JPS6247185A - 厚膜回路部品の乾燥炉 - Google Patents
厚膜回路部品の乾燥炉Info
- Publication number
- JPS6247185A JPS6247185A JP18786485A JP18786485A JPS6247185A JP S6247185 A JPS6247185 A JP S6247185A JP 18786485 A JP18786485 A JP 18786485A JP 18786485 A JP18786485 A JP 18786485A JP S6247185 A JPS6247185 A JP S6247185A
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- JP
- Japan
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- thick film
- drying
- film circuit
- temperature
- circuit pattern
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
基板の表面に所望の回路パターンをスクリーン印刷した
後の、乾燥工程において、乾燥炉の昇温室の蒸気を排出
しつつ乾燥することにより、回路パターンの幅が拡大す
ることを阻1[二する。
後の、乾燥工程において、乾燥炉の昇温室の蒸気を排出
しつつ乾燥することにより、回路パターンの幅が拡大す
ることを阻1[二する。
本発明は厚膜回路部品の製造方法に係わり、特に乾燥方
法の改良に関する。
法の改良に関する。
厚膜回路部′品の製造にあたっては、基板の表面に、所
望のペースト状の導体、抵抗体、或いは誘電体等をスク
リーン印刷し、乾燥炉に投入して、低温(例えば150
℃)で乾燥し、さらに、焼成炉に投入して、高温(例え
ば800℃〜900℃)で焼成して所望の回路パターン
を形成するのが一般である。
望のペースト状の導体、抵抗体、或いは誘電体等をスク
リーン印刷し、乾燥炉に投入して、低温(例えば150
℃)で乾燥し、さらに、焼成炉に投入して、高温(例え
ば800℃〜900℃)で焼成して所望の回路パターン
を形成するのが一般である。
第2図は厚膜回路部品の乾燥特性図を示し、第3図は従
来の乾燥炉の側断面図、第4図は厚膜回路部品の一部破
断斜視図である。
来の乾燥炉の側断面図、第4図は厚膜回路部品の一部破
断斜視図である。
第4図に示すように厚膜回路部品1は、例えばアルミナ
基板のような基板2の表面に、所望のペースト状の導体
、抵抗体、或いは誘電体等をそれぞれペースト別に、回
路パターンをスクリーン印刷し、低温で乾燥し、次に高
温で焼成し、この工程を繰り返して製造している。
基板のような基板2の表面に、所望のペースト状の導体
、抵抗体、或いは誘電体等をそれぞれペースト別に、回
路パターンをスクリーン印刷し、低温で乾燥し、次に高
温で焼成し、この工程を繰り返して製造している。
但し、第4図においては、その1種の回路パターン3
(図の回路パターンは、Ag−Pdよりなる導体パター
ンを示す。)のみを示す。回路パターン3の膜厚は、2
0μm〜25μm、膜幅は例えば200μmであり、隣
接した回路パターン3の膜間隔は所望の距離Bである。
(図の回路パターンは、Ag−Pdよりなる導体パター
ンを示す。)のみを示す。回路パターン3の膜厚は、2
0μm〜25μm、膜幅は例えば200μmであり、隣
接した回路パターン3の膜間隔は所望の距離Bである。
この回路パターン3をスクリーン印刷した後に実施する
乾燥工程の、乾燥特性は第2図の如くである。
乾燥工程の、乾燥特性は第2図の如くである。
第2図の縦軸は乾燥温度、横軸は乾燥時間を示し、厚膜
回路部品lを乾燥炉に投入直後の、a分(例えば2分間
)は昇温工程14Aであって、常温より直線状に、所定
の保温温度T’C(例えば150℃)まで上昇させる。
回路部品lを乾燥炉に投入直後の、a分(例えば2分間
)は昇温工程14Aであって、常温より直線状に、所定
の保温温度T’C(例えば150℃)まで上昇させる。
保温工程15AではT’Cでb分(例えば10分)保持
し、次の降温工程16Aで0分(例えば2分)間の間に
徐々に陣下さ−Uる。(、うにしている。
し、次の降温工程16Aで0分(例えば2分)間の間に
徐々に陣下さ−Uる。(、うにしている。
上述の温度特性に準拠して、厚膜回路部品1を乾燥する
のに、従来は第3図に示すように、厚膜回路部品1をコ
ンヘア5に載せて乾燥炉10に投入し、連続乾燥して乾
燥作業の能率化をはかっζいる。
のに、従来は第3図に示すように、厚膜回路部品1をコ
ンヘア5に載せて乾燥炉10に投入し、連続乾燥して乾
燥作業の能率化をはかっζいる。
第3図において、細長い乾燥炉10は外壁を炉壁11で
形成して、炉内に炉入口20側より腎温室14、保温室
15、炉出口21側に降温室16を設けである。
形成して、炉内に炉入口20側より腎温室14、保温室
15、炉出口21側に降温室16を設けである。
そして、厚膜回路部品1を載せるコンヘア5は、炉入口
20より炉出「121に向かって、水平に所望の速度で
走行するよう設置しである。
20より炉出「121に向かって、水平に所望の速度で
走行するよう設置しである。
昇温室14の下部には、下部昇温コントロール用ヒータ
17Aを、上部には−L部屏温コントロール用ヒータ1
7Bを設置し、保温室15には保温ヒータ18を、降温
室16には降温用ヒータ19をそれぞれ設置し、さらに
温室14と保温室15の間には隔壁12を、保温室15
と降温室16の間には隔壁13を、それぞれ設け、温度
管理を容易な構造となっている。
17Aを、上部には−L部屏温コントロール用ヒータ1
7Bを設置し、保温室15には保温ヒータ18を、降温
室16には降温用ヒータ19をそれぞれ設置し、さらに
温室14と保温室15の間には隔壁12を、保温室15
と降温室16の間には隔壁13を、それぞれ設け、温度
管理を容易な構造となっている。
このような乾燥炉10に、厚Hり回路部品1をコンヘア
5に載ゼて、炉入[12oより、乾燥炉1oに投入し、
昇温室14でa分の間に所定の温度T”Cまで上昇させ
、保温室15の通過中のb分間T”Cに保持し、引続き
降温室16に送り込み、C分間で徐々番こ降温させ、炉
出口21で取り−Lげて厚膜回路部品lを乾燥している
。
5に載ゼて、炉入[12oより、乾燥炉1oに投入し、
昇温室14でa分の間に所定の温度T”Cまで上昇させ
、保温室15の通過中のb分間T”Cに保持し、引続き
降温室16に送り込み、C分間で徐々番こ降温させ、炉
出口21で取り−Lげて厚膜回路部品lを乾燥している
。
しかしながら上記従来の厚膜回路部品の乾燥方法は、昇
温室においては、印刷したペースト状の回路パターンの
揮発成分が多量に蒸発する。したがって、厚膜回路部品
1を連続乾燥することにより、この蒸気が厚膜回路部品
1の周囲に充満して、蒸発が阻止され、且つペーストが
高温となることにより流動化する。よって第4図に示す
如くに回路パターン3の周縁が垂れ下がり、はみ出し3
aとなる。
温室においては、印刷したペースト状の回路パターンの
揮発成分が多量に蒸発する。したがって、厚膜回路部品
1を連続乾燥することにより、この蒸気が厚膜回路部品
1の周囲に充満して、蒸発が阻止され、且つペーストが
高温となることにより流動化する。よって第4図に示す
如くに回路パターン3の周縁が垂れ下がり、はみ出し3
aとなる。
このはみ出し3aにより回路パターン3の幅が拡大され
る。また、隣接した回路パターン3の距離Bが縮小され
距離すになる。即ち、厚膜囲路部品1の所望の特性を得
ることが困難になるという問題点がある。
る。また、隣接した回路パターン3の距離Bが縮小され
距離すになる。即ち、厚膜囲路部品1の所望の特性を得
ることが困難になるという問題点がある。
上記従来の問題点を解決するため本発明は、ペースト状
の導体、抵抗体、或いは誘電体等の回路パターンを基板
の表面にスクリーン印刷し、乾燥工程、焼成工程を経て
、厚膜回路部品を製造するにあたり、第1図のように、
連続乾燥炉30のJil室1室部4部分気ダクト25を
設け、ペースト状の回路パターンの発散した蒸気を排出
しつつ、厚膜回路部品1を乾燥するものである。
の導体、抵抗体、或いは誘電体等の回路パターンを基板
の表面にスクリーン印刷し、乾燥工程、焼成工程を経て
、厚膜回路部品を製造するにあたり、第1図のように、
連続乾燥炉30のJil室1室部4部分気ダクト25を
設け、ペースト状の回路パターンの発散した蒸気を排出
しつつ、厚膜回路部品1を乾燥するものである。
上記本発明の手段によれば、乾燥炉30の昇温室14に
排気ダクト25を設け、昇温室14内の蒸気を炉外に排
出することにより、ペースト状の回路パターン3の蒸発
が進捗し、回路パターン3の硬化が促進される。したが
って、回路パターン3は周辺に垂れ下がることがなくて
、所定のパターン幅が維持される。
排気ダクト25を設け、昇温室14内の蒸気を炉外に排
出することにより、ペースト状の回路パターン3の蒸発
が進捗し、回路パターン3の硬化が促進される。したが
って、回路パターン3は周辺に垂れ下がることがなくて
、所定のパターン幅が維持される。
以下図示実施例により、本発明を具体的に説明する。な
お、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
お、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
第1図は本発明に使用する1実施例の乾燥炉の側断面図
である。
である。
第1図に示す乾燥炉30が、第3図に示す従来の乾燥炉
10と異なる点は、昇温室14の」二部に、排気量を調
整する排気ファン26を備えた、排気ダクト25を設け
たことである。
10と異なる点は、昇温室14の」二部に、排気量を調
整する排気ファン26を備えた、排気ダクト25を設け
たことである。
また、排気ダクト25より昇温室14内の蒸気を空気と
ともに排出するので、炉入口20より4温室に流入する
冷気の量が多くなる。この冷気が昇温室14の温度制御
を困難にするので、炉入口20の近傍に誘導板12aを
設けである。
ともに排出するので、炉入口20より4温室に流入する
冷気の量が多くなる。この冷気が昇温室14の温度制御
を困難にするので、炉入口20の近傍に誘導板12aを
設けである。
誘導板12aの作用により、炉入口20よりの流入空気
は炉の側壁に沿って迂回され、予熱されて昇温室14に
入る。したがって、厚膜回路部品1の周囲温度の制御が
容易である。
は炉の側壁に沿って迂回され、予熱されて昇温室14に
入る。したがって、厚膜回路部品1の周囲温度の制御が
容易である。
上述のように昇温室14に排気ダクト25を設置t 。
印刷したペースト状の回路パターンから蒸発した蒸気を
排出しつつ、厚膜回路部品lを乾燥することにより、厚
膜回路部品1の周辺は常に不飽和状態に維持される。
排出しつつ、厚膜回路部品lを乾燥することにより、厚
膜回路部品1の周辺は常に不飽和状態に維持される。
したがって、ペーストの蒸発成分の蒸発が進捗し回路パ
ターン3の硬化が促進され、回路パターン3が周辺に垂
れ下がることがなくて、所定のパターン幅を維持するこ
とができる。
ターン3の硬化が促進され、回路パターン3が周辺に垂
れ下がることがなくて、所定のパターン幅を維持するこ
とができる。
以−ヒ説明したように本発明は、乾燥炉の昇温室の蒸気
を排出しつつ、印刷したペースト状の回路パターンをを
乾燥することにより、回路パターンの周縁の垂れ下りが
阻止されて、回路パターンが所定の幅を維持することが
でき、厚膜回路部品の所望の特性を得ることできるとい
う、実用上で優れた効果がある。
を排出しつつ、印刷したペースト状の回路パターンをを
乾燥することにより、回路パターンの周縁の垂れ下りが
阻止されて、回路パターンが所定の幅を維持することが
でき、厚膜回路部品の所望の特性を得ることできるとい
う、実用上で優れた効果がある。
第1図は本発明に使用するl実施例の乾燥炉の側断面図
、 第2図は厚膜回路部品の乾燥特性図、 第3図は従来の乾燥炉の側断面図、 第4図は厚膜回路部品の斜視図である。 図において、 1は厚膜回路部品、 2は基板、3は回路パター
ン、 5はコンベア、10.30は乾燥炉、
14は昇温室、15は保温室、 16は
降温室、25は排気ダクト、 26は排気ファンをそれぞれ示す。 /6−−考街堅− W−幹、燥炉 寺H吏回剣陽す刊則
、 第2図は厚膜回路部品の乾燥特性図、 第3図は従来の乾燥炉の側断面図、 第4図は厚膜回路部品の斜視図である。 図において、 1は厚膜回路部品、 2は基板、3は回路パター
ン、 5はコンベア、10.30は乾燥炉、
14は昇温室、15は保温室、 16は
降温室、25は排気ダクト、 26は排気ファンをそれぞれ示す。 /6−−考街堅− W−幹、燥炉 寺H吏回剣陽す刊則
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ペースト状の導体、抵抗体、或いは誘電体等の回路パタ
ーンを基板の表面にスクリーン印刷し、乾燥工程、焼成
工程を経て、厚膜回路部品を製造するにあたり、 該乾燥工程の乾燥炉(10)の昇温室(14)部分に排
気ダクトを設け、前記ペースト状の回路パターンより発
生する蒸気を排出しつつ、該厚膜回路部品(1)を乾燥
することを特徴とする厚膜回路部品の乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18786485A JPS6247185A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 厚膜回路部品の乾燥炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18786485A JPS6247185A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 厚膜回路部品の乾燥炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6247185A true JPS6247185A (ja) | 1987-02-28 |
| JPH0369190B2 JPH0369190B2 (ja) | 1991-10-31 |
Family
ID=16213549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18786485A Granted JPS6247185A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 厚膜回路部品の乾燥炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6247185A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58107171A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-25 | サイブロン・コ−ポレイシヨン | 傾斜培養管ラツク |
| JPS58107171U (ja) * | 1982-01-11 | 1983-07-21 | 山崎電機工業株式会社 | 連続厚膜焼成炉 |
| JPS58131662U (ja) * | 1982-03-01 | 1983-09-05 | 株式会社ヤマザキ電機 | 連続厚膜焼成炉 |
| JPS61265893A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-25 | トムソン‐セーエスエフ | プリント回路基板焼成炉 |
-
1985
- 1985-08-27 JP JP18786485A patent/JPS6247185A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58107171A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-25 | サイブロン・コ−ポレイシヨン | 傾斜培養管ラツク |
| JPS58107171U (ja) * | 1982-01-11 | 1983-07-21 | 山崎電機工業株式会社 | 連続厚膜焼成炉 |
| JPS58131662U (ja) * | 1982-03-01 | 1983-09-05 | 株式会社ヤマザキ電機 | 連続厚膜焼成炉 |
| JPS61265893A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-25 | トムソン‐セーエスエフ | プリント回路基板焼成炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0369190B2 (ja) | 1991-10-31 |
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