JPH0241166Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0241166Y2 JPH0241166Y2 JP12547984U JP12547984U JPH0241166Y2 JP H0241166 Y2 JPH0241166 Y2 JP H0241166Y2 JP 12547984 U JP12547984 U JP 12547984U JP 12547984 U JP12547984 U JP 12547984U JP H0241166 Y2 JPH0241166 Y2 JP H0241166Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inner cylinder
- bottom wall
- outer cylinder
- support plate
- cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 7
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は真空蒸着装置における蒸着源移動装置
に関する。
に関する。
従来の技術
真空蒸着室内でワークに蒸着を行なう際、均一
な蒸着膜厚を得るために蒸着源の位置が問題にな
る。併し、真空室内では高圧電流の配線や冷却水
の給排管設備が邪魔になるため、蒸着源を移動可
能とするにはその保持配設構造が複雑化し、設備
が高価となり操作も面倒であつた。
な蒸着膜厚を得るために蒸着源の位置が問題にな
る。併し、真空室内では高圧電流の配線や冷却水
の給排管設備が邪魔になるため、蒸着源を移動可
能とするにはその保持配設構造が複雑化し、設備
が高価となり操作も面倒であつた。
考案が解決しようとする問題点
本考案は蒸着源(電子鏡またはポート)を高圧
電流端子、および冷却水配管と一体に備え、これ
らを必要に応じて容易に上下および左右へ移動で
きる装置を提供するものである。
電流端子、および冷却水配管と一体に備え、これ
らを必要に応じて容易に上下および左右へ移動で
きる装置を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため本考案の構成は、上
面に蒸着源を装備し、高圧電流端子および冷却水
管が配設された頂板が載置されるとともに、下部
外周に雄ねじが刻まれた内筒と、該内筒が移動自
在とされ、真空室底壁の下面に摺接可能な支持板
と一体形成された外筒と、前記内筒の雄ねじと螺
合するナツト部材と、内筒の上下動規制部材と、
前記外筒とナツト部材との拘束枠と、真空室底壁
と前記支持板との締付部材とを有し、前記真空室
底壁には外筒が移動可能な長孔が設けられている
ことである。
面に蒸着源を装備し、高圧電流端子および冷却水
管が配設された頂板が載置されるとともに、下部
外周に雄ねじが刻まれた内筒と、該内筒が移動自
在とされ、真空室底壁の下面に摺接可能な支持板
と一体形成された外筒と、前記内筒の雄ねじと螺
合するナツト部材と、内筒の上下動規制部材と、
前記外筒とナツト部材との拘束枠と、真空室底壁
と前記支持板との締付部材とを有し、前記真空室
底壁には外筒が移動可能な長孔が設けられている
ことである。
作 用
本考案は必要に応じてナツト部材を回転させて
内筒を上下動させ、また、底壁と支持板との締付
部材を緩めて、支持板外筒および内筒を左右(前
後へは必要なし)へ移動させる。
内筒を上下動させ、また、底壁と支持板との締付
部材を緩めて、支持板外筒および内筒を左右(前
後へは必要なし)へ移動させる。
実施例
以下、本考案を図面に示す実施例にもとづいて
説明する。
説明する。
第1図、第2図において、本考案は真空蒸着室
Aの底壁A1を貫通して設置された内筒1、外筒
2と、該外筒2と一体形成され、前記底壁A1に
摺接可能な支持板3と、前記内筒1の下部外周に
螺合するナツト部材4と、前記内筒1の回転を阻
止するための上下動規制部材5と、前記外筒2と
ナツト部材4とを組付、係合するための拘束部材
6と、前記底壁A1と支持板3との締付部材7と
を備え、前記内筒1が上下動可能とされるととも
に該内筒1を含む外筒2が底壁A1に設けられた
長孔A2内を左右方向に移動可能とされる。
Aの底壁A1を貫通して設置された内筒1、外筒
2と、該外筒2と一体形成され、前記底壁A1に
摺接可能な支持板3と、前記内筒1の下部外周に
螺合するナツト部材4と、前記内筒1の回転を阻
止するための上下動規制部材5と、前記外筒2と
ナツト部材4とを組付、係合するための拘束部材
6と、前記底壁A1と支持板3との締付部材7と
を備え、前記内筒1が上下動可能とされるととも
に該内筒1を含む外筒2が底壁A1に設けられた
長孔A2内を左右方向に移動可能とされる。
しかして、前記内筒1は下方開放の円筒状をな
し、頂部はパツキング13を介して締付ボルト1
2で固着された頂板11で密閉されている。該頂
板11上には膜付けのための電子鏡Bが装備さ
れ、また該頂板を貫通して高圧電流端子Cおよび
冷却水管D等が配設されている。内筒1の下部外
周には雄ねじ1aが刻まれている。
し、頂部はパツキング13を介して締付ボルト1
2で固着された頂板11で密閉されている。該頂
板11上には膜付けのための電子鏡Bが装備さ
れ、また該頂板を貫通して高圧電流端子Cおよび
冷却水管D等が配設されている。内筒1の下部外
周には雄ねじ1aが刻まれている。
外筒2は頂部に締付ボルト22により蓋板21
が装着され、内側に内筒1がOリング8を介して
気密状態で上下摺動自在とされる。支持板3は前
記底壁底面に対し、他のOリング8により気密状
態とされて摺動可能に対接する。
が装着され、内側に内筒1がOリング8を介して
気密状態で上下摺動自在とされる。支持板3は前
記底壁底面に対し、他のOリング8により気密状
態とされて摺動可能に対接する。
ナツト部材4には、少なくとも四方に棒状の把
手41がねじこみ装着されている。
手41がねじこみ装着されている。
上下動規制部材5は、前記外筒基板21の前後
(第2図左右)部に螺着されたガイド柱51が前
記頂板11から庇出されたガイドブラケツト52
を上下に貫挿して摺動し、内筒1が前記ナツト部
材4とともに旋回するのを阻止し、上下下動を起
こさせる役目をする。
(第2図左右)部に螺着されたガイド柱51が前
記頂板11から庇出されたガイドブラケツト52
を上下に貫挿して摺動し、内筒1が前記ナツト部
材4とともに旋回するのを阻止し、上下下動を起
こさせる役目をする。
拘束枠6は、断面が内向コ字状をなす半環状体
が2個一対をなして外筒2とナツト部材4との外
側面に橋架状態で外嵌し、止めボルト61により
外筒2に螺合締着される。
が2個一対をなして外筒2とナツト部材4との外
側面に橋架状態で外嵌し、止めボルト61により
外筒2に螺合締着される。
締付部材7は本考案装置の前後、左右方向線と
45度をなす線上の四方に設けられ支持板3と底板
A1とに跨る押え面をもつ上向きコ字状の押え枠
71が押えボルト72により底壁A1に螺着され
る構造である。
45度をなす線上の四方に設けられ支持板3と底板
A1とに跨る押え面をもつ上向きコ字状の押え枠
71が押えボルト72により底壁A1に螺着され
る構造である。
以上の構造において、電子鏡Bを上下動、また
は左右に移動させるには、内筒1を上下動または
左右動させれば足りる。即ち、内筒1を上下動さ
せるには、止めボルト61を緩めて拘束枠6によ
るナツト部材4への拘束を断ち、把手41によつ
てナツト部材4をまわすことにより該ナツト部材
4に螺合された内筒1が上下動する。次に、内筒
1を左右に動かすには、締付部材7の押えボルト
72を締めたのち手動により支持板3を左右(第
1図左右)に押せば、長孔A2の範囲内で外筒2
が移動し、それとともに内筒1が左右動する。こ
れらの操作は何れも真空蒸着室Aの外で出来る。
は左右に移動させるには、内筒1を上下動または
左右動させれば足りる。即ち、内筒1を上下動さ
せるには、止めボルト61を緩めて拘束枠6によ
るナツト部材4への拘束を断ち、把手41によつ
てナツト部材4をまわすことにより該ナツト部材
4に螺合された内筒1が上下動する。次に、内筒
1を左右に動かすには、締付部材7の押えボルト
72を締めたのち手動により支持板3を左右(第
1図左右)に押せば、長孔A2の範囲内で外筒2
が移動し、それとともに内筒1が左右動する。こ
れらの操作は何れも真空蒸着室Aの外で出来る。
前記内筒1の頂板11には高圧電流端子Cおよ
び冷却水配管Dも突設され同時に上下および左右
動するので、これら端子や配管が邪魔になること
ことなく電流銃の移動と円滑、かつ、容易に行な
える。
び冷却水配管Dも突設され同時に上下および左右
動するので、これら端子や配管が邪魔になること
ことなく電流銃の移動と円滑、かつ、容易に行な
える。
考案の効果
本考案は以上の如く蒸着室底壁に長孔を設け該
底壁に対して蒸着源がとりつけられた支持板を摺
動可能に気密接合させるとともに、この支持板に
外筒を固定し、該外筒に対してねじにより上下動
する内筒を気密接合させるとともに、この支持板
に外筒を固定し、該外筒に対してねじにより上下
動する内筒を気密設置したので、高圧電流端子用
配線および冷却水管に影響されることなく、真空
蒸着室外からの操作により容易にかつ正確に左右
動および上下動をさせることが可能となり、ひい
ては均一厚の蒸着膜が容易に得られることとなつ
た。
底壁に対して蒸着源がとりつけられた支持板を摺
動可能に気密接合させるとともに、この支持板に
外筒を固定し、該外筒に対してねじにより上下動
する内筒を気密接合させるとともに、この支持板
に外筒を固定し、該外筒に対してねじにより上下
動する内筒を気密設置したので、高圧電流端子用
配線および冷却水管に影響されることなく、真空
蒸着室外からの操作により容易にかつ正確に左右
動および上下動をさせることが可能となり、ひい
ては均一厚の蒸着膜が容易に得られることとなつ
た。
第1図は本考案の一実施例を示す縦断正面図、
第2図は側面図である。 A……真空蒸着室、A1……真空室底壁、B…
…電子鏡、1……内筒、2……外筒、3……支持
板、4……ナツト部材、5……上下動規制部材、
6……拘束枠、7…締付部材。
第2図は側面図である。 A……真空蒸着室、A1……真空室底壁、B…
…電子鏡、1……内筒、2……外筒、3……支持
板、4……ナツト部材、5……上下動規制部材、
6……拘束枠、7…締付部材。
Claims (1)
- 上面に蒸着源Bを装備し、高圧電流端子Cおよ
び冷却水管Dが配設された頂板11が載置される
とともに下部外周に雄ねじ1aが刻まれた内筒1
と、該内筒が摺動自在とされ、真空室底壁A1の
下面に摺接可能な支持板3と一体形成された外筒
2と、前記内筒の雄ねじと螺合するナツト部材4
と内筒の上下動規制部材5と、前記外筒2とナツ
ト部材4との拘束枠6と、真空室底壁A1と前記
支持板3との締付部材7とを有し、前記真空室底
壁には外筒2が移動可能な長孔A2が設けられて
いることを特徴とする真空蒸着装置の蒸着源移動
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12547984U JPS6143261U (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 真空蒸着装置の蒸着源移動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12547984U JPS6143261U (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 真空蒸着装置の蒸着源移動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6143261U JPS6143261U (ja) | 1986-03-20 |
| JPH0241166Y2 true JPH0241166Y2 (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=30684170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12547984U Granted JPS6143261U (ja) | 1984-08-17 | 1984-08-17 | 真空蒸着装置の蒸着源移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6143261U (ja) |
-
1984
- 1984-08-17 JP JP12547984U patent/JPS6143261U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6143261U (ja) | 1986-03-20 |
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