JPH0243387A - 4,4’−ジヒドロキシビフェニル類の製造法 - Google Patents
4,4’−ジヒドロキシビフェニル類の製造法Info
- Publication number
- JPH0243387A JPH0243387A JP63193282A JP19328288A JPH0243387A JP H0243387 A JPH0243387 A JP H0243387A JP 63193282 A JP63193282 A JP 63193282A JP 19328288 A JP19328288 A JP 19328288A JP H0243387 A JPH0243387 A JP H0243387A
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- dihydroxybiphenyls
- diphenoquinones
- reaction
- present
- aliphatic alcohol
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、4.4′−ジヒドロキシビフェニル類を製造
する方法に関する。
する方法に関する。
4.4′−ジヒドロキシビフェニル類は、殺菌剤、合成
中間体、酸化防止剤として有用である。
中間体、酸化防止剤として有用である。
たとえば、3.3’、5.5′−テトラ−置換の4.4
′−ジヒドロキシビフェニルは油脂、ガソリン、潤滑油
、ゴム組成物等を安定化するために用いられる。
′−ジヒドロキシビフェニルは油脂、ガソリン、潤滑油
、ゴム組成物等を安定化するために用いられる。
入手容易な4.4′−ジフェノキノン類を4゜4′−ジ
ヒドロキシビフェニル類に還元する方法が種々開発され
ており、例えば次のような方法が知られている。
ヒドロキシビフェニル類に還元する方法が種々開発され
ており、例えば次のような方法が知られている。
■ 4.4′−ジフェノキノン類を貴金属触媒の存在下
、水素により還元させて4,4′−ジヒドロキシビフェ
ニル類を得る方法 (米国特許第4,482,755号)、■ 4.4′−
ジフェノキノン類をアルキルフェノールと高温下に反応
させて4.4′−ジヒドロキシビフェニル類を得る方法 (Tetrahedron Lett4241 (1
965)、)、 ■ 4.4′−ジフェノキノン類を酢酸中、亜鉛粉によ
り還元して対応するビフェノール類を得る方法 (米国特許第2,785,188号)。
、水素により還元させて4,4′−ジヒドロキシビフェ
ニル類を得る方法 (米国特許第4,482,755号)、■ 4.4′−
ジフェノキノン類をアルキルフェノールと高温下に反応
させて4.4′−ジヒドロキシビフェニル類を得る方法 (Tetrahedron Lett4241 (1
965)、)、 ■ 4.4′−ジフェノキノン類を酢酸中、亜鉛粉によ
り還元して対応するビフェノール類を得る方法 (米国特許第2,785,188号)。
その他各種の方法が提案されている。
しかしながら、これら従来法はその実用化に際してそれ
ぞれ下記に示すような欠点を有している。
ぞれ下記に示すような欠点を有している。
即ち、上記■の方法では、触媒寿命に問題があるほか、
加圧設備を必要とする点で不利である。
加圧設備を必要とする点で不利である。
上記■の方法では、非常に高温を必要とするため、生成
物の純度等に問題がある。
物の純度等に問題がある。
上記■の方法では、当量以上の亜鉛粉を必要とするため
、コスト面に問題がある。
、コスト面に問題がある。
従って、合成中間体として有用な4,4′−ジヒドロキ
シビフェニル類を温和な条件下、高収率でしかも簡便に
製造できる方法の開発が望まれていた。
シビフェニル類を温和な条件下、高収率でしかも簡便に
製造できる方法の開発が望まれていた。
本発明者らは、上記問題点を解決し、4,4′ジヒドロ
キシビフエニル類を工業的に有利に製造する方法を開発
すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成した。
キシビフエニル類を工業的に有利に製造する方法を開発
すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成した。
即ち本発明は、一般式(I):
(式中、R+ 、Rg 、R3及びR4は、炭素数1〜
12のアルキル基又は水素原子を表わし相互に異なって
いてもよい)で表わされる4、4′−ジフェノキノン類
を、(i)低級脂肪族アルコール又は(ii)低級脂肪
族アルコールと混和する有機溶媒と低級脂肪族アルコー
ルとの混合物中で、電解還元させて一般式(■): (式中、R,、R,、R8及びR4は上記と同義)で表
わされる4、4′−ジヒドロキシビフェニル類を得るこ
とを特徴とする4、4′−ジヒドロキシビフェニル類の
製造法、 を要旨とするものである。
12のアルキル基又は水素原子を表わし相互に異なって
いてもよい)で表わされる4、4′−ジフェノキノン類
を、(i)低級脂肪族アルコール又は(ii)低級脂肪
族アルコールと混和する有機溶媒と低級脂肪族アルコー
ルとの混合物中で、電解還元させて一般式(■): (式中、R,、R,、R8及びR4は上記と同義)で表
わされる4、4′−ジヒドロキシビフェニル類を得るこ
とを特徴とする4、4′−ジヒドロキシビフェニル類の
製造法、 を要旨とするものである。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
本発明方法に用いる4、4′−ジフェノキノン類は一般
式(f): (式中、R,、R2、R3及びR4は、炭素数1〜12
のアルキル基又は水素原子を表わし相互に異なっていて
もよい)で表わされる。上記一般式(1)中のアルキル
基は直鎖状であっても側鎖を有するものであってもよい
。
式(f): (式中、R,、R2、R3及びR4は、炭素数1〜12
のアルキル基又は水素原子を表わし相互に異なっていて
もよい)で表わされる。上記一般式(1)中のアルキル
基は直鎖状であっても側鎖を有するものであってもよい
。
具体的には例えば、3,5.3′、5′−テトラメチル
ジフェノキノン、353′ 5′テトラエチルジフエノ
キノン、3,5.3′、5′テトラ−t−ブチルジフェ
ノキノン、33′−ジメチル−55′−ジ−t−ブチル
ジフェノキノン、3.3′−ジメチル−5,5′−ジオ
クチルジフェノキノン、3,3′−ジメチルジフェノキ
ノン、33′−ジ−t−ブチルジフェノキノン等が挙げ
られる。
ジフェノキノン、353′ 5′テトラエチルジフエノ
キノン、3,5.3′、5′テトラ−t−ブチルジフェ
ノキノン、33′−ジメチル−55′−ジ−t−ブチル
ジフェノキノン、3.3′−ジメチル−5,5′−ジオ
クチルジフェノキノン、3,3′−ジメチルジフェノキ
ノン、33′−ジ−t−ブチルジフェノキノン等が挙げ
られる。
また、上記4.4′−ジフェノキノン類は種々の方法に
より製造することができるが、例えば、アルキルフェノ
ール類を公知の方法により酸化カップリングすることに
より容易に製造することができる。
より製造することができるが、例えば、アルキルフェノ
ール類を公知の方法により酸化カップリングすることに
より容易に製造することができる。
本発明方法においては、前記した4、4゛−ジフェノキ
ノン類を特定の溶媒中で電解還元反応させて4.4′−
ジヒドロキシビフェニル類を得る。
ノン類を特定の溶媒中で電解還元反応させて4.4′−
ジヒドロキシビフェニル類を得る。
使用する電解槽としては、特に限定的なものではなく、
陽極室と陰極室とを隔膜で仕切った隔膜型電解槽と隔膜
で仕切らない非隔膜型電解槽とのいずれであってもよい
。
陽極室と陰極室とを隔膜で仕切った隔膜型電解槽と隔膜
で仕切らない非隔膜型電解槽とのいずれであってもよい
。
電極材料としては、特に限定的なものではなく、公知の
材料を使用できる。陰極材料としては例えば、白金、炭
素、フランシーカーボン、ステンレス、鉛、ニッケル、
アルミニウム、亜鉛、その他の加工電極などが挙げられ
る。陽極材料として例えば、白金、炭素、フランシーカ
ーボン、酸化鉛、鉛、ステンレス、ニッケル、アルミニ
ウム、亜鉛、その他の加工電極などが使用できる。
材料を使用できる。陰極材料としては例えば、白金、炭
素、フランシーカーボン、ステンレス、鉛、ニッケル、
アルミニウム、亜鉛、その他の加工電極などが挙げられ
る。陽極材料として例えば、白金、炭素、フランシーカ
ーボン、酸化鉛、鉛、ステンレス、ニッケル、アルミニ
ウム、亜鉛、その他の加工電極などが使用できる。
隔膜型電解槽の隔膜としては特に限定的なものでなく、
公知のイオン交換膜、無機多孔性膜等を用いることがで
きる。
公知のイオン交換膜、無機多孔性膜等を用いることがで
きる。
本発明方法における電解還元反応に用いられる溶媒とし
ては、原料の4,4′−ジフェノキノン類及び生成物の
4,4′−ジヒドロキシビフェニル類を溶解し、かつ後
述する支持電解質を溶解するものが好ましいことから、
1)低級脂肪族アルコール又はii)低級脂肪族アルコ
ールと混和する有機溶媒と低級脂肪族アルコールとの混
合物が用いられる。
ては、原料の4,4′−ジフェノキノン類及び生成物の
4,4′−ジヒドロキシビフェニル類を溶解し、かつ後
述する支持電解質を溶解するものが好ましいことから、
1)低級脂肪族アルコール又はii)低級脂肪族アルコ
ールと混和する有機溶媒と低級脂肪族アルコールとの混
合物が用いられる。
低級脂肪族アルコール中で行なうのは目的生成物の選択
性の面からみて好適である。低級脂肪族アルコールとし
ては炭素数1〜4のアルコールが望ましく、その例とし
てはメタノール、エタノール、イソプロパツール、も−
ブタノールなどを挙げることができる。更に、低級脂肪
族アルコールと混和する有機溶媒を加えた混合溶媒を用
いると特に好ましい結果が得られる。低級脂肪族アルコ
ールと混和する有機溶媒としては、親水性有機溶媒及び
疎水性有機溶媒のいずれでも良く、親水性有機溶媒とし
て具体的にはアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミド等が、また、疎水性有機溶媒として
具体的には四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、ペンタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水
素等が挙げられる。溶媒の混合比は通常、低級脂肪族ア
ルコール/上記有機溶媒の容量比として通常、9/1〜
1/9の範囲で用いることができる。
性の面からみて好適である。低級脂肪族アルコールとし
ては炭素数1〜4のアルコールが望ましく、その例とし
てはメタノール、エタノール、イソプロパツール、も−
ブタノールなどを挙げることができる。更に、低級脂肪
族アルコールと混和する有機溶媒を加えた混合溶媒を用
いると特に好ましい結果が得られる。低級脂肪族アルコ
ールと混和する有機溶媒としては、親水性有機溶媒及び
疎水性有機溶媒のいずれでも良く、親水性有機溶媒とし
て具体的にはアセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミド等が、また、疎水性有機溶媒として
具体的には四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、ペンタン、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水
素等が挙げられる。溶媒の混合比は通常、低級脂肪族ア
ルコール/上記有機溶媒の容量比として通常、9/1〜
1/9の範囲で用いることができる。
更に溶媒系に少量の酸を添加するとより好ましい結果が
得られる。酸は鉱酸、有機酸等を用いることができ、陰
極還元におけるプロトン源として使用される。添加量に
ついては特に限定されない。
得られる。酸は鉱酸、有機酸等を用いることができ、陰
極還元におけるプロトン源として使用される。添加量に
ついては特に限定されない。
溶媒の使用量は特に限定されるものでなく、反応条件等
に応じて適宜決定される。
に応じて適宜決定される。
溶媒中における4、4′−ジフェノキノン類の濃度は特
に限定されるものではない。ただし、反応効率の点で濃
度は高い方が好ましい。
に限定されるものではない。ただし、反応効率の点で濃
度は高い方が好ましい。
本発明では各種の塩が支持電解質として用いられる。上
記塩のカチオン部分としては例えばナトリウム(Nal
、リチウム(Li”)、カリウム(K′″)などのアル
カリ金属陽イオン;例えばマグネシウム(Mg”)、カ
ルシウム(Ca”)、バリウム(B a ”)などのア
ルカリ土類金属陽イオン;一般式: (式中、R5、R6、R7およびR8は水素原子又はア
ルキル基である。) で表わされる置換もしくは非置換のアンモニウムイオン
等が挙げられる。また上記塩のアニオン部分としては、
過塩素酸((do4− ) 、フッ化ホウ素酸(BF、
−)、I)−)ルエンスルホン酸(CH3C6H4SO
3−)などのスルホン酸、硫酸(so4”−)などの陰
イオンが挙げられる。
記塩のカチオン部分としては例えばナトリウム(Nal
、リチウム(Li”)、カリウム(K′″)などのアル
カリ金属陽イオン;例えばマグネシウム(Mg”)、カ
ルシウム(Ca”)、バリウム(B a ”)などのア
ルカリ土類金属陽イオン;一般式: (式中、R5、R6、R7およびR8は水素原子又はア
ルキル基である。) で表わされる置換もしくは非置換のアンモニウムイオン
等が挙げられる。また上記塩のアニオン部分としては、
過塩素酸((do4− ) 、フッ化ホウ素酸(BF、
−)、I)−)ルエンスルホン酸(CH3C6H4SO
3−)などのスルホン酸、硫酸(so4”−)などの陰
イオンが挙げられる。
支持電解質の濃度は、通常、0.01〜5.0Mの範囲
であり、0.05〜1.0M程度とするのが好ましい。
であり、0.05〜1.0M程度とするのが好ましい。
反応温度は通常10 Q ’C以下であればよく、好ま
しくは−20’C〜50°Cの範囲とするのが良い。
しくは−20’C〜50°Cの範囲とするのが良い。
本発明における電解還元反応の電流密度は通常、0.0
1〜50A/dnfの範囲で選びうるが、好ましくは0
.05〜2OA/dボである。
1〜50A/dnfの範囲で選びうるが、好ましくは0
.05〜2OA/dボである。
通電する電気量は、反応原料の4,4′−ジフェノキノ
ン類1モルに対して2〜10フアラデー、好ましくは2
〜5フアラデーである。
ン類1モルに対して2〜10フアラデー、好ましくは2
〜5フアラデーである。
本発明における電解反応は、空気中、不活性ガス雰囲気
下、いずれで行なってもよく、特に限定されない。
下、いずれで行なってもよく、特に限定されない。
また反応時間は基質濃度、電流密度、その他の反応条件
に応じて適宜選択される。
に応じて適宜選択される。
以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する
が、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に
よって限定されるものではない。
が、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に
よって限定されるものではない。
実施例1
容量10−のビーカー型の非隔膜型電解槽内に3゜5.
3’、5′−テトラ−も−ブチルジフェノキノン(以下
、TBDPQという) 204mg (0,5mmol
)、過塩素酸リチウム324mg (3,0mmo I
)、メタノール7 ml、および塩化メチレン3mρを
加えた。
3’、5′−テトラ−も−ブチルジフェノキノン(以下
、TBDPQという) 204mg (0,5mmol
)、過塩素酸リチウム324mg (3,0mmo I
)、メタノール7 ml、および塩化メチレン3mρを
加えた。
白金板電極(2cm x 3 cm )を取り付け、氷
冷し、電流密度0.2A/drrfの条件下、定電流電
解を行なった。反応原料のTBDPQIモルに対して5
.2フアラデーの電気量を通電して電解還元反応を行な
った。反応生成物を分析したところ原料転換率56.8
%、44′−ジヒドロキシ−3,5,3’、5’−テト
ラ−t−ブチルビフェニル(以下、TBBPという)の
選択率は100%であった。
冷し、電流密度0.2A/drrfの条件下、定電流電
解を行なった。反応原料のTBDPQIモルに対して5
.2フアラデーの電気量を通電して電解還元反応を行な
った。反応生成物を分析したところ原料転換率56.8
%、44′−ジヒドロキシ−3,5,3’、5’−テト
ラ−t−ブチルビフェニル(以下、TBBPという)の
選択率は100%であった。
実施例2
陽イオン交換膜を隔膜としたH型隔膜型電解セルの陽極
室、陰極室のそれぞれに過塩素酸リチウム324mg
(3,0mmo l) 、メタノール1mQ、および塩
化メチレン3 mflを加えた。陰極室にTBDPQ2
06mg (0,5mmo I)および濃硫酸0.03
mlを入れた。陰極及び陽極として白金板電極(2C
IIIX2cm)を取り付け、氷冷し、電流密度0.1
A/dポの条件下定電流電解を行なった。反応原料のT
BDPQ1モルに対して2.3フアラデーの電気量を通
電し1ま た後、反応生成物を分析したところ、原料転換率92.
2%、TBBPの選択率は100%であった。
室、陰極室のそれぞれに過塩素酸リチウム324mg
(3,0mmo l) 、メタノール1mQ、および塩
化メチレン3 mflを加えた。陰極室にTBDPQ2
06mg (0,5mmo I)および濃硫酸0.03
mlを入れた。陰極及び陽極として白金板電極(2C
IIIX2cm)を取り付け、氷冷し、電流密度0.1
A/dポの条件下定電流電解を行なった。反応原料のT
BDPQ1モルに対して2.3フアラデーの電気量を通
電し1ま た後、反応生成物を分析したところ、原料転換率92.
2%、TBBPの選択率は100%であった。
実施例3
実施例2においてメタノール及び塩化メチレンの代わり
にメタノール/塩化メチレン(5Id15d)の混合溶
媒を使用したこと以外は同様にして電解還元反応を行な
った。原料転換率99.8%、TBBPの選択率は10
0%であった。
にメタノール/塩化メチレン(5Id15d)の混合溶
媒を使用したこと以外は同様にして電解還元反応を行な
った。原料転換率99.8%、TBBPの選択率は10
0%であった。
本発明方法によれば、アルキルフェノール類から容易に
合成可能な4.4′−ジフェノキノン類を出発原料とし
、電解還元により有機合成中間体として重要な4,4゛
−ジヒドロキシビフェニル類を温和な条件で純度よく、
高収率で、しかも効率的に製造することができる。
合成可能な4.4′−ジフェノキノン類を出発原料とし
、電解還元により有機合成中間体として重要な4,4゛
−ジヒドロキシビフェニル類を温和な条件で純度よく、
高収率で、しかも効率的に製造することができる。
従って、本発明の工業的有用性は極めて高い。
Claims (1)
- (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は、炭素数
1〜12のアルキル基又は水素原子を表わし相互に異な
っていてもよい)で表わされる4,4′−ジフェノキノ
ン類を、(i)低級脂肪族アルコール又は(ii)低級
脂肪族アルコールと混和する有機溶媒と低級脂肪族アル
コールとの混合物中で、電解還元させて一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼…(II) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は上記と同
義)で表わされる4,4′−ジヒドロキシビフェニル類
を得ることを特徴とする4,4′−ジヒドロキシビフェ
ニル類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63193282A JPH0243387A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 4,4’−ジヒドロキシビフェニル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63193282A JPH0243387A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 4,4’−ジヒドロキシビフェニル類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0243387A true JPH0243387A (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=16305333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63193282A Pending JPH0243387A (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 4,4’−ジヒドロキシビフェニル類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0243387A (ja) |
-
1988
- 1988-08-02 JP JP63193282A patent/JPH0243387A/ja active Pending
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