―Fe膜等においても類似の効
果が得られた。 次に具体的に実施例の説明を行う。 実施例 １ ポリエステルフイルム上に真空蒸着法で作成し
たコバルト（80％），ニツケル（20％）の強磁性
合金薄膜の磁性層に下記の組成の溶液を塗布し
た。 トリ―ｎ―ブトキシチタンモノステアレート
１部 Ti（ｏ―nC4H9）3（oCOC17H35）〔日本曹達(株)製
チタンアシレート（TBSTA）〕ｎ―ブタノー
ル 100部 塗布後60℃で約30分間乾燥した。処理したもの
は処理前に比較して、磁性層の撥水性が改善され
た。また、鏡面仕上げのSUS304のブロツク上で
10ｇの荷重下での摩擦抵抗を測定したところ処理
前に比較して、約９分の８に低下していた。 第１表に接触角の測定結果と環境試験結果を示
す。
【表】
実施例 ２
ポリエステルフイルム上に真空蒸着法で作成し
たコバルト（80％），ニツケル（20％）の強磁性
合金薄膜の磁性層に下記の組成の溶液を塗布し
た。 ｉ―プロポキシチタントリ―ステアレート
0.5部 〔Ti（ｏ―ｉ―C3H7）（oCoC17H35）3日本曹達
(株)製チタンアシレート（TTS）〕ベンゼン
100部 塗布後、60℃で約30分間乾燥した。処理したも
のは処理前に比較して磁性層の撥水性が改善され
た。また、鏡面仕上げSUS304のブロツク上で10
ｇの荷重下での摩擦抵抗を測定したところ、処理
前に比較して、約４分の３に低下していた。第２
表の接触角の測定結果と環境試験結果を示す。
たコバルト（80％），ニツケル（20％）の強磁性
合金薄膜の磁性層に下記の組成の溶液を塗布し
た。 ｉ―プロポキシチタントリ―ステアレート
0.5部 〔Ti（ｏ―ｉ―C3H7）（oCoC17H35）3日本曹達
(株)製チタンアシレート（TTS）〕ベンゼン
100部 塗布後、60℃で約30分間乾燥した。処理したも
のは処理前に比較して磁性層の撥水性が改善され
た。また、鏡面仕上げSUS304のブロツク上で10
ｇの荷重下での摩擦抵抗を測定したところ、処理
前に比較して、約４分の３に低下していた。第２
表の接触角の測定結果と環境試験結果を示す。
【表】
実施例 ３
ポリエステルフイルム上に真空蒸着法で作成し
たコバルト（80％）、ニツケル（20％）の強磁性
合金薄膜の磁性層に下記の組成の溶液を塗布し
た。 日本曹達(株)製チタンアシレートポリマー ５部 TBSTA―400 ベンゼン 100部 塗布後、60℃で約30分間乾燥した。処理したも
のは処理前に比較して磁性層の撥水性が改善され
た。また鏡面仕上げしたSUS304のブロツク上で
10ｇの荷重下での摩擦抵抗を測定したところ、処
理前に比較して、約５分の４に低下していた。第
３表に接触角の測定結果と環境試験結果を示す。
たコバルト（80％）、ニツケル（20％）の強磁性
合金薄膜の磁性層に下記の組成の溶液を塗布し
た。 日本曹達(株)製チタンアシレートポリマー ５部 TBSTA―400 ベンゼン 100部 塗布後、60℃で約30分間乾燥した。処理したも
のは処理前に比較して磁性層の撥水性が改善され
た。また鏡面仕上げしたSUS304のブロツク上で
10ｇの荷重下での摩擦抵抗を測定したところ、処
理前に比較して、約５分の４に低下していた。第
３表に接触角の測定結果と環境試験結果を示す。
【表】
また、上記実施例１〜３において作成した試料
を、市販のビデオテープレコーダと同等の機能を
有する試験機にて、電磁性変換特性を測定したこ
ろ、未処理品に比較して、チタンアシレート処理
品の出力低下は、1dB以内と十分な特性を示し
た。 以上のように本発明によれば、金属薄膜型磁気
記録媒体の耐蝕性を容易に高めることができると
ともに摩擦抵抗を下げることができる。
を、市販のビデオテープレコーダと同等の機能を
有する試験機にて、電磁性変換特性を測定したこ
ろ、未処理品に比較して、チタンアシレート処理
品の出力低下は、1dB以内と十分な特性を示し
た。 以上のように本発明によれば、金属薄膜型磁気
記録媒体の耐蝕性を容易に高めることができると
ともに摩擦抵抗を下げることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 強磁性金属薄膜より成る磁性層の表面に、一
般式 （R1，R2，R3，R4のうち、１つ以上３つ以下が
炭素数８から22のアシル基であり、他はアルキル
基である。） で表わされるチタンアシレートの溶液が塗布、乾
燥されて形成された長鎖のアシル基を有する酸化
チタンの保護皮膜を設けたことを特徴とする金属
薄膜型磁気記録媒体。 ２ 強磁性金属薄膜よりなる磁性層の表面に、一
般式 （R1，R2，R3，R4のうち、１つ以上３つ以下が
炭素数８から22のアシル基であり、他はアルキル
基である。） で表わされるチタンアシレート溶液を塗布し、乾
燥させて、長鎖のアシル基を有する酸化チタンの
保護皮膜を形成することを特徴とする金属薄膜型
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56071752A JPS57189339A (en) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | Metallic thin film type magnetic recording medium and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56071752A JPS57189339A (en) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | Metallic thin film type magnetic recording medium and its manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57189339A JPS57189339A (en) | 1982-11-20 |
| JPH0239018B2 true JPH0239018B2 (ja) | 1990-09-03 |
Family
ID=13469571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56071752A Granted JPS57189339A (en) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | Metallic thin film type magnetic recording medium and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57189339A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003005659A (ja) * | 2001-04-17 | 2003-01-08 | Tokai Rubber Ind Ltd | プラズマディスプレイ用透明電磁波シールドフィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用前面フィルターならびにプラズマディスプレイ |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5189702A (ja) * | 1975-02-05 | 1976-08-06 | Jikikiokutai | |
| JPS6028053B2 (ja) * | 1976-12-17 | 1985-07-02 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
| JPS5441111A (en) * | 1977-09-07 | 1979-04-02 | Nec Corp | Magnetic memory medium |
-
1981
- 1981-05-13 JP JP56071752A patent/JPS57189339A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57189339A (en) | 1982-11-20 |
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