JPH0248423Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0248423Y2 JPH0248423Y2 JP15736684U JP15736684U JPH0248423Y2 JP H0248423 Y2 JPH0248423 Y2 JP H0248423Y2 JP 15736684 U JP15736684 U JP 15736684U JP 15736684 U JP15736684 U JP 15736684U JP H0248423 Y2 JPH0248423 Y2 JP H0248423Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yig
- vapor deposition
- magnet
- holder
- magnetic compound
- Prior art date
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- Expired
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、磁性体化合物結晶の端面に蒸着を行
なう蒸着治具に係り、とくにマグネツトの磁気吸
引力を利用して保持器に磁性体化合物結晶を保持
するようにした蒸着治具に関するものである。
なう蒸着治具に係り、とくにマグネツトの磁気吸
引力を利用して保持器に磁性体化合物結晶を保持
するようにした蒸着治具に関するものである。
磁性体化合物結晶たとえばイトリウム・アイア
ン・ガーネツト（以下YIGと略す）は、光学装置
のアイソレータ等に用いられているが、YIGの結
晶面そのままでは損失が多くなるので、対向面に
二酸化シリコン等の蒸着を行なうのが一般的であ
るが、蒸着面全体に均質な蒸着膜を行うのが困難
であるので、均質な蒸着膜の行える蒸着治具の改
善が強く要望されている。
ン・ガーネツト（以下YIGと略す）は、光学装置
のアイソレータ等に用いられているが、YIGの結
晶面そのままでは損失が多くなるので、対向面に
二酸化シリコン等の蒸着を行なうのが一般的であ
るが、蒸着面全体に均質な蒸着膜を行うのが困難
であるので、均質な蒸着膜の行える蒸着治具の改
善が強く要望されている。
第３図は、従来の蒸着治具を説明するためのａ
はYIGホルダの正面図、ｂは膜式的構成図であ
る。
はYIGホルダの正面図、ｂは膜式的構成図であ
る。
第３図ａは、非磁性体金属たとえばアルミニウ
ム等からなるYIGホルダ１に複数のYIG挿入溝２
を形成する。このYIG挿入溝２の幅B′はYIG３の
幅（第４図に示すＢ）より若干狭くする。これは
第３図ｂに示す通り蒸着を行なうときYIG３が落
下しないようにするためである。第３図ｂは、第
３図ａで説明したYIGホルダ１のYIG挿入溝２に
複数のYIG３を配列して、YIG３の蒸着面を下方
向とした状態で、るつぼ４内に蒸着材料たとえば
酸化シリコン（以下SiO2と略す）を投入して、
ヒータ５で加熱すればSiO2が矢印点線の如く蒸
発して、YIG３の一方の面に蒸着膜６を形成す
る。そしてYIG３の一方の面に蒸着膜６の形成が
終了した時点で、YIGホルダ１を取外して、該蒸
着面を形成した対向面が下方となるよう入れ換え
て、前述の順序で蒸着作業も行なうようになつて
いる。
ム等からなるYIGホルダ１に複数のYIG挿入溝２
を形成する。このYIG挿入溝２の幅B′はYIG３の
幅（第４図に示すＢ）より若干狭くする。これは
第３図ｂに示す通り蒸着を行なうときYIG３が落
下しないようにするためである。第３図ｂは、第
３図ａで説明したYIGホルダ１のYIG挿入溝２に
複数のYIG３を配列して、YIG３の蒸着面を下方
向とした状態で、るつぼ４内に蒸着材料たとえば
酸化シリコン（以下SiO2と略す）を投入して、
ヒータ５で加熱すればSiO2が矢印点線の如く蒸
発して、YIG３の一方の面に蒸着膜６を形成す
る。そしてYIG３の一方の面に蒸着膜６の形成が
終了した時点で、YIGホルダ１を取外して、該蒸
着面を形成した対向面が下方となるよう入れ換え
て、前述の順序で蒸着作業も行なうようになつて
いる。
第４図は、蒸着を終了したYIGの蒸着膜の正面
図で、第３図と同等の部分については同一符号を
付している。
図で、第３図と同等の部分については同一符号を
付している。
図でわかるようにYIG挿入溝２の幅B′がYIGの
幅Ｂより狭いので、一方の両端に蒸着されない部
分ｂができる。
幅Ｂより狭いので、一方の両端に蒸着されない部
分ｂができる。
（考案が解決しようとする問題点）
上記の構成の蒸着治具にあつては、YIGホルダ
１に形成するYIG挿入溝２の幅B′はYIG３の幅よ
り狭くしなければならないために、蒸着膜７を均
質に形成することは不可能であるという問題点が
あつた。
１に形成するYIG挿入溝２の幅B′はYIG３の幅よ
り狭くしなければならないために、蒸着膜７を均
質に形成することは不可能であるという問題点が
あつた。
本考案は、上記の問題点を解決して均質な蒸着
膜が形成できる蒸着治具を提供するもので、その
手段は、磁性体化合物結晶の端面に蒸着を行なう
治具であつて、前記磁性体化合物結晶の保持具の
一側に磁性体化合物結晶を挿入する孔を設け、対
向する他の側にマグネツトの挿抜自在な孔を設け
て、該孔にマグネツトを挿入し、該マグネツトの
吸引力により、前記磁性体化合物結晶を保持する
ようにしたことによつてなされる。
膜が形成できる蒸着治具を提供するもので、その
手段は、磁性体化合物結晶の端面に蒸着を行なう
治具であつて、前記磁性体化合物結晶の保持具の
一側に磁性体化合物結晶を挿入する孔を設け、対
向する他の側にマグネツトの挿抜自在な孔を設け
て、該孔にマグネツトを挿入し、該マグネツトの
吸引力により、前記磁性体化合物結晶を保持する
ようにしたことによつてなされる。
上記蒸着治具は、YIG個々の保持具を形成し
て、該保持具の対向面の一方にYIG挿入孔を、他
方にマグネツト挿入孔を形成して磁性体化合物結
晶からなるYIGをマグネツトの吸引力で吸着した
状態で、蒸着を行なう構成としたものであるか
ら、均質な蒸着膜がえられる。そして対向面の蒸
着を行なう時は、マグネツトを抜いてYIGを反転
して再びマグネツトで吸着して行う構成としたも
のである。
て、該保持具の対向面の一方にYIG挿入孔を、他
方にマグネツト挿入孔を形成して磁性体化合物結
晶からなるYIGをマグネツトの吸引力で吸着した
状態で、蒸着を行なう構成としたものであるか
ら、均質な蒸着膜がえられる。そして対向面の蒸
着を行なう時は、マグネツトを抜いてYIGを反転
して再びマグネツトで吸着して行う構成としたも
のである。
以下図面を参照しながら本考案に係る蒸着治具
の実施例について詳細に説明する。
の実施例について詳細に説明する。
第１図は、本考案に係る蒸着治具の一実施例を
説明するためのａは保持器の斜視図、ｂは模式的
構成図、ｃは蒸着を終わつたYIGの斜視図で、第
３図および第４図と同等の部分については同一符
号を付している。
説明するためのａは保持器の斜視図、ｂは模式的
構成図、ｃは蒸着を終わつたYIGの斜視図で、第
３図および第４図と同等の部分については同一符
号を付している。
非磁性体金属たとえばアルミニウム等からなる
保持器８の、対向する一方の面にYIG３を挿入す
るYIG挿入孔８１を穿設し、他方の面にマグネツ
ト９を挿入するマグネツト挿入孔８２を設け、ま
ずマグネツト挿入孔８２にマグネツト９を挿入
し、反対側のYIG挿入孔８１にマグネツト９の吸
引力により、YIG３を挿入吸着せしめた保持器８
をホルダ１０の保持器挿入溝１１に配列した状態
で、YIG３の蒸着面を下方向とした状態で、るつ
ぼ３内に蒸着材料たとえば酸化シリコン（以下
SiO2と略す）を投入して、ヒータ５で加熱すれ
ばSiO2が矢印点線の如く蒸発して、YIG３の一
方の面に蒸着膜６を形成する。そしてYIG３の一
方の面に蒸着膜６の形成が終了した時点で、保持
器１をホルダ１０より抜取りマグネツト９を取外
せば、YIG３が容易に外れる。そこで再びマグネ
ツト９ををマグネツト挿入孔８２に挿入し、YIG
３を反転してYIG挿入孔８１にマグネツト９の吸
引力により、YIG３を挿入吸着せしめ、前述の順
序で蒸着を行えば良い。
保持器８の、対向する一方の面にYIG３を挿入す
るYIG挿入孔８１を穿設し、他方の面にマグネツ
ト９を挿入するマグネツト挿入孔８２を設け、ま
ずマグネツト挿入孔８２にマグネツト９を挿入
し、反対側のYIG挿入孔８１にマグネツト９の吸
引力により、YIG３を挿入吸着せしめた保持器８
をホルダ１０の保持器挿入溝１１に配列した状態
で、YIG３の蒸着面を下方向とした状態で、るつ
ぼ３内に蒸着材料たとえば酸化シリコン（以下
SiO2と略す）を投入して、ヒータ５で加熱すれ
ばSiO2が矢印点線の如く蒸発して、YIG３の一
方の面に蒸着膜６を形成する。そしてYIG３の一
方の面に蒸着膜６の形成が終了した時点で、保持
器１をホルダ１０より抜取りマグネツト９を取外
せば、YIG３が容易に外れる。そこで再びマグネ
ツト９ををマグネツト挿入孔８２に挿入し、YIG
３を反転してYIG挿入孔８１にマグネツト９の吸
引力により、YIG３を挿入吸着せしめ、前述の順
序で蒸着を行えば良い。
第２図は、YIGの入れ変えを説明するための断
面図で、第１図と同等の部分については同一符号
を付している。
面図で、第１図と同等の部分については同一符号
を付している。
図でわかるように、対向する一面の蒸着が終了
すれば、保持器８を対向せしめた状態でYIG３が
装着されていた側のマグネツト９を抜けば、YIG
３は反対側の保持器１のマグネツト９に吸引され
て入れ換わり、180゜回転して図示しないホルダに
挿入して蒸着を行なえば良い。
すれば、保持器８を対向せしめた状態でYIG３が
装着されていた側のマグネツト９を抜けば、YIG
３は反対側の保持器１のマグネツト９に吸引され
て入れ換わり、180゜回転して図示しないホルダに
挿入して蒸着を行なえば良い。
なお、本実施例では磁性体化合物結晶をYIGに
ついて説明したが、YIGに限らずそのため磁性体
金属を含む結晶であつても構わない。
ついて説明したが、YIGに限らずそのため磁性体
金属を含む結晶であつても構わない。
以上の説明から明らかなように、本考案に係る
蒸着治具によればYIGの挿抜作業が容易に行なえ
るとともに、均質な蒸着膜が得られ特性の向上に
寄与するところが大である。
蒸着治具によればYIGの挿抜作業が容易に行なえ
るとともに、均質な蒸着膜が得られ特性の向上に
寄与するところが大である。
第１図は、本考案に係る蒸着治具の一実施例を
説明するためのａは保持器の斜視図、ｂは模式的
構成図、ｃは蒸着を終わつたYIGの斜視図、第２
図は、YIGの入れ換えを説明するための断面図、
第３図は、従来の蒸着治具を説明するためのａは
YIGホルダの正面図、ｂは模式的構成図、第４図
は、蒸着を終了したYIGの蒸着膜の正面図であ
る。 図中、１はYIGホルダ、２はYIG挿入溝、３は
YIG、４はるつぼ、５はヒータ、６は蒸着膜、７
は蒸着されない部分、８は保持器、９はマグネツ
ト、１０はホルダ、１１は保持器挿入溝、８１は
YIG挿入孔、８２はマグネツト挿入孔、をそれぞ
れ示す。
説明するためのａは保持器の斜視図、ｂは模式的
構成図、ｃは蒸着を終わつたYIGの斜視図、第２
図は、YIGの入れ換えを説明するための断面図、
第３図は、従来の蒸着治具を説明するためのａは
YIGホルダの正面図、ｂは模式的構成図、第４図
は、蒸着を終了したYIGの蒸着膜の正面図であ
る。 図中、１はYIGホルダ、２はYIG挿入溝、３は
YIG、４はるつぼ、５はヒータ、６は蒸着膜、７
は蒸着されない部分、８は保持器、９はマグネツ
ト、１０はホルダ、１１は保持器挿入溝、８１は
YIG挿入孔、８２はマグネツト挿入孔、をそれぞ
れ示す。
Claims (1)
- 磁性体化合物結晶の端面に蒸着を行なう治具で
あつて、前記磁性体化合物結晶の保持具の一側に
該磁性体化合物結晶を挿入する孔を設け、対向す
る他の側にマグネツトの挿抜自在な孔を設けて、
該孔にマグネツトを挿入し、該マグネツトの吸引
力により、前記磁性体化合物結晶を保持するよう
にしたことを特徴とする蒸着治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15736684U JPH0248423Y2 (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15736684U JPH0248423Y2 (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6173654U JPS6173654U (ja) | 1986-05-19 |
| JPH0248423Y2 true JPH0248423Y2 (ja) | 1990-12-19 |
Family
ID=30715361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15736684U Expired JPH0248423Y2 (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248423Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2751277B2 (ja) * | 1988-12-19 | 1998-05-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質物質の被覆方法 |
| JP7147341B2 (ja) * | 2018-08-02 | 2022-10-05 | 日本電気硝子株式会社 | 膜付き物品の製造方法、及び保持具 |
-
1984
- 1984-10-17 JP JP15736684U patent/JPH0248423Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6173654U (ja) | 1986-05-19 |
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