JPH024754A - ジフルオロベンゾニトリル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記の式１で示される２、３−ジフルオロベン
ゾニトリルの誘導体に関する：は１．４−シクロヘキシ
レン基であり、ＰＦ２Ｎは、１式中、Ｒは、Ｃ原子１−
１２個を有するアルキル基であり、この基中に存在する
１個または２個のＣＨ，基はまた、２個のｏＷ子が相互
に直接に結合しないものとして、−ｏ−−ｃｏ−−ｏ−
ｃｏ−および（または）−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換え
られていてもよく、そして 簡潔にするために、以下の記載において、ＣｙＣは１．
４−フェニレン基を表わすものとする。

式１で示される化合物は液晶相、特にねじれセルの原則
、ゲスト−ホスト効果、整列相の変形の効果または動的
散乱の効果にもとづく表示体用の液晶相の成分として使
用することができる。

このようなセルのマルチプレックスオペレーションのた
めの重要な基準は、分子軸に対して垂直である誘電定数
に対する誘電定数の異方性の比、すなわち△ε／ε土が
小さいことである［たとえば、Ｇｈａｒａｄｊｅｄａｇ
ｊｉ等によるＲｅｖ、　Ｐｈａｓ。

Ａｐｐｌ、　１１４６７頁（１９７６年）参照］　。

小さい△ε／ε土を得るためには、負の△εを有する慣
用の物質を、正の△εを有する物質と混合する。

しかしながら、正の△εに加えて、強力な横方向双極性
を有する物質を使用するのがよい。

このタイプの一連の液晶化合物は、すでに合成されてお
り、たとえば４−シアノ−２（５）−フルオロフェノー
ルのカルボン酸エステルまたは５−シアノピリジン−２
−イル化合物がある。

しかしながら、この５−シアノピリジン−２−イル化合
物は一般に、たとえば混合物中における貧弱な溶解性、
高粘度、高融点および化学的不安定性などの欠点を宵す
る。さらに、一般に、これらの化合物は高次のスメクテ
イツク相形成傾向を有する。従って、分子軸に対して垂
直である、大きい誘電定数と組合せて、正の誘電異方性
を有し、これにより混合物の性質を全てのタイプの電気
光学用途に対してさらに改善することができる別種の化
合物が求められている。

本発明の目的は、正の誘電異方性、大きい負の横方向双
極性および同時に、低い粘度を有する安定な液晶化合物
またはメソーゲン性化合物を見い出すことにある。

式■で示される化合物が液晶相の成分として、優れて適
することが見い出された。特に、これらの化合物を使用
することにより、広いメソ７エース範囲および比較的低
い粘度を有する安定な液晶相を調製することができる。

式■で示される化合物の製造によって、種々の工業的用
途の観点から、液晶混合物の調製に適する液晶物質の範
囲が、極めて広範にわたって相当に拡大される。

式Ｉで示される化合物は広い用途範囲を有する。これら
の化合物は置換基を選択することにより、液晶相の主要
部分を構成する液晶基材として使用することができる。

しかしながら、式■で示される化合物は別種の化合物か
らなる液晶基材に添加して、たとえばこのような誘電体
の誘電異方性および（または）光学異方性および（また
は）粘度および（または）自発分極および（または）相
範囲および（または）チルト角および（または）ピンチ
を変えることができる。

さらにまた、式Ｉで示される化合物は液晶誘電体の成分
として使用することができる別種の物質を製造するため
の中間体として適している。

式Ｉで示される化合物は純粋な状態で無色であり、電気
光学用途に好ましく位置する温度範囲で液晶メンフェー
スを形成する。これらの化金物は化学的に、熱的に、お
よび光に対して非常に安定である。

従って、本発明は式Ｉで示される化合物に関するもので
ある。

さらにまた、本発明は式■で示される化合物を液晶相の
成分として使用することに関する。

本発明はまた、構造要素として２．３−ジフルオロ−４
−シアノフェニル基を有する化合物、特に式Ｉで示され
る化合物のうちの少なくとも一種を含有する液晶相に関
し、そしてまた、本発明はこのタイプの相を含む液晶表
示素子に関する。このタイプの相は特に有利な弾性定数
を有し、それらの低い△ε／ε１値によって、ＴＰＴ混
合物に特に適している。

従って、式■で示される化合物は下記の部分式Ｉａ〜Ｉ
ｃで示される２環を有する化合物：Ｒ−Ｐｈｅ−ＰＦ２
Ｎ　　　　　　　　　　　　Ｉ　ａＲ−Ｃｙｃ−ＰＦ２
Ｎ　　　　　　　　　　　　Ｉ　ｂＲ−Ｃｙｃ−ＣＨｔ
ＣＨｚ−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　ｃおよび下記の
部分式Ｉｄ−Ｉｈで示される３環を有する化合物： Ｒ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　　Ｉ
　ｄＲ−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　
　Ｉ　ｅＲ−Ｃｙｃ−ＣＨｔＣＨｚ−Ｃｙｃ−ＰＦ２Ｎ
　　　　　　　Ｉ　ｆＲ−Ｃｙｃ−ＣＨ，０−Ｐｈｅ−
ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　Ｉ　ｇＲ−Ｃｙｃ−ＣＨｚＣ
Ｈ２−Ｐｈｅ−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　Ｉ　ｈ本明細書
の全体に記載されている式で示される化合物において、
Ｒは好ましくはアルキルであり、さらにまたアルコキシ
である。

本明細書に記載の式において、Ｒは好ましくは、Ｃ原子
２〜１０個、特に３〜７個を有する。

Ｒ基中に存在する１個または２個のＣＨ，基はまた、置
き換えられていてもよい。好ましくは、１個だけノＣＨ
２基が一〇−１−Ｃ０−または−ＣＨ＝ＣＨ−１特に−
〇−または一〇−ＣＯ−により置き換えられている。

本明細書に記載の式において、Ｒは好ましくはアルキル
、アルコキシまたはもう一種のオキサアルキル基であり
、さらにまた、Ｒはアルキル基であり、この基中に存在
する１個または２個以上のＣＨ，基は２個のへテロ原子
が相互に直接に結合しないものとして、−ｏ−−ｏ−ｃ
ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−により、あるいは２個の適当
な基の組合せにより置き換えられていてもよい基である
。

Ｒがアルキル基であり、この基中に存在する１個のＣＨ
，基がＯＫ子により置き換えられていてもよい場合（「
アルコキシ」または「オキサアルキル」）、あるいはこ
の基中に存在する、隣接していない２個のＣＨ，基がｏ
原子により置き換えられていてもよい場合（［アルコキ
シアルコキシ」または「ジオキサアルキル」）に、この
基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。

好ましくは、この基は直鎖状であり、Ｃ［子２．３．４
．５．６または７個を有し、従って、好ましくは、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル
、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキ
ソキシまたはへメトキシであり、さらにまた、Ｒはメチ
ル、オフ“チル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、メトキ
シ、オクトキシ、ツノキシ、デコキシ、ウンデコキシ、
ドデコキシ、トリデコキシまたはテトラデシルシである
。

オキサアルキルは好ましくは、直鎖状の２−オキシプロ
ピル（−メトキシメチル）、２−（−エトキシメチル）
または３−オキサブチル（＝−２−メトキシエチル）、
２−３−または４−オキサペンチル、２−　３−　４−
または５−オキサヘキシル、２−　３−　４−　５−ま
たは６−オキサヘプチル、２−　３−　４−　５６−ま
たは７−オキサオクチル、２−３４−　５−　６−　７
−または８−オキサノニル、２−　３−　４−　５−　
６−　７一８−または９−オキサデシル、１．３−ジオ
キサブチル（−メトキシメトキシ）、１．３−　１．４
−または２．４−ジオキサペンチル、ｌ、３−１１．４
＝１．５−１２．４−１２，５−または３．５−ジオキ
サヘキシル、あるいはｌ、３−１１．４−　１．５−　
１．６−２．４−１２．５−１２．６−１３．５−１３
，６−または４．６−シオキサヘプチルである。

Ｒがアルキル基であり、この基中に存在する１個のＣＨ
，基が−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられている場合に
、この基は直鎖状または分枝鎖状であることができる。

好ましくは、この基は直鎖状であり、Ｃ［子２〜ＩＯ個
を有する。従って、この基は特に、ビニル、プロプ−１
−または−２−エニル、ブドーｌ−−２−または−３−
工二ル、ベント−１−−２−−３−または−４−エニル
、ヘキス−１−−２−−３−−４−または−５−エニル
、ヘプト−１−２−−３−−４−−５−または−６−エ
ニル、オクト−１−−２−−３−−４−−５−−６−ま
たは−７−エニル、ノン−１一７−または−８−エニル
あるいはデク−１−７−−８−または−９−エニルであ
る。

Ｒがアルキル基であり、この基中に存在する１個の（Ｈ
，基が一〇−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−により置き換え
られている場合に、この基は直鎖状または分校鎖状であ
ることができる。好ましくは、この基は直鎖状であり、
Ｃ原子２〜６個を有する。

従って、この基は特に、アセチルオキシ、プロピオニル
オキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサ
ノイルオキシ、アセチルオキシメチル、プロピオニルオ
キシメチル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキ
シメチル、２−アセチルオキシエチル、２−プロピオニ
ルオキシエチル、２−ブチリルオキシエチル、３−アセ
チルオキシプロピル、３−プロピオニルオキシエチル、
４−アセチルオキシブチル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニルメ
チル、エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニ
ルメチル、ブトキシカルボニルメチル、２−　、（メト
キシカルボニル）エチル、２−（エトキシカルボニル）
エチル、２−（プロポキシカルボニル）エチル、３−（
メトキシカルボニル）プロピル、３−（エトキシカルボ
ニル）プロピルあるいは４−（メトキシカルボニル）ブ
チルである。

分枝鎖状基Ｒを有する式Ｉで示される化合物は慣用の液
晶基材中で良好な溶解性を有することから、時には重要
であるが、これらが光学活性である場合には、カイラル
ドーピング物質として特に重要である。このタイプのス
メクテイツク化合物は強誘電性材料用の成分として適し
ている。

この種の分枝鎖状基は一般に、多くて１個の鎖分校を有
する。好適な分枝鎖状基Ｒ１はイソプロピル、２−ブチ
ル（−１−メチルプロピル）、イソブチル（＝２−メチ
ルプロピル）、２−メチルブチル、インペンチル（−３
−メチルブチル）、２−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、２−エチルヘキシル、２−７’口ピルペンチル
、インプロポキシ、２−メチルプロポキシ、２−メチル
ブトキシ、３−メチルブトキシ、２−メチルペントキシ
、３−メチルペントキシ、２−エチルヘキソキシ、ｌ−
メチルヘキソキシ、■−メチルへブトキシ、２−オキサ
−３−メチルブチル、３−オキサ−４−メチルペンチル
、４−メチルヘキシル、２−ノニル、２−デシル、２−
ドデシル、６−メチルオクトキシ、６−メチルオクタノ
イルオキシ、５−メチルへブチルオキシカルボニル、２
−メチルブチリルオキシ、３−メチルバレリルオキシ、
４−メチルヘキサノイルオキシ、２−クロロプロピオニ
ルオキシ、２−クロロ−３−メチルブチリルオキシ、２
−クロロ−４−メチルバレリルオキシ、２−クロロ−３
−メチルバレリルオキシ、２−メチル−３−オキサペン
チルあるいは２−メチル−３−オキサヘキシルである。

Ｒがアルキル基であり、この基中に存在する２個または
３個以上のＣＨ，基が一〇−および（または）−ＣＯ−
Ｏ−により置き換えられている場合に、この基は直鎖状
または分枝鎖状であることができる。好ましくは、この
基は分枝鎖状であり、ＣｙＫ千３〜１２個を有する。従
って、この基は特に、ビス−カルボキシ−メチル、２．
２−ビス−カルボキシ−エチル、３．３−ビス−カルボ
キシ−プロピル、４．４−ビス−カルボキシ−ブチル、
５．５−ビス−カルボキシ−ペンチル、６，６−ビスカ
ルボキシ−ヘキシル、７，７−ビス−カルボキシ−ヘプ
チル、８．８−ビス−カルボキシ−オクチル、９．９−
ヒス−カルボキシ−ノニル、１０．１０−ビス−カルボ
キシ−デシル、ビス−（メトキシカルボニル）−メチル
、２．２−ビス−（メトキシカルボニル）−エチル、３
．３−ビス−（メトキシカルボニル）−プロピル、４．
４−ビス−（メトキシカルボニル）−ブチル、５，５−
ビス−（メトキシカルボニル）−ペンチル、６．６−ビ
ス−（メトキシカルボニル）−ヘキシル、７．７−ビス
−（メトキシカルボニル）−ヘプチル、８．８−ビス＝
（メトキシカルボニル）−オクチル、ビス−（エトキシ
カルボニル ス−（エトキシカルボニル）−エチル、３．３−ビス−
（エトキシカルボニル）−プロピル、４．４−ビス−（
エトキシカルボニル）−ブチルあるいは５．−５−ビス
−（エトキシカルボニル）−ペンチルである。

末端基Ｒが重縮合に利用するのに適する基である、式Ｉ
で示される化合物は液晶重縮合物の製造に適している。

式Ｉはこれらの化合物のラセミ体および光学対字体の両
方、ならびにその混合物を包含するものとする。

式Ｉおよびまた式Ｉａ−Ｉｅで示される化合物の中で、
その分子中に含まれる基のうちの少なくとも一つが上記
の好ましい意味のうちの一つを有する化合物は好ましい
化合物である。

式Ｉで示される好ましい化合物のうちの狭い群は下記の
部分式１１−Ｉ２３で示される：アルキルーＰｈｅ　−
　ＰＦ２Ｎ アルコキシ−Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎ アルカノイルオキシ−Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎアルコキシ
カルボニル−Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎアルキル−Ｃｙｃ　
−　ＰＦ２Ｎ アルコキシ−Ｃｙｃ　−　ＰＦ２Ｎ アルカノイルオキシ−Ｃｙｃ　−　ＰＦ２Ｎアルコキシ
カルボニル−Ｃｙｃ　−　ＰＦ２Ｎアルキル−Ｃｙｃ　
−　ＣＨ２Ｃｌ，　−　ＰＦ２Ｎアルコキシ−Ｃｙｃ　
　ＣＨｚＣＨｚ−ＰＦ２Ｎアルカノイルオキシ−Ｃｙｃ
　　ＣＨ２ＣＨ２　　ＰＦ２Ｎアルコキシカルボニル−
Ｃｙｃ　　ＣＨｚＣＨｚ　　ＰＦ２Ｎアルキル−Ｐｈｅ
　−　Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎアルコキシ−Ｐｈｅ　−　
Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎアルカノイルオキシ−Ｐｈｅ　−
　Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎアルコキシカルボニル−Ｐｈｅ
　−　Ｐｈｅ　−　ＰＦ２Ｎアルキル−Ｃｙｃ　−　Ｃ
ｙｃ　−　ＰＦ２Ｎアルコキシ−Ｃｙｃ　−　Ｃｙｃ　
−　ＰＦ２Ｎアルカノイルオキシ−Ｃｙｃ　−　Ｃｙｃ
　−　ＰＦ２Ｎアルコキシカルボニル−Ｃｙｃ　−　Ｃ
ｙｃ　−　ＰＦ２Ｎｔ 工２ Ｉ３ Ｉ６ 工９ ｌ１ アルキル−Ｃｙｃ−ＣＨ，ＣＨ，−Ｃｙｃ−ＰＦ２Ｎ　
　　　　　　　Ｉ　２１アルキル−Ｃｙｃ−ＣＨ＊Ｏ−
Ｐｈａ−ＰＦ２Ｎ　　　　　　　　　Ｉ　２２アルキル
−Ｃｙｃ　−　ＣＨｔＣＪ　−　Ｐｈｅ　　ＰＦ２Ｎ　
　　　　　　　ｒ　２３式Ｉで示される化合物は文献〔
たとえばＨｏｕｂｅｎ−ＷｅｙｌによるＭｅｔｈｏｄｅ
ｎ　ｄｅｒ　ＯｒｇａｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍｉｅ（Ｇ
ｅｏｒｇ−Ｔｈｉｅｎ＋ａ出版社、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ
市）のような標準的学術書〕に記載されているようなそ
れ自体既知の方法により、特に、あげられている反応に
適する既知の反応条件の下で製造することができる。こ
の場合に、それ自体既知であって、ここでは詳細に説明
されていない変法をも使用することもできる。

所望により、原料化合物はまた、これらを反応混合物か
ら単離すぜに、直ちに、さらに反応させて、式Ｉで示さ
れる化合物を生成するような方法で、その場で生成する
こともできる。

式Ｉで示される化合物は好ましくは、下記の式■で示さ
れる化合物から製造する： 式■で示されるホルミル化合物はそれ自体既（式中、Ｒ
およびＡは前記の意味を有し、そしてｘはＨ，ＣＬ　Ｃ
ＨＯまたはＣ０ＯＨ”Ｃ’ある）。

式■で示されるジフルオロベンゼン誘導体（式中、Ｘ−
Ｈ）は有機金属化合物または塩基系を用いて、それ自体
既知の方法で脱プロトン化させることができる〔この方
法は、たとえばＡ、　Ｍ、　Ｒｏｅ等によるＪ、　Ｃｈ
ｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍｍ。

化、５８２　（１９６５）に記載の方法による〕。

相当するリチウム化合物はジメチルホルムアミドまたは
Ｎ−ホルミルピペリジンのようなホルムアミドを使用し
てホルミル化することができ、（Ｘ　−ＣＨＯ）　、あ
るいは二酸化炭素を使用してカルボキシル化することが
でき、（Ｘ　−ＣＯＯＨ）、あるいはシアノゲンクロラ
イドまたはシアノゲンブロマイドを使用して直接反応さ
せることができ、式Ｉで示される化合物を生成すること
ができる。

知の方法で、式１で示されるニトリル化合物に変換する
ことができる〔たとえばＪ、　５ｔｒｅｉｔｈ等による
Ｈｅ１ｖ、　Ａｃｔａ　５９．２７８６　（１９７６）
に記載の方法による〕。

適当な有機金属化合物は特に、有機リチウム化合物、た
とえばテトラヒドロフラン、ジオキサンまたはｊｅｒｋ
−ブチルメチルエーテルのようなエーテル、ヘキサン、
ベンゼンまたはトルエンのような炭化水素、あるいはこ
れらの溶媒の混合物のような不活性溶媒中のｎ　−ｔｅ
ｒｔ−または５ｅｃ−ブチルリチウムあるいはメチルリ
チウムなどである。好ましくは、錯化剤、たとえばテト
ラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）のようなアミ
ン、あるいはヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＴ
）またはＮ、Ｎ−ジメチルプロピレン尿素（ＤＭＰＨ）
のようなアミドを、これらの溶媒に添加することができ
る。

通常、反応温度は一１２０°Ｃ〜−１Ｏ℃、好ましくは
一１００℃〜−５０°Ｃである。

これらの温度において、脱プロトン反応は、一般に１−
１０時間後に完了する。

さらにまた、式Ｉで示される化合物は好ましくは、有機
チタンまたは有機アニン化合物を４−フロモ（クロロ）
−２，３−ジフルオロベンゾニトリル化合物と金属触媒
の存在の下で反応させることにより製造する（この方法
については、たとえばＤＥ　３，７３６．４８９および
ＤＥ　３．６３２．４１０を参照できる）。

式Ｉで示される化合物はまた、式１において、ＨＩＭ子
の代りに、１個または２個以上の還元可能な基および（
または）Ｃ−Ｃ結合を有する相当する化合物を還元する
ことにより製造することができる。

使用できる還元可能な基は好ましくは、カルボニル基、
特にケト基であり、さらにまた、たとえば遊離のまたは
エステル化されているヒドロキシル基あるいは芳香族に
結合しているハロゲン原子である。この還元に好適な原
料化合物は式Ｉにおいて、シクロヘキサン環の代りに、
シクロヘキセン環またはシクロヘキサノン環を有するこ
とができ、そして（または）−ＣＨ２ＣＨｚ−基の代り
に−ＣＨ＝ＣＨ−基を有することができ、そして（また
は）　−Ｃ１，−基の代りに−Ｃ〇−基を含有でき、そ
して（または）Ｈ原子の代りに遊離のまたは官能性に変
えられている（たとえばそのｐ−トルエンスルホネート
の形の）　ＯＨ基を有することができる相当する化合物
である。

還元は、たとえば約θ°〜約２００°の温度で、約１〜
２００バールの圧力下に、不活性溶媒、たとえばメタノ
ール、エタノールまたはインプロパツールのようなアル
コール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）またはジオキサ
ンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステル、酢
酸のようなカルボン酸あるいはシクロヘキサンのような
炭化水素中で接触水素添加により、行なうことができる
。適当な触媒は好ましくは、ＰｔまたはＰｄのような貴
金属であり、これらは酸化物の形で（たとえばＰｔＯ，
またはＰｄ０）　、支持体上で（たとえば木炭、炭酸カ
ルシウムまたは炭酸ストロンチウム上のＰｄ）、あるい
は微粉砕された形で使用することができる。

ケトン化合物はまた、Ｃｌｅｍｍｅｎｓｅｎの方法（こ
の方法では、アニン、アニンアマルガムまたはスズと塩
酸とを、好ましくは水性−アルコール性溶液中または水
／トルエンを用いる不均質相系中で、約８０〜１２０°
の温度で使用する）、あるいはＷｏｌｆ　ｆ　−Ｋ１５
ｈｎｅｒの方法（この方法では、ヒドラジンを、好まし
くはＫＯＨまたはＮａＯＨのようなアルカリの存在の下
で、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリコー
ルのような高沸点溶媒中において、約１００〜２００°
の温度において使用する）により還元でき、アルキル基
および（または）−ＣＨｚ（Ｊｌｉ−架橋を有する式Ｉ
で示される相当する化合物を生成することができる。

さらにまた、複合水素化物を用いる還元をまた使用する
ことができる。−例として、アリールスルホニルオキシ
基はＬｉＡｆｆＨ，を用いて還元的に分離でき、特に、
ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル基は、好ましくは
ジエチルエーテルまたはＴＨＦのような不活性溶媒中で
、約０〜１００’の温度において、メチル基に還元する
ことができる。二重結合は（ＣＮ基が存在していても）
、メタノール中でＮａＢＨ、またはトリブチル−スズ水
素化物を用いて水素添加することができる。

式Ｉで示されるニトリル化合物を製造するためには、相
当する酸アミド化合物を脱水させることができる。この
アミド化合物は、たとえば相当するエステル化合物また
は酸ハライド化合物からアンモニアとの反応により得ら
れる。適当す脱水剤の例には、５ＯＣＩ２２、ｐｃａ　
、、ｐｃＱ、、ｐｏｃＩ２．、ｓｏ、ｃＱ、、またはＧ
ＯＣｆ：にのような無機酸クロライドおよびまたＰ２Ｏ
３、ｐ、ｓいＡＱＣＱ３にの化合物は、たとえばＮａＣ
Ｑとの複合化合物として使用する）、芳香族のスルホン
酸およびスルホニル酸ハライドがある。この場合に、反
応は不活性溶媒の存在の下で、または不存在下に、約０
゜〜１５０°の温度で行なうことができる。使用でる溶
媒の例には、ピリジンまたはトリエチルアミンのような
塩基、ベンゼン、トルエンまたはキシレンのような芳香
族炭化水素、あるいはＤＭＦのようなアミドがある。

式Ｉで示される前記ニトリル化合物を製造するためには
、また相当する酸ハライド化合物、好ましくはクロライ
ドをスルファミドと、好ましくはテトラメチレンスルホ
ンのような不活性溶媒中で、約８０°〜１５０°の温度
、好ましくは１２０°において反応させることができる
。通常の方法で仕上げ処理した後に、ニトリル化合物を
直接に単離することができる。

本発明による液晶メジウムは、本発明による化合物の一
種または二種以上に加えて、好ましくはさらに別の成分
として、２〜４０種、特に４〜３０種の成分を含有する
。これらのメジウムは非常に特に好ましくは、以上に加
えて本発明による化合物の一種または二種７〜２５種の
成分を含有する。これらの追加の成分は好ましくは、ネ
マティックまたはネマトゲニツク（単変性または等方性
）物質、特にアゾキシベンゼン化合物、ベンジリデンア
ニリン化合物、ビフェニル化合物、ターフェニル化合物
、フェニルまたはシクロへキシルベンゾエート化合物、
フェニルまたはシクロへキシルシクロヘキサンカルボキ
シレート化合物、シクロヘキシル安息香酸の７エ二ルま
たはシクロヘキシルエステル化合物、シクロヘキシルシ
クロヘキサンカルボン酸のフェニルまたはシクロヘキシ
ルエステル化合物、安息香酸のシクロヘキシルフェニル
エステル化合物、シクロヘキサンカルボキン酸のシクロ
へキシルフェニルエステル化合物、シクロヘキシルシク
ロヘキサンカルボン酸のシクロへキシルフェニルエステ
ル化合物、フェニルシクロヘキサン化合物、シクロへキ
シルビフェニル化合物、フェニルシクロへキシルシクロ
ヘキサン化合物、シクロへキシルシクロヘキサン化合物
、シクロへキシルシクロヘキセン化合物、シクロへキシ
ルシクロへキシルシクロヘキセン化合物、１．４−ビス
−シクロヘキシルベンゼン（ｌ物、４．４’−ビス−シ
クロへキシルビフェニル化合物、）ユニルーまたはシク
ロヘキシルピリミジン化合物、フェニル−またはシクロ
へキシルジオキサン化合物、フェニル−またはシクロへ
キシル−１，３−ジチアン６化合物、１．２−ジフェニ
ルエタン化合物、１．２−ジシクロヘキシルエタン化合
物、ｌ−フェニル−２−シクロヘキシルエタン化合物、
■−シクロへキシル−２−（４−フェニルシクロヘキシ
ル）−エタン化合物、１−シクロへキシル−２−ビフェ
ニルエタン化合物、ｌ−フェニル−２−シクロへキシル
フェニルエタン化合物、場合によりハロゲン化されてい
るスチルベン化合物、ベンジルフェニルエーテル化合物
、トラン化合物および置換されているケイ皮酸化合物の
群から選択される。

本発明によるメジウムの別種の成分として適する最も重
要な化合物は次式１，２．３．４および５で示すことが
できる特徴を有する：Ｒ’−Ｌ−Ｅ−Ｒ′１ Ｒ’　−Ｌ−Ｃｏｏ−Ｅ−Ｒ“　　　　　　　　　２Ｒ
’−Ｌ−００Ｃ−Ｅ−Ｒ“　　　　　　　　　　　　　
　３Ｒ’−Ｌ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｅ−Ｒ“　　　　　　　
　　　　４Ｒ’−Ｌ−ＣミＣ−Ｅ−Ｒ“　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　５式１１式２、式３、
式４および式５において、ＬおよびＥは同一または異な
ることができ、相互に独立して、それぞれ、−Ｐｈｅ−
１−Ｃｙｃ−１−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ
−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｐｙｒ−１−Ｄｉｏ−１−
Ｇ−Ｐｈｅ−および−〇−Ｃｙｃ−ならびにそれらの鏡
像基からなる群に属する二価の基であり、Ｐｈｅは１，
４−フェニレンであり、この基は非置換であるか、また
はフッ素で置換されており、ＣｙＣはトラン７！、　−
１，４−シクロヘキシレンまたは１．４−シクロヘキセ
ニレンであり、Ｐｙｒはピリミジン−２，５−ジイルま
たはピリジン−２，５−ジイルであり、Ｄｉｏは１．３
−ジオキサン−２，５−ジイルであり、モしてＧは２−
（トランス−１，４−シクロヘキシル）−エチル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイルま
たは１，３−ジオキサン−２，５−ジイルである。

好ましくは、基りおよび基Ｅのうちの一つはＣｙｃ、・
ＰｈｅまたはＰｙｒである。Ｅは好ましくは、Ｃｙｃ、
　ＰｈｅまたはＰｈｅ−Ｃｙｃである。

本発明によるメジウムは好ましくは、式１１２．３．４
および５において、その分子中に存在する基りおよび基
ＥがＣｙｃＳＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ばれ
る相当する化合物から選択される成分の一種または二種
以上と、同時に、式１，２．３．４および５において、
その分子中に存在する基りおよび基Ｅのうちの一つがＣ
ｙｃＳＰｈｅおよびＰｙｒからなる群から選ばれ、そし
て基りおよび基Ｅのうちの他の一つが−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ
−１−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｇ−
Ｐｈｅ−および−Ｇ−Ｃｙｃ−からなる群から選ばれる
相当する化合物から選択される成分の一種または二種以
上および所望により、式１，２．３．４および５におい
てその分子中に存在する基りおよび基Ｅが−Ｐｈｅ−Ｃ
ｙｃ−１−Ｃｙｃ−Ｃｙｃ−１−Ｇ−Ｐｈｅ−および−
〇−Ｃｙｃ−からなる群から選ばれる相当する化合物か
ら選択される成分の一種または二種以上を含有する。

部分式１ａｘ　２ａ、３ａｓ　４ａｓおよび５ａで示さ
れる化合物においてはＲ′およびＲ＃は相互に独立して
、それぞれ、８個までの炭素原子を有するアルキル、ア
ルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシまたはアルカ
ノイルオキシである。これらの化合物の大部分において
　Ｒ／およびＲ′は相互に異なっており、これらの基の
一つは、通常、アルキルまたはアルケニルである。

部分式１ｂ、２ｂ、３ｂ、４ｂおよび５ｂで示される化
合物においては、Ｒ＃は−ＣＮ、−ＣＦ、、Ｆｌ・ＣＱ
または−ＮＣ３であり、この場合に、Ｒ′は部分式１ａ
〜５ａで示される化合物について前記した意味を有し、
好ましくはアルキルまたはアルケニルである。しかしな
がら、式１．２．３．４および５で示される化合物にお
いて提案されているその他の種々の置換基はまた慣用で
ある。

かなりのこのような物質またはその混合物は市販されて
いる。これらの物質の全部は文献から既知の方法により
またはその類似方法により得ることができる。

本発明によるメジウムは、化合物１１％２１％３ａ、４
ａおよび５ａからなる群（群ｌ）からの成分に加えて、
好ましくは化合物１ｂ、２ｂ。

３ｂ１４ｂおよび５ｂからなる群（群２）からの成分を
含有し、その割合は好ましくは、下記のとおりであり： 群１：２０〜９０％、特に、３０〜９０％群２：１０〜
８０％、特に、１０〜５０％そして本発明による化合物
と群ｌおよび群２からの化合物との割合の合計は１００
％までである。

本発明によるメジウムは好ましくは、本発明による化合
物を１〜４０％特に好ましくは、５〜３０％含有する。

本発明による化合物を４０％より多い量、特に４５〜９
０％の量で含有するメジウムはまた、好ましい本発明に
よるメジウムは好ましくは三種、四種または三種の本発
明による化合物を含有する。

本発明によるメジウムの調製はそれ自体慣用の方法で行
なう。一般に、諸成分を相互に、好ましくは高められた
温度で溶解させる。本発明による液晶相は適当な添加剤
を使用することにより、これらを従来開示されているタ
イプの全部の液晶表示素子で使用できるように変性する
ことができる。

このような添加剤は当業者にとって既知であり、文献（
Ｈ，Ｋｅｌｋｅｒ／Ｒ，ＨａｔｚによるＨａｎｄｂｏｏ
ｋｏｆ　１ｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌｓ、　Ｖｅｒｌ
ａｇ　Ｃｈｅｍｉｅ、　Ｗｅｉｎ−ｈｅｉｍＳ１９８０
年）に詳細に記載されている。たとえば、着色ゲスト−
ホスト系を生成するために多色性染料を添加でき、ある
いは誘電異方性、粘度および（または）ネマティック相
の配向を変えるための物質を添加することができる。

次側は本発明を制限することなく、説明するためのもの
である。ｍ、　ｐ、−融点であり、ｃ、　ｐ。

＝透明点である。本明細書全体を通して、パーセンテー
ジは重量によるパーセンテージである。

全ての温度は摂氏度で示すものである。

「慣常の方法で仕上げる」の用語は次の意味を有するも
のとする：水を加え、混合物を塩化メチレンで抽出し、
有機相を分離し、乾燥させ、次いで蒸発させ、生成物を
結晶化および（または）クロマトグラフィにより精製す
る。

さらにまた、Ｃは結晶一固体状態であり、Ｓはスメクテ
イツク相（インデックスは相のタイプの特徴を示す）で
あり、Ｎはネマティック状態であり、Ｃｈはコレステリ
ック相であり、そしてＩは等方性用である。二種の記号
間の数字は転移温度を摂氏度で示すものである。

例　　１ ４−アルキル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニレン化合物の製造 ａ）ｌ−（４−ペンチルシクロへキス−１−エニル）−
２，３−ジフルオロベンゼン ヘキサン３２０ｍＱ中のｎ−ブチルリチウム０．５２５
モルの溶液を一７８℃で、ｌ、２−ジフルオロベンゼン
０．５モルとテトラヒドロフラン１０００ｍ１２とテト
ラメチルエチレンジアミン０．５モルとの混合物に加え
る。−６０°Ｃで３時間撹拌した後に、テトラヒドロフ
ラン１００ｍＱに溶解した４−ペンチルシクロへキサノ
ン０．５２５モルを滴下して加え、混合物を室温まで、
ゆっくり温める。中和した後に得られたアルコール生成
物を精製することなく、トルエン２５０ｍ（ｌ中に溶解
し、水分離器を用いて、ｐ−１’ル工ンスルホン酸２ｇ
と３時間過熱する。

慣用の方法で仕上げ、１−（４−ペンチルシクロへキス
−１−エニル）　−２，３−ジフルオロベンゼンを得る
、沸点：１２３°Ｃ１０，５トール。

同様に、原料化合物として、４−（４−プロピルフェニ
ル）−シクロヘキサノンを使用して、１−（４−（４−
７’口ピルフェニル）−シクロへキス−１−エニル）−
２，３−’；フルオロベンゼンが得られる。

ｂ）４−（４−ペンチルシクロへキス−１−ユニル）　
−２，３−ジフルオロベンズアルデヒド テトラヒビ０フラン２０ｍＱ中のＮ−ホルミルピペリジ
ン０．１２モルを一７０°Ｃで、４−（４−ペンチルシ
クロへキス−１−エニル）−２，３−ジフルオロフェニ
ルリチウム０．１モル（この化合物は例１ａ）と同様に
して、テトラヒドロフラン／テトラメチルエチレンジア
ミン中でｎ−ブチルリチウムを用いて、ベンゼン化合物
から製造される）に加え、混合物を１時間をかけて一２
０℃に温める。酸性にし、次いで慣用の方法で仕上げ、
標題のアルデヒド生成物を得る。

ｃ）４−（４−ペンチルシクロへキス−１−エニル）−
２，３−ジフルオロベンゾニトリルヒドロキシルアミン
−〇−スルホン酸０．１２モルと水５０ｍｆｆとの混合
物を３０　’Ｏで、上記アルデヒド化合物０．１モルと
水１００ｍｆｆとの混合物に加える。

室温で１時間撹拌した後に、混合物を２時間、６５°Ｃ
に温める。冷却させ、次いで慣用の方法で仕上げ、標題
のニトリル生成物を白色固形物として得る。

ｄ）　　２．３−ジクロロ−５，６−ジシアツベンゾキ
ノン（ＤＤＯ）を使用する酸化 例１ｃ）からのシクロヘキセン誘導体０．１モルとトル
エン２００＋ＩＩ＋２との混合物にＤＤＱ　０．２モル
を加え、混合物を２時間、加熱沸とうさせる。冷却させ
、次いで慣用の方法で仕上げ処理し、４−ペンチル−４
′−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニルを得る
。

同様にして、下記の化合物を製造する：４−エチルー４
′−シアノー２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−プロピル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−ブチル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロビ
フェニル ４−へキシル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−へブチル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−オクチル−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−エトキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−プロポキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオ
ロビフェニル ４−ブトキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロ
ビフェニル ４−ペントキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオ
ロビフェニル ４−ヘキソキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオ
ロビフェニル ４−へブトキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオ
ロビフェニル ４−才クトキシ−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオ
ロビフェニル ４“−エチル−４−シアノ−２，３−ジフルオロターフ
ェニル ４“−プロピル−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４“−ブチル−４−シアノ−２，３−ジフルオロターフ
ェニル ４“−ペンチル−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４“−へキシル−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４＃−へブチル−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４“−オクチル−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４“−エトキシ−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４“−プロポキシ−４−シアノ−２，３−ジフル才口タ
ーフェニル ４“−ブトキシ−４−シアノ−２，３−ジフルオロター
フェニル ４“−ペントキシ−４−シアノ−２，３−ジフルオロタ
ーフェニル ４“−ヘキソキシ−４−シアノ−２，３−ジフルオロタ
ーフェニル ４″−へブトキシ−４−シアノ−２，３−ジフルオロタ
ーフェニル ４″−才クトキシ−４−シアノ−２，３−ジフルオロタ
ーフェニル ４−　（トランス−４−エチルシクロヘキシルメトキシ
）−４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−　（１−ランス−４−グロビルシクロへキシルメト
キシ）−４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェ
ニル ４−　（トランス−４−ブチルシクロへキシルメトキシ
）−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシルメトキシ
）−４′−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−（トランス−４−ヘキシルシクロへキシルメトキシ
）−４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニル ４−　（ト５ンスー４−へブチルシクロへキシルメトキ
シ）−４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル ４−　（トランス−４−オクチルジシクロへキシルメト
キシ）−４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェ
ニル １−（４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）　−２−（１−ランス−４−二チルンク
口ヘキシル）−エタン １−（４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−２−（トランス−４−プロピルシクロ
ヘキシル）−エタン １−（４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−２−（トランス−４−ブチルシクロヘ
キシル）−エタン １−（４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル’）−２−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−エタン １−（４’−シアノ−２’　、３’−ジフルオロビフェ
ニル−４−イル’）　−２−（１−ランス−４−ヘキシ
ルシクロヘキシル）−エタン １−（４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）−２−（トランス−４−へブチルシクロ
ヘキシル）−エタン １−（４’−シアノ−２’、３’−ジフルオロビフェニ
ル−４−イル）　−２−（１−ランス−４−オクチルシ
クロヘキシル）−エタン 例　　２ ４−シクロへキシル−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル化合物の製造 ４−（４−ペンチルシクロへキス−１−ユニル）−２，
３−ジフルオロベンゾニトリル０．１モル（この化合物
は例１ａ）−１ｃ）に従って製造する）、パラジウム／
活性炭（１％）　１．０ｇおよびトルエン１５０ｍ（２
の混合物を室温で飽和するまで水素添加する。濾過し、
溶媒を除去した後に、残留物をジメチルスルホキシド１
５０ｍｆｆに溶解し、カリウムｔａｒｔ−ブトキシド１
２ｇを加え、混合物を室温で２時間撹拌する。酸性にし
、次いで慣用の方法で仕上げ、４−（）ランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリルを得る。

同様にして、下記の化合物を製造する＝４−（トランス
−４−エチルシクロヘキシル）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２，
３−ジフルオロベンゾニトリル４−（１−ランス−４−
ブチルシクロヘキシル）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（トランス−４−へキシルシクロヘキシル）−２
，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（）ランス−４−
へブチルシクロヘキシル）−２，３−ジフルオロベンゾ
ニトリル４−　（１−ランス−４−オクチルシクロヘキ
シル）−２，３−ジフルオ口ベンゾニトリル４−（１−
ランス−４−エトキシシクロヘキシル）−２，３−ジフ
ルオロベンゾニトリル４−（トランス−４−プロポキシ
シクロヘキシル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル
４−　（トランス−４−ブトキシシクロヘキシル）　−
２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（トランス−４
−ベントキシシクロヘキシル）−２，３−ジフルオロベ
ンゾニトリル４−（）ランス−４−ヘキソキシシクロヘ
キシル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル４−（ト
ランス−４−へブトキシシクロヘキシル）−２，３−ジ
フルオロベンゾニトリル４−（トランス−トランス−４
−エチルビシクロへキシル−４′−イル）−２，３−ジ
フルオロベンゾニトリル ４−（トランス−トランス−４−プロピルビシクロへキ
シル−４′−イル）−２，３〜ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（トランス−トランス−４−ブチルビシクロへキ
シル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−（１−ランス−トランス−４−ペンチルビシクロへ
キシル−４′−イル）２．３−ジフルオロベンゾニトリ
ル ４−　（トランス−トランス−４−へキシルビシクロへ
キシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−　（トランス−トランス−４−へブチルビシクロへ
キシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンゾニト
リル ４−（トランス−トランス−４−オクチルビシクロへキ
シル−４′−イル）−２，３−’；フルオロベンゾニト
リル ４−〔トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘ
キシルエチル）シクロヘキシル〕２．３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−〔トランス−４−（トランス−４−プロビルジ久ロ
ヘキシルエチル）シクロヘキシルクー２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−〔トランス−４−（トランス−４−ブチルシクロヘ
キシルエチル）シクロヘキシル〕２．３−ジフルオロベ
ンゾニトリル ４−〔トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシルエチル）シクロヘキシル〕−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−〔トランス−４−（トランス−４−ヘキシルシクロ
ヘキシルエチル）シクロヘキシル〕−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−〔トランス−４−（トランス−４−ヘプチルシクロ
ヘキシルエチル）シクロヘキシル〕−２，３−ジフルオ
ロベンゾニトリル ４−〔トランス−４−（トランス−４−オクチルシクロ
ヘキシルエチル）シクロヘキシル〕２．３−ジフルオロ
ベンゾニトリル 例　　３ ４−　［２−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル
）−エチル］　−２，３−ジフルオロベンゾニトリル化
合物の製造 ａ）ｌ−（２，３−ジフルオロフェニル）−２トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル）−エタン ヘキサンＬ３０ｍＱ中のｎ−ブチルリチウム０．２１モ
ルの溶液を一１００℃で、１．２−ジフルオロベンゼン
０，２５モル、カリウムＬｅｒｔ−ブトキシド０．２０
モルおよびテトラヒドロフラン２００＋Ｑの混合物に加
える。１０分間撹拌した後に、この混合物に、２−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル−二チルヨーダイ
ド０．２モル、ジメチルアミノプロピレン尿素０．２モ
ルおよびテトラヒドロフラン５０ｍＱの混合物を一９０
°Ｃで加える。−４０°Ｃで１時間撹拌し、次いで慣用
の方法で仕上げ、１３５°Ｏ１０．５トールの沸点を有
する標題のエタン誘導体を得る。さらにまた、副生成物
として、Ｃ　６４°Ｏ　Ｎ　１０６．７°■を有する、
少量の１．４−ジー（２−トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）−エチル）−２．３−ジフルオロベンゼン
が得うれる。

ｂ）　　４−［２−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）−エチル］−２．３−ジフルオロベンゾニトリ
ル。

ａ）のエタン誘導体０．１モルを例１ａ）と同様にして
、脱プロトン化し、例１ｂ）に従いホルミル化し、次い
で例１ｃ）に従い、ヒドロキシルアミン−〇−スルホン
酸０．１２モルと反応させる。慣用の方法で仕上げ処理
し、標題のニトリル化合物を無色の固形物として得る、
Ｃ３８°Ｎ　（ｔ６．３’）同様にして、下記の化合物
を製造する：４−　（２−（トランス−４−エチルシク
ロヘキシル）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニ
トリル ４−　（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル
）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（１−ランス−４−ブチルシクロヘキシル
）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（１−ランス−４−ヘキシルシクロヘキシ
ル）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−へブチルシクロヘキシル
）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル
）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−エトキシシクロヘキシル
）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（）ランス−４−プロポキシシクロヘキシ
ル）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−ブトキシシクロヘキシル
）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−ペントキシシクロヘキシ
ル）−エチル）−２，’３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（）ランス−４−ヘキソキシシクロヘキシ
ル）−エチル）−２，３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−ヘプトキシシクロヘキシ
ル）−エチル）−２’、３−ジフルオロベンゾニトリル ４−　（２−（トランス−４−オクトキシシクロヘキシ
ル）−エチル）　−２，３−ジフルオロベンゾニトリル 例　　４ ４−アルキル−２’、３’−ジフルオロ−４′−シアノ
ビフェニレン化合物の製造 テトラヒドロ７ラン２０ｍｒｌ中のクロロトリインプロ
ピルオルトチタネート０．１モルを５℃において、ｌ−
ブロモマグネシウム−４−プロピルベンゼン（この化合
物は４−グロビループロモベンゼン０．１モルおよびマ
グネシウム０．１モルから製造される）とテトラヒドロ
フラン９０ｍ（ｌとの混合物に加え、混合物を５°〜２
０℃で３０分間撹拌する。この混合物に、ビス−（トリ
フェニルホスフィン）−ニッケル（ＩＩ）クロラド１．
３ｇと０．１モル（この化合物はｌ−１−リメチルシリ
ル２．３−ジフルオロベンゼンから例１ａ）〜ｌｃ）と
同様にしてニトリルに変換し、引続いて、臭素で臭素化
し、この間、生成するトリメチルシリルブロマイドを留
去することによって製造される）との混合物を加える。

室温で２４時間撹拌し、次いで慣用の方法で仕上げ、４
−プロピル２’、３’−ジフルオロ−４′−シアノビフ
ェニルを得る。

同様にして、下記の化合物を製造する：４−エチルー２
’、３’−ジフルオロ−４′−シアノビフェニル ４−ブチル−２’、３’−ジフルオロ−４′−シアノビ
フェニル ４−ペンチル−２’、３’−ジフルオロ−４′−シアノ
ビフェニル ４−へキシル−２’、３’−ジフルオロ−４′−シアノ
ビフェニル ４−へブチル−２’、３’−ジフルオロ−４′−シ４−
ブロモ−２，３−ジフル才口ペンゾニトリルアノビフェ
ニル ４−オクチル−２’、３’−ジフルオロ−４′−シアノ
ビフェニル 例　　Ａ ２．３−ジフルオロ−４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシルエチル）−ベンゾニトリル１５％、 ２．３−ジフルオロ−４−（トランス−４−ブチルシク
ロヘキシルエチル）−ベンゾニトリル１５％、 ２．３−ジフルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシ
クロヘキシルエチル）−ベンゾニトリルｌＯ％、 トランス−４−プロピルシクロヘキシルトランス− シレート　９％、 トランス−４−ペンチルシクロヘキシルトランス−４−
７’口ピルシク口ヘキサンー力ルポキシレート　９％、 ｐ−プロピルフェニルトランス−４−　Ｃトランス−４
−プロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサン−カルボ
キシレート　６％、 ｐ−ペンチルフェニルトランス−４−　（）ランス−４
−プロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサン−カルボ
キシレート　６％、 ｐ−ペンチルフェニルトランス−４−　（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−シクロヘキサン−カルボキ
シレート　６％、 ｐ−プロピルフェニルトランス−４−（トランス−４−
ブチルシクロヘキシル）−シクロヘキサン−カルボキシ
レート　６％、 ｐ−トランス−４−プロピルシクロへキシルフェニルト
ランス−４−ブチルシクロヘキサンカルボキシレート　
６％、 ｐ−ト５ンスー４ープロピルシクロへキシルフェニルト
ランス−４−ペンチルシクロヘキサン−カルボキシレー
ト　６％、 ４、４′−ビス−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）−２−フルオロビフェニル　３％および ４−　（）ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４
’−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２−
フルオロビフェニル　３％よりなるネマティック液晶混
合物を製造する。

例　　Ｂ ｐ−１−ランス−４−プロピルシクロへキシル−ベンゾ
ニトリル　１５％、 ４−エチル−２’，３’−ジフルオロ−４′−シアノビ
フェニル　８％、 ４−プロピル−２’．３’−ジフルオロ−４′−シアノ
ビフェニル　７％、 ４−ブチル−２’，３’−ジフルオロ−４′−シアノビ
フェニル　８％、 ｐ−メトキシフェニルトランス−４−プロピルシクロヘ
キサンカルボキシレート　５％、ｐ−エトキシフェニル
トランス−４−プロピルシクロヘキサンカルボキシレー
ト ｐ−メトキシフェニルトランス−４−プロルシクロヘキ
サンカルボキシレート　５％、ｐ−エトキシフェニルト
ランス−４−ブチルシクロヘキサンカルボキシレート　
４％、ｐ−エトキシフェニルトランス−４−ペンチルシ
クロヘキサンカルボキシレート　４％、ｐ−メトキシフ
ェニルトランス−４−ペンチルシクロヘキサンカルボキ
シレート　４％、ｐ−プロピルフェニルトランス−４−
　（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−シクロ
ヘキサンカルボキシレート　６％、 ｐ−ペンチルフェニルトランス−４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）−シクロヘキサンカルボキシ
レート　６％、 ｐ−ペンチルフェニルトランス−’４−（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−シクロヘキサンカルボキシ
レート　５％、 ｐ−プロピルフェニルトランス−４−　（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−シクロヘキサンカルボキシ
レート　５％、 ｐ−プロピルフェニルｐ−トランス−４−プロピルシク
ロへキシルベンゾエート８％および ｐ−プロピルフェニルｐ−トランス−４−ペンチルシク
ロへキシルベンゾエート ６　％ よ りなるネマテイ ツタ液晶混合物を特徴する

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ I ［式中、Ｒは、Ｃ原子１〜１２個を有するアルキル基で
   あり、この基中に存在する１個または２個のＣＨ＿２基
   はまた、２個のＯ原子が相互に直接に結合しないものと
   して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−および（または
   ）−ＣＨ＝ＣＨ−により置き換えられていてもよく、そ
   して Ａは▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式
   、表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼である］ で示される２，３−ジフルオロベンゾニトリルの誘導体
   。
2. （２）式 I で示される化合物を成分として含有する液
   晶相。
3. （３）少なくとも二種の液晶成分を含有する液晶相であ
   って、少なくとも一種の成分が構造要素として、４−シ
   アノ−２，３−ジフルオロフェニル基を含有することを
   特徴とする液晶相。
4. （４）少なくとも一種の成分が式 I で示される化合物
   であることを特徴とする請求項３に記載の液晶相。
5. （５）請求項３または４に記載の液晶相を含有すること
   を特徴とする液晶表示素子。
6. （６）請求項３または４に記載の液晶相を誘電体として
   含有することを特徴とする、請求項５に記載の電気光学
   表示素子。