JPH0248081A - セメント賦形体の化粧方法 - Google Patents
セメント賦形体の化粧方法Info
- Publication number
- JPH0248081A JPH0248081A JP20090988A JP20090988A JPH0248081A JP H0248081 A JPH0248081 A JP H0248081A JP 20090988 A JP20090988 A JP 20090988A JP 20090988 A JP20090988 A JP 20090988A JP H0248081 A JPH0248081 A JP H0248081A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cement
- undercoat
- emulsion paint
- pigment
- eflo
- Prior art date
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- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はセメント賦形体の化粧方法に関し、詳しくは
セメント製品の耐候性に優れる化粧層を得る方法に関す
る。
セメント製品の耐候性に優れる化粧層を得る方法に関す
る。
セメント製品は、吸水性、透水性を有するから、何らの
表面処理をせずに屋根材あるいは外装壁板として使用す
るのは不都合であり、外観の美感性を付与することをか
ねて各種色彩の防水塗装を行なうのが普通である。
表面処理をせずに屋根材あるいは外装壁板として使用す
るのは不都合であり、外観の美感性を付与することをか
ねて各種色彩の防水塗装を行なうのが普通である。
従来、このようなセメント製品の表面塗装の手段として
、セメント配合物により賦形直後に賦形体表面に着色セ
メントスラリーを塗布し、次いで下塗塗装としてエマル
ジョン樹脂を塗布し、養生中におけるエフロ成分の析出
を防止してこれを養生させた後、最終的に上塗塗装を行
なうことが一般に採られている。
、セメント配合物により賦形直後に賦形体表面に着色セ
メントスラリーを塗布し、次いで下塗塗装としてエマル
ジョン樹脂を塗布し、養生中におけるエフロ成分の析出
を防止してこれを養生させた後、最終的に上塗塗装を行
なうことが一般に採られている。
しかしながら、上記塗装手段による場合、エマルジョン
樹脂による下塗塗装を行なっていても、養生中セメント
スラリー層の硬化反応促進につれ、水蒸気骨が蒸発し、
エマルジョン塗料層に無数の微小孔が形成され、一方セ
メントの経年硬化反応中に滲出するエフロ成分が降雨に
よる水に溶出し、エフロ成分を含んだ水が蒸発すること
によりエフロ成分が下塗塗膜と上塗塗膜の間に滞留し、
層間密着性を低下させると言った欠点が有った。 さら
に、雨水の浸入、空気による酸化、太陽光の紫外線によ
る劣化が促進され、上塗塗膜の亀裂、白亜化をも生じさ
せると言った欠点が有った。
樹脂による下塗塗装を行なっていても、養生中セメント
スラリー層の硬化反応促進につれ、水蒸気骨が蒸発し、
エマルジョン塗料層に無数の微小孔が形成され、一方セ
メントの経年硬化反応中に滲出するエフロ成分が降雨に
よる水に溶出し、エフロ成分を含んだ水が蒸発すること
によりエフロ成分が下塗塗膜と上塗塗膜の間に滞留し、
層間密着性を低下させると言った欠点が有った。 さら
に、雨水の浸入、空気による酸化、太陽光の紫外線によ
る劣化が促進され、上塗塗膜の亀裂、白亜化をも生じさ
せると言った欠点が有った。
この発明は上記欠点に鑑み、セメントスラリーよりのエ
フロ成分の滲出を可及的に抑え、太陽光の紫外線による
劣化等による上塗塗膜の亀裂、白亜化を有効に防止する
ことを目的としてなされたものである。
フロ成分の滲出を可及的に抑え、太陽光の紫外線による
劣化等による上塗塗膜の亀裂、白亜化を有効に防止する
ことを目的としてなされたものである。
（課題を解決するための技術〕
即ち、この発明のセメント賦形体の化粧方法は、セメン
ト賦形直後に着色スラリーを塗布し、次いで下塗エマル
ジョン塗料を塗布し、養生後上塗り塗装を行なう工程に
おいて下塗エマルジョン塗料として顔料を対樹脂分比５
〜１５％含むエマルジョン塗料を用いることを特徴とす
るものである。
ト賦形直後に着色スラリーを塗布し、次いで下塗エマル
ジョン塗料を塗布し、養生後上塗り塗装を行なう工程に
おいて下塗エマルジョン塗料として顔料を対樹脂分比５
〜１５％含むエマルジョン塗料を用いることを特徴とす
るものである。
（作用〕
本発明におけるセメント賦形体の化粧方法の工程順は従
来常法通りの工程とされる。
来常法通りの工程とされる。
この発明において、塗布される下塗エマルジョン塗料に
は、従来のものと異なり、充填剤として顔料を対樹脂成
分比５〜１５％含むものを用いる。
は、従来のものと異なり、充填剤として顔料を対樹脂成
分比５〜１５％含むものを用いる。
この顔料としては、望ましくは、粒径分布０．１〜０．
５ μのものが用いられ、また、下塗エマルジョン塗料
が透明クリヤーの場合は、透明性を失なわないカーボン
ホワイト、アルミナホワイト等の顔料が使用される。
５ μのものが用いられ、また、下塗エマルジョン塗料
が透明クリヤーの場合は、透明性を失なわないカーボン
ホワイト、アルミナホワイト等の顔料が使用される。
この顔料添加の理由は、下塗塗膜のｖ！Ｉ密性を増し、
セメント賦形体よりのエフロ成分の滲出を抑えるためで
あり、エマルジョン樹脂に対し、５〜１５％とするのは
、５％より少ないとエフロ滲出の抑制が充分に出来ず、
１５％より多くしても、コストアンプとなるだけで不経
済となるからである。
セメント賦形体よりのエフロ成分の滲出を抑えるためで
あり、エマルジョン樹脂に対し、５〜１５％とするのは
、５％より少ないとエフロ滲出の抑制が充分に出来ず、
１５％より多くしても、コストアンプとなるだけで不経
済となるからである。
この顔料添加の下塗エマルジョン塗料により、セメント
賦形体、又はセメントスラリー層よりのエフロ成分の析
出がかなり抑えられ、その結果、上塗層との界面へのエ
フロ成分の滞留が抑制され、これに起因する上塗塗膜の
亀裂等も防止されるのである。
賦形体、又はセメントスラリー層よりのエフロ成分の析
出がかなり抑えられ、その結果、上塗層との界面へのエ
フロ成分の滞留が抑制され、これに起因する上塗塗膜の
亀裂等も防止されるのである。
次に、この発明の詳細な説明する。
セメント、骨材、補強繊維及び水より成る常法の配合で
得たセメント賦形体表面に、セメント、顔料、減水剤及
び水を加えて成る常法による着色スラリー層を塗布し、
その直後に下塗エマルジョン塗料として、アクリルスチ
レンの乳化重合体に粒径分布０．１〜０．５μのカーボ
ンホワイト顔料を１０％添加して成る下塗塗料を５０〜
６０ｇ／ｒ＋（の割合で塗布し、これを−次養生し、次
いで、顔料を含まない上塗エマルジョン塗料を５０〜６
０ｇ／ ｒｒｒの割合で塗布した。
得たセメント賦形体表面に、セメント、顔料、減水剤及
び水を加えて成る常法による着色スラリー層を塗布し、
その直後に下塗エマルジョン塗料として、アクリルスチ
レンの乳化重合体に粒径分布０．１〜０．５μのカーボ
ンホワイト顔料を１０％添加して成る下塗塗料を５０〜
６０ｇ／ｒ＋（の割合で塗布し、これを−次養生し、次
いで、顔料を含まない上塗エマルジョン塗料を５０〜６
０ｇ／ ｒｒｒの割合で塗布した。
これを乾燥後、試験片を得た。
得た試験片につき、乾燥状態で紫外線照射１６時間６０
±３℃、ＵＶ源２３０ Ｗ／ボ、湿潤状態で８時間５０
±３°Ｃ２散水８１／８時間の条件で反復照射による耐
候試験を行なった。
±３℃、ＵＶ源２３０ Ｗ／ボ、湿潤状態で８時間５０
±３°Ｃ２散水８１／８時間の条件で反復照射による耐
候試験を行なった。
その結果、本発明により得た化粧セメント板は、１５０
０時間経過後も上塗り、下塗り塗膜に何の異常もなく
２０００時間でわずかな白亜化が生じただけであったが
、従来法で得た化粧セメント板にあっては、１５００時
間で白亜化が生じ、外観に明らかな異常が認められ、２
０００時間では全面的に白亜化が生し、外観が著しく不
良となった。
０時間経過後も上塗り、下塗り塗膜に何の異常もなく
２０００時間でわずかな白亜化が生じただけであったが
、従来法で得た化粧セメント板にあっては、１５００時
間で白亜化が生じ、外観に明らかな異常が認められ、２
０００時間では全面的に白亜化が生し、外観が著しく不
良となった。
この発明は以上説明したように、下塗エマルジョン塗料
に顔料を添加するのみで、セメント賦形体よりのエフロ
成分の析出が有効に防止出来、この結果、セメント製品
の表面化粧層の耐候が著しく向上するのである。
に顔料を添加するのみで、セメント賦形体よりのエフロ
成分の析出が有効に防止出来、この結果、セメント製品
の表面化粧層の耐候が著しく向上するのである。
Claims (1)
- （１）セメント賦形直後に着色スラリーを塗布し、次い
で下塗エマルジョン塗料を塗布し、養生後上塗り塗装を
行なう工程において下塗エマルジョン塗料として顔料を
対樹脂分比５〜１５％含むエマルジョン塗料を用いるこ
とを特徴とするセメント賦形体の化粧方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20090988A JPH0248081A (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | セメント賦形体の化粧方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20090988A JPH0248081A (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | セメント賦形体の化粧方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0248081A true JPH0248081A (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16432284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20090988A Pending JPH0248081A (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | セメント賦形体の化粧方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248081A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6407199B1 (en) | 1999-05-27 | 2002-06-18 | Teijin Limited | Polycarbonate resin composition optical recording medium, and substrate therefor |
-
1988
- 1988-08-10 JP JP20090988A patent/JPH0248081A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6407199B1 (en) | 1999-05-27 | 2002-06-18 | Teijin Limited | Polycarbonate resin composition optical recording medium, and substrate therefor |
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