JPH0241163B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0241163B2
JPH0241163B2 JP56173190A JP17319081A JPH0241163B2 JP H0241163 B2 JPH0241163 B2 JP H0241163B2 JP 56173190 A JP56173190 A JP 56173190A JP 17319081 A JP17319081 A JP 17319081A JP H0241163 B2 JPH0241163 B2 JP H0241163B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating table
heating
heated
parallel grooves
conveyance
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP56173190A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5875154A (ja
Inventor
Isao Saegusa
Masamitsu Takanami
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP56173190A priority Critical patent/JPS5875154A/ja
Publication of JPS5875154A publication Critical patent/JPS5875154A/ja
Publication of JPH0241163B2 publication Critical patent/JPH0241163B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は加熱装置に関するものであり、とくに
基板（ガラス、金属、半導体など）の上に塗付さ
れた塗膜（フオトレジスト膜、保護膜、介在層、
絶縁層等）の均一な乾燥固化のための加熱装置に
関するものである。
従来上記のような被加熱体を連続工程の一環と
して加熱搬送する装置において、長時間の加熱を
行う必要がある場合には加熱装置は長大なものと
なり、流れ作業におけるその他の加工装置との関
係から無視できない大きなスペースを占拠し、問
題となつて来たものである。また加熱方法として
も上からの加熱のみでは塗膜の表面が先ず固化し
て、塗膜の中部や下層が固化する過程でその中に
気泡が取り残され、そのため膜表面に突起を生じ
たり、塗膜の内部の遅れた収縮により塗膜面に微
細な凹凸を生じたりする。
本発明は上記のような従来の欠点を改善するも
ので、上記のような塗装された基板を下からの加
熱を重点的に行い上面からの加熱とを併せて塗膜
の均一な乾燥を行うもので、また間歇的な前進と
停止を繰返す搬送機構によつて加熱装置としての
長さを節約し、スペース的に小型でしかも可成り
長時間の加熱が行えるように塗膜内に生ずる気泡
による微細な表面突起の生起を防止することがで
きるものであつて、以下図示の実施例によつて本
発明を具体的に説明する。
第１図は本発明の加熱装置の正面の断面的な説
明図である。また第２図は加熱部の搬送状態を上
面から示した説明図、第３図は加熱台上の搬送の
説明図である。
加熱台１はヒーター（図示せず）が内蔵されて
おり、上面平滑な長尺型で水平に置かれ上面に始
端から終端まで連なる複数本の平行溝２（第３図
参照）を有する。この平行溝２の中にそれぞれ搬
送レール３が、上下動を伴つて円弧運動で前進後
退するリンク機構４を搬送レール３の両端部に取
付けることにより搬送レール３は加熱台１の上面
に出たり沈んだり、第１図の点線で示すように略
円弧運動を行つて水平を保ちつつ加熱台１上の被
加熱体Ａを間歇的に前進、静止の繰返しによつて
先方に搬送するものである。すなわちこのリンク
機構４により搬送レール３が加熱台表面下にある
ときは被加熱体Ａは加熱台１上に静止され、リン
ク機構により搬送レール３が加熱台１の上面より
出るときは被加熱体Ａは水平を保つたままほぼ円
弧状に前進する搬送レール３の上に移つて搬送さ
れる。この運動が間歇的に繰返されるので被加熱
体Ａは加熱台１上で先方に搬送される。
被加熱体Ａは常に上方から赤外線ヒーター５に
より加熱され、かつ加熱台１上に静置されている
時は加熱台１の上面からも能率よく直接加熱をう
ける。
間歇的に加熱台上を被加熱体Ａを搬送する運動
はリンク機構４によつて行われる。すなわち搬送
レール３には矢印方向に回転する回転車６、逆Ｔ
字型クランク７および支持腕８よりなる一種のリ
ンク機構がとりつけられ、第１図の点線で示した
ように円弧運動により一定距離だけ先方（右方）
に被加熱体Ａを進行させるものである。加熱台１
の始端および終端にはコンベアベルト９が接続し
加熱台１上に被加熱体Ａを搬入あるいは搬出が行
われる。
なお加熱時間を調節するには例えばリンク機構
の回転車６を連続的にしたり、間歇的にしたり、
または回転速度を調節する等の方法がある。
本発明の加熱装置は上述の通りであるので写真
乾板や超精密電子部品等の塗膜の加熱乾燥に通
し、塗膜全体を均一に加熱乾燥して表面平滑な膜
面を得るに優れた性能を示すものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の加熱装置の正面の断面的な説
明図、第２図は同じくその加熱台の上面説明図、
第３図は搬送レールの運動の説明図である。 １……加熱台、２……平行溝、３……搬送レー
ル、４……リンク機構、５……赤外線ヒーター、
６……回転車、７……逆Ｔ字型クランク、８……
支持腕、９……コンベアベルト、Ａ……被加熱
体。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 上方で下向きに照射する赤外線ヒーターと、
    その下に設けた長尺の上面平滑な加熱台よりな
    り、 前記加熱台には始端から終端まで連なる複数本
    の平行溝を設け、 該平行溝内それぞれに搬送レールを設けるとと
    もに、 前記平行溝内で前記搬送レールそれぞれが加熱
    台の上面以下にあるときは被加熱体は加熱台上で
    残留静置され、前記搬送レールそれぞれが加熱台
    面より上昇するときは搬送方向にほぼ円弧状に運
    動して被加熱体を一定距離だけ搬送し、次いで加
    熱台面より下降して後戻りすることにより被加熱
    体を加熱台上に静置するように間歇的に繰返えす
    リンク機構を、搬送レールの始端部および終端部
    に取付けてなることを特徴とする加熱装置。
JP56173190A 1981-10-29 1981-10-29 加熱装置 Granted JPS5875154A (ja)

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JP56173190A JPS5875154A (ja) 1981-10-29 1981-10-29 加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS5875154A JPS5875154A (ja) 1983-05-06
JPH0241163B2 true JPH0241163B2 (ja) 1990-09-14

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ID=15955757

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JP56173190A Granted JPS5875154A (ja) 1981-10-29 1981-10-29 加熱装置

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JPS5875154A (ja) 1983-05-06

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