JPH0243916A - 圧力スイング吸着方法及び装置 - Google Patents
圧力スイング吸着方法及び装置Info
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- JPH0243916A JPH0243916A JP63193596A JP19359688A JPH0243916A JP H0243916 A JPH0243916 A JP H0243916A JP 63193596 A JP63193596 A JP 63193596A JP 19359688 A JP19359688 A JP 19359688A JP H0243916 A JPH0243916 A JP H0243916A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［ａ業上の利用分野］
本発明は高純度ガスの製造に利用される圧力スイング吸
着方法及び装置（以下車にＰＳＡ方法及びＰＳＡ装置と
いう）に関し、詳細には吸着塔内における不純成分の残
存を極力抑制して製品ガスをより高純度に得ることので
きるＰＳＡ方法及びＰＳＡ装置に関するものである。
着方法及び装置（以下車にＰＳＡ方法及びＰＳＡ装置と
いう）に関し、詳細には吸着塔内における不純成分の残
存を極力抑制して製品ガスをより高純度に得ることので
きるＰＳＡ方法及びＰＳＡ装置に関するものである。
以下においてはその代表例として原料空気からＮ２ガス
を高純度に回収するＰＳＡ装置及びＰＳＡ方法について
説明するが、本発明の適用対象はこれによって限定解釈
されてはならない。
を高純度に回収するＰＳＡ装置及びＰＳＡ方法について
説明するが、本発明の適用対象はこれによって限定解釈
されてはならない。
［従来の技術］
原料空気をＰＳＡ装置に導入してＮ２ガスを濃縮回収す
る方法を大別すると、０２ガスを吸着剤に吸着させて除
去する方法、及びＮ２ガスを吸着剤に吸着させ更に脱着
回収する方法の２つに分類される。このうち後者はゼオ
ライト系の吸着剤を吸着塔内に装填し、Ｎ２ガス吸着後
の吸着塔を減圧することにより、高純度のＮ２ガスを脱
着回収する方法である。以下この方法に利用されるＰＳ
Ａ装置について説明する。
る方法を大別すると、０２ガスを吸着剤に吸着させて除
去する方法、及びＮ２ガスを吸着剤に吸着させ更に脱着
回収する方法の２つに分類される。このうち後者はゼオ
ライト系の吸着剤を吸着塔内に装填し、Ｎ２ガス吸着後
の吸着塔を減圧することにより、高純度のＮ２ガスを脱
着回収する方法である。以下この方法に利用されるＰＳ
Ａ装置について説明する。
第３図は前処理装置２によってＮ２０とＣｏ２を除去し
た後の０２ ／ Ｎ ２混合ガスを３塔式のＰＳＡ装置
に供給してＮ２ガスを選択的に回収する装置の概略説明
図である。
た後の０２ ／ Ｎ ２混合ガスを３塔式のＰＳＡ装置
に供給してＮ２ガスを選択的に回収する装置の概略説明
図である。
圧縮機９によって加圧された空気は前処理装置２に送給
され、吸着剤にＮ２０及びＣ０２成分を吸着させて除去
し、これを通過した０□／ Ｎ ２混合ガスをＰＳＡ装
置の原料ガス供給管１ａへ送り込む。原料ガス供給管１
ａは自動開閉弁（以下車に弁という）■、〜■３を介し
て吸着塔３ａ３ｂ、３ｃ頂部に接続され、各吸着塔の底
部には弁Ｖ４〜Ｖ６を介して排ガス廃棄管４ａが連結さ
れる。また各吸着塔３ａ、３ｂ、３ｃの底部には脱着用
管５ａ、５ｂ、５ｃが配設され、夫々弁■ア〜ｖ９を介
してそれより下流側で合流される。合流された脱着用管
５には真空ポンプ６が設けられて製品ガスホルダ２０に
連結され、吸着塔３ａ、３ｂ、３ｃより脱着回収された
高純度Ｎ２ガスを貯留する。前記製品ガスホルダ２０に
は、製品ガスの一部を吸着塔の洗浄のために抜き出す洗
浄用管８が配設され、該洗浄用管８は分岐された後弁Ｖ
Ｉ３〜ＶＩＳを介して吸着塔３ａ、３ｂ。
され、吸着剤にＮ２０及びＣ０２成分を吸着させて除去
し、これを通過した０□／ Ｎ ２混合ガスをＰＳＡ装
置の原料ガス供給管１ａへ送り込む。原料ガス供給管１
ａは自動開閉弁（以下車に弁という）■、〜■３を介し
て吸着塔３ａ３ｂ、３ｃ頂部に接続され、各吸着塔の底
部には弁Ｖ４〜Ｖ６を介して排ガス廃棄管４ａが連結さ
れる。また各吸着塔３ａ、３ｂ、３ｃの底部には脱着用
管５ａ、５ｂ、５ｃが配設され、夫々弁■ア〜ｖ９を介
してそれより下流側で合流される。合流された脱着用管
５には真空ポンプ６が設けられて製品ガスホルダ２０に
連結され、吸着塔３ａ、３ｂ、３ｃより脱着回収された
高純度Ｎ２ガスを貯留する。前記製品ガスホルダ２０に
は、製品ガスの一部を吸着塔の洗浄のために抜き出す洗
浄用管８が配設され、該洗浄用管８は分岐された後弁Ｖ
Ｉ３〜ＶＩＳを介して吸着塔３ａ、３ｂ。
３ｃの各頂部に連結される。尚各吸着塔３ａ。
３ｂ、３ｃは連結配管１０ａ、１０ｂ、１０ｃによって
直列的に連結され、各連結管には弁ＶＩＯ〜ｖ１□が設
けられる。
直列的に連結され、各連結管には弁ＶＩＯ〜ｖ１□が設
けられる。
第４図は、吸着塔３ａ、３ｂ、３ｃのうち１塔の作動工
程を示すタイムスケジュール（時間は左から右方向に進
む）であり、吸着工程開始時から脱着工程終了時までの
作動工程を１工程サイクルとしている。この１工程サイ
クルは図示の如く吸着工程、回収工程、洗浄工程及び脱
着工程より構成される。まず吸着工程では脱着工程で減
圧された吸着塔内を昇圧する操作として、０２／Ｎ２混
合ガスを供給管１ａから加圧供給し、回収目的成分のＮ
２ガスを吸着剤に吸着させ不純成分ガス（主に０．ガス
）を排ガス廃棄管４ａを介して放出させる。又脱着工程
では吸着塔を真空ポンプ６によって減圧し、塔内の吸着
剤に吸着されたＮ２成分を脱着し、脱着用管５を通して
製品ガスホルダ２０に回収貯留する。
程を示すタイムスケジュール（時間は左から右方向に進
む）であり、吸着工程開始時から脱着工程終了時までの
作動工程を１工程サイクルとしている。この１工程サイ
クルは図示の如く吸着工程、回収工程、洗浄工程及び脱
着工程より構成される。まず吸着工程では脱着工程で減
圧された吸着塔内を昇圧する操作として、０２／Ｎ２混
合ガスを供給管１ａから加圧供給し、回収目的成分のＮ
２ガスを吸着剤に吸着させ不純成分ガス（主に０．ガス
）を排ガス廃棄管４ａを介して放出させる。又脱着工程
では吸着塔を真空ポンプ６によって減圧し、塔内の吸着
剤に吸着されたＮ２成分を脱着し、脱着用管５を通して
製品ガスホルダ２０に回収貯留する。
次に回収工程及び洗浄工程を、第３図の吸着塔３ａの場
合を例に挙げて説明する。
合を例に挙げて説明する。
即ち製品ガスホルダ２ｏ側からの高純度Ｎ２ガスは矢印
Ａに示す様に洗浄用管８を通って吸着塔３ｃ内へ導入さ
れ、該吸着塔３ａ内に残留する不純成分をＮ２成分と置
換し、これによって追放されたガスは矢印Ｂに示す様に
吸着工程の終了した吸着塔３ｂへ連結配管１０ａを介し
て送り込まれる。従ってこのとき吸着塔３ａでは洗浄工
程が行なわれ、吸着塔３ｂではＮ２の回収工程が行なわ
れる。
Ａに示す様に洗浄用管８を通って吸着塔３ｃ内へ導入さ
れ、該吸着塔３ａ内に残留する不純成分をＮ２成分と置
換し、これによって追放されたガスは矢印Ｂに示す様に
吸着工程の終了した吸着塔３ｂへ連結配管１０ａを介し
て送り込まれる。従ってこのとき吸着塔３ａでは洗浄工
程が行なわれ、吸着塔３ｂではＮ２の回収工程が行なわ
れる。
［発明が解決しようとする課題］
第５図（ａ）〜 （ｄ）は吸着塔３ａの各工程における
Ｎ２ガス吸着状態を示す模式説明図である。尚斜線部は
Ｎ２の高濃度吸着部分を示す。図の様に吸着塔３ａの頂
部側から原料ガス及び洗浄ガス等が供給される場合は、
該吸着塔の上方側よりＮ２成分の吸着又は置換が進行し
、下方部分においては不純成分であ、る０□成分が脱着
工程の開始時まで残存することになる（吸着剤中の０２
成分はＮ２成分と置換されずに吸着されたまま残ってい
たり、或は吸着剤の装填隙間に残存していたりする）。
Ｎ２ガス吸着状態を示す模式説明図である。尚斜線部は
Ｎ２の高濃度吸着部分を示す。図の様に吸着塔３ａの頂
部側から原料ガス及び洗浄ガス等が供給される場合は、
該吸着塔の上方側よりＮ２成分の吸着又は置換が進行し
、下方部分においては不純成分であ、る０□成分が脱着
工程の開始時まで残存することになる（吸着剤中の０２
成分はＮ２成分と置換されずに吸着されたまま残ってい
たり、或は吸着剤の装填隙間に残存していたりする）。
特に上記の様に吸着工程において０２／Ｎ２混合ガスが
吸着塔の頂部側より供給されると、Ｎ２成分の吸着は装
填吸着剤の上方から進行し、吸着塔下方部においては０
２リツチの混合ガスが接触することになり、０２成分が
残存する比率が高くなる。
吸着塔の頂部側より供給されると、Ｎ２成分の吸着は装
填吸着剤の上方から進行し、吸着塔下方部においては０
２リツチの混合ガスが接触することになり、０２成分が
残存する比率が高くなる。
その結果脱着工程において回収されるＮ２ガス濃度は９
９．９％とするのが限度であり、これ以上高純度のＮ２
ガス回収は不可能とされていた。
９．９％とするのが限度であり、これ以上高純度のＮ２
ガス回収は不可能とされていた。
そこで本発明者らは回収目的成分ガスを９９．９％以上
の高純度で得ることを目的として研究を積み重ねた結果
、本発明を完成したのである。
の高純度で得ることを目的として研究を積み重ねた結果
、本発明を完成したのである。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成した本発明方法は、脱着工程終了後の吸
着塔へ高純度の回収目的成分ガスを１５０〜３００ｍｍ
Ｈｇまで初期導入し、その後、前記吸着塔の初期導入口
の反対側より原料ガスを供給して吸着工程を行なうこと
を要旨とする。
着塔へ高純度の回収目的成分ガスを１５０〜３００ｍｍ
Ｈｇまで初期導入し、その後、前記吸着塔の初期導入口
の反対側より原料ガスを供給して吸着工程を行なうこと
を要旨とする。
また上記方法に利用する圧力スイング吸着装置は、前記
吸着塔における原料ガス供給管接続側と対峙する側には
、前記洗浄管から分岐した初期導入管が連結されてなる
点を要旨とするものである。
吸着塔における原料ガス供給管接続側と対峙する側には
、前記洗浄管から分岐した初期導入管が連結されてなる
点を要旨とするものである。
［作用及び実施例］
第１図（Ａ）は本発明の代表的なＰＳＡ装置の実施例を
示す概略説明図である。第３図に示す従来装置と相違す
る特徴的な構成は、洗浄管８を分岐して初期導入管１１
ａ、ｌｌｂ、ｌｌｃを配設し、各初期導入管１１ａ、ｊ
ｌｂ、ｌｌｃは自動開閉弁ｖｉａ〜Ｖｉａを介して各吸
着塔３ａ、３ｂ。
示す概略説明図である。第３図に示す従来装置と相違す
る特徴的な構成は、洗浄管８を分岐して初期導入管１１
ａ、ｌｌｂ、ｌｌｃを配設し、各初期導入管１１ａ、ｊ
ｌｂ、ｌｌｃは自動開閉弁ｖｉａ〜Ｖｉａを介して各吸
着塔３ａ、３ｂ。
３ｃの底部へ連結した点にある。即ち各吸着塔において
原料ガス供給管１ａの接続位置と上下反対側に初期導入
管１１ａ、ｌｌｂ、ｌｌｃを接続する。
原料ガス供給管１ａの接続位置と上下反対側に初期導入
管１１ａ、ｌｌｂ、ｌｌｃを接続する。
第２図（Ａ）〜（Ｄ）は第１図（Ａ）に示したＰＳＡ装
置による吸着塔３ａにおける吸着工程直前から脱着工程
直前までを順に示す模式説明図である。
置による吸着塔３ａにおける吸着工程直前から脱着工程
直前までを順に示す模式説明図である。
第２図（Ａ）に示す様に、脱着工程が終了して吸着工程
を開始する直前に、前記初期導入管１１ａを通して製品
ガスホルダ２０内の高純度Ｎ２ガスを吸着塔３ａの底部
側から塔内に導入し、主として塔内下方部側に装填され
た吸着剤にＮ２成分を吸着させておく。その後弁の切換
えを行なって吸着工程に移行し、原料ガス供給管１ａよ
り０２／Ｎ２混合ガスを吸着塔３ａ頂部側から導入する
［第２図（Ｂ） ］。このとき吸着剤へのＮ２成分の吸
着は吸着塔３ａ上方部から進行し、該工程前のＮ２初期
導入に加えて本工程供給Ｎ２を塔内の吸着剤に吸着させ
、吸着工程を終了する。これによって吸着剤に吸着され
る０□成分は従来に比べて減少し、この時点で既に不純
成分濃度の低下が達成される。なぜなら吸着工程時に０
２リツチなガスと接触される吸着剤には初期導入によっ
てすでにＮ２が吸着されており、ｏ２吸着の割合は非常
に低いものとなるからである。
を開始する直前に、前記初期導入管１１ａを通して製品
ガスホルダ２０内の高純度Ｎ２ガスを吸着塔３ａの底部
側から塔内に導入し、主として塔内下方部側に装填され
た吸着剤にＮ２成分を吸着させておく。その後弁の切換
えを行なって吸着工程に移行し、原料ガス供給管１ａよ
り０２／Ｎ２混合ガスを吸着塔３ａ頂部側から導入する
［第２図（Ｂ） ］。このとき吸着剤へのＮ２成分の吸
着は吸着塔３ａ上方部から進行し、該工程前のＮ２初期
導入に加えて本工程供給Ｎ２を塔内の吸着剤に吸着させ
、吸着工程を終了する。これによって吸着剤に吸着され
る０□成分は従来に比べて減少し、この時点で既に不純
成分濃度の低下が達成される。なぜなら吸着工程時に０
２リツチなガスと接触される吸着剤には初期導入によっ
てすでにＮ２が吸着されており、ｏ２吸着の割合は非常
に低いものとなるからである。
そして第２図（Ｃ） 、 （Ｄ）に示す回収工程及び洗
浄工程によって僅かに残留している不純成分ガスをほぼ
完全に追放した後、脱着工程において高純度Ｎ２ガスを
回収する。
浄工程によって僅かに残留している不純成分ガスをほぼ
完全に追放した後、脱着工程において高純度Ｎ２ガスを
回収する。
上記の様に吸着工程直前に、吸着塔における原料ガス導
入方力に対して反対側から高純度Ｎ２ガスを導入してお
くことによって、脱着工程まで塔内に不純成分が残るの
が抑制できる様になり、回収されるＮ２ガス純度は９９
．９９％以上を達成することができる様になる。
入方力に対して反対側から高純度Ｎ２ガスを導入してお
くことによって、脱着工程まで塔内に不純成分が残るの
が抑制できる様になり、回収されるＮ２ガス純度は９９
．９９％以上を達成することができる様になる。
第１図（Ｂ）は初期導入管１１ａ、ｌｌｂ。
１１ｃによる吸着塔へのＮ２ガス供給量（分圧で示す）
と製品ガス純度との関係を示すグラフである。即ち吸着
塔の大きさは直径８０ ｍｍ、高さ１０００ｍｍとし、
吸着工程における原料供給を０．５〜０．１ ｋｇ／ｃ
ｍ”Ｇで行ない、脱着工程を真空ポンプによって１００
〜５０ ｍ＋ｎＨｇまで減圧して脱着を行なった。その
結果吸着工程直前の高純度Ｎ２ガスの導入は１５０〜３
００ｍｍＨｇの範囲とする必要があることが分かった。
と製品ガス純度との関係を示すグラフである。即ち吸着
塔の大きさは直径８０ ｍｍ、高さ１０００ｍｍとし、
吸着工程における原料供給を０．５〜０．１ ｋｇ／ｃ
ｍ”Ｇで行ない、脱着工程を真空ポンプによって１００
〜５０ ｍ＋ｎＨｇまで減圧して脱着を行なった。その
結果吸着工程直前の高純度Ｎ２ガスの導入は１５０〜３
００ｍｍＨｇの範囲とする必要があることが分かった。
なぜならば１５０ｍｍＨｇ未満であるとＮ２ガスを初期
導入しても従来と比較して回収ガス濃度の向上効果はさ
ほど期待できず、また３００ｍｍＨｇより多くなると吸
着工程に招けるＮ２吸着量が減少してしまい回収率が低
下してしまうためである。
導入しても従来と比較して回収ガス濃度の向上効果はさ
ほど期待できず、また３００ｍｍＨｇより多くなると吸
着工程に招けるＮ２吸着量が減少してしまい回収率が低
下してしまうためである。
（比較実験例）
第１図（Ａ）及び第３図に示した構造のＰＳＡ装置を使
って下記の条件で夫々Ｎ２ガス回収実験を行なって夫々
の回収ガス濃度を調べた。尚第１図（Ａ） に示すＰＳ
Ａの使用に当たっては吸着工程開始直前に２秒間高純度
Ｎ２ガスの導入を行なった。
って下記の条件で夫々Ｎ２ガス回収実験を行なって夫々
の回収ガス濃度を調べた。尚第１図（Ａ） に示すＰＳ
Ａの使用に当たっては吸着工程開始直前に２秒間高純度
Ｎ２ガスの導入を行なった。
各吸着塔の内径を８０ｍｍ、高さをＺｏｏ□＋ｍとし、
充填する吸着剤は合成ゼオライト５Ａ型を用いた。
充填する吸着剤は合成ゼオライト５Ａ型を用いた。
原料ガス供給圧カニ ０．２ ｋｇ／ｃｍ”Ｇ、脱着圧
カニ ７０ Ｔｏｒｒ、 １塔の１工程サイクル＝１分、 圧縮機９への 原料空気供給量：３２０ＯＮＩＬ／ｈ、Ｎ２ガスの回収
量： ８００ ＮｆＬ／ｈ。
カニ ７０ Ｔｏｒｒ、 １塔の１工程サイクル＝１分、 圧縮機９への 原料空気供給量：３２０ＯＮＩＬ／ｈ、Ｎ２ガスの回収
量： ８００ ＮｆＬ／ｈ。
の条件で各々実験を行なった。
この実験の結果、従来装置（第３図に示す）によって製
品ガスホルダ２０内に回収されたＮ２成分の濃度は９９
．９％であったのに対し、本発明のＰＳＡ装置の場合、
Ｎ２濃度は９９．９９７％まで高めることができた。
品ガスホルダ２０内に回収されたＮ２成分の濃度は９９
．９％であったのに対し、本発明のＰＳＡ装置の場合、
Ｎ２濃度は９９．９９７％まで高めることができた。
各吸着塔において原料ガス供給側と反対側から高純度Ｎ
２ガスを吸着工程直前に導入する方法としては、第１図
（八）に示す実施例に限定されず、製品ガスホルダ２０
とは別のＮ２ガスホルダを設けて該ホルダから吸着塔へ
初期導入管を接続するものであっても良いし、或は真空
ポンプ６の出口側又は製品ガスホルダ２０から分岐して
初期導入管を連結するもの等であっても構わない。
２ガスを吸着工程直前に導入する方法としては、第１図
（八）に示す実施例に限定されず、製品ガスホルダ２０
とは別のＮ２ガスホルダを設けて該ホルダから吸着塔へ
初期導入管を接続するものであっても良いし、或は真空
ポンプ６の出口側又は製品ガスホルダ２０から分岐して
初期導入管を連結するもの等であっても構わない。
［発明の効果］
請求項（１）の方法によって脱着工程開始に至るまで吸
着塔内に残存する不純成分濃度を低減できるようになっ
た。また請求項（２）の装置により回収目的成分の所定
分圧を吸着工程直前の吸着塔へ正確に導入できる様にな
った。
着塔内に残存する不純成分濃度を低減できるようになっ
た。また請求項（２）の装置により回収目的成分の所定
分圧を吸着工程直前の吸着塔へ正確に導入できる様にな
った。
これらの結果製品ガスとして回収される目的成分ガス濃
度を従来より高純度化することができる様になった。
度を従来より高純度化することができる様になった。
【図面の簡単な説明】
第１図（Ａ）は本発明ＰＳＡ装置の代表的な実施例を示
す概略説明図、第１図（Ｂ）は初期導入ガス分圧と製品
ガス純度の関係を示すグラフ、第２図（Ａ）〜 （Ｄ）
は第１図（＾）のＰＳＡ装置による１塔の工程状態を示
す模式説明図、第３図は従来のＰＳＡ装置を示す概略説
明図、第４図は１つの吸着塔の工程順序を示す説明図、
第５図は従来のＰＳＡ装置による１塔の工程状態を示す
模式説明図である。 ｌａ・・・原料ガス供給管 ２・・・前処理装置３ａ
、３ｂ、３ｃ・・・吸着塔 ５・・・脱着用管６・
・・真空ポンプ ８・・・洗浄用管９・・・圧縮
機
す概略説明図、第１図（Ｂ）は初期導入ガス分圧と製品
ガス純度の関係を示すグラフ、第２図（Ａ）〜 （Ｄ）
は第１図（＾）のＰＳＡ装置による１塔の工程状態を示
す模式説明図、第３図は従来のＰＳＡ装置を示す概略説
明図、第４図は１つの吸着塔の工程順序を示す説明図、
第５図は従来のＰＳＡ装置による１塔の工程状態を示す
模式説明図である。 ｌａ・・・原料ガス供給管 ２・・・前処理装置３ａ
、３ｂ、３ｃ・・・吸着塔 ５・・・脱着用管６・
・・真空ポンプ ８・・・洗浄用管９・・・圧縮
機
Claims (2)
- （１）吸着工程で原料ガスを吸着塔内へ導入して回収目
的成分ガスを吸着剤に吸着し、脱着工程で該回収目的成
分ガスを脱着して回収し、上記吸着工程と脱着工程を繰
返す圧力スイング吸着方法において、 脱着工程終了後の吸着塔へ高純度の回収目的成分ガスを
１５０〜３００ｍｍＨｇまで初期導入し、その後、前記
吸着塔における該初期導入口の反対側より原料ガスを供
給して吸着工程を開始することを特徴とする圧力スイン
グ吸着方法。 - （２）吸着塔に原料ガス供給管、脱着用管及び洗浄用管
を連結してなる圧力スイング吸着装置において、 前記吸着塔における原料ガス供給管接続側と対峙する側
には、前記洗浄管から分岐した初期導入管が連結されて
なることを特徴とする圧力スイング吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63193596A JPH0691925B2 (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 圧力スイング吸着方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63193596A JPH0691925B2 (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 圧力スイング吸着方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0243916A true JPH0243916A (ja) | 1990-02-14 |
| JPH0691925B2 JPH0691925B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=16310587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63193596A Expired - Lifetime JPH0691925B2 (ja) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | 圧力スイング吸着方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0691925B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010069452A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 一酸化炭素分離方法および一酸化炭素分離装置 |
| CN113559672A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-10-29 | 威海东兴电子有限公司 | 一种高纯度氧气四塔提纯装置 |
-
1988
- 1988-08-02 JP JP63193596A patent/JPH0691925B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010069452A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 一酸化炭素分離方法および一酸化炭素分離装置 |
| CN113559672A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-10-29 | 威海东兴电子有限公司 | 一种高纯度氧气四塔提纯装置 |
| CN113559672B (zh) * | 2021-09-01 | 2025-06-24 | 威海东兴电子有限公司 | 一种高纯度氧气四塔提纯装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0691925B2 (ja) | 1994-11-16 |
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