JPH0248425Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0248425Y2 JPH0248425Y2 JP1985170698U JP17069885U JPH0248425Y2 JP H0248425 Y2 JPH0248425 Y2 JP H0248425Y2 JP 1985170698 U JP1985170698 U JP 1985170698U JP 17069885 U JP17069885 U JP 17069885U JP H0248425 Y2 JPH0248425 Y2 JP H0248425Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- disk
- hook
- vacuum evaporation
- flat surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(a) 技術分野
この考案は、半導体素子等の基板として用いら
れるウエハの表裏面に金属膜を蒸着させるための
真空蒸着装置のウエハ支持台に関する。
れるウエハの表裏面に金属膜を蒸着させるための
真空蒸着装置のウエハ支持台に関する。
(b) 従来技術とその欠点
ウエハの真空蒸着装置は、蒸着がムラなく均質
に行われるようにするために、ウエハをウエハ支
持台に取り付け、これを真空蒸着装置内で遊星運
動させるようにしている。このため、まず第２図
に示すように、回転放物面状に形成されたプラネ
タリ支持体１の内面にウエハ支持台２を多数配置
して固定する。次に、第３図に示すように、この
プラネタリ支持体１を複数セツト回転枠３の周囲
に回転自在に取り付ける。そして、この回転枠３
を回転駆動することにより公転運動させると同時
に、プラネタリ支持体１の回転軸に固定した従動
円板４の周端を公転軌道に沿つて形成された環状
レール５に接するようにすることにより、プラネ
タリ支持体１が公転運動に伴つて自転し遊星運動
を行うようにしている。
に行われるようにするために、ウエハをウエハ支
持台に取り付け、これを真空蒸着装置内で遊星運
動させるようにしている。このため、まず第２図
に示すように、回転放物面状に形成されたプラネ
タリ支持体１の内面にウエハ支持台２を多数配置
して固定する。次に、第３図に示すように、この
プラネタリ支持体１を複数セツト回転枠３の周囲
に回転自在に取り付ける。そして、この回転枠３
を回転駆動することにより公転運動させると同時
に、プラネタリ支持体１の回転軸に固定した従動
円板４の周端を公転軌道に沿つて形成された環状
レール５に接するようにすることにより、プラネ
タリ支持体１が公転運動に伴つて自転し遊星運動
を行うようにしている。
ウエハ支持台２は、第４図および第５図に示す
ように、このように構成されたプラネタリ支持体
１の内面に少し浮かして固定された円盤６上にウ
エハ７を載置し、このウエハ７のオリエンテーシ
ヨンフラツト面８をバネ９に引かれ案内溝１０に
ガイドされたフツク１１で係止押圧し、かつ、こ
のウエハ７の他側を２箇所係止ピン１２で係止す
ることによりウエハ７を支持する。バネ９は、円
盤６の裏面側に配置されたつる巻きバネであり、
一端を円盤６の裏面中央部に設けられたバネ掛け
１３に係止するとともに、他端側を折り曲げてフ
ツク１１を一体的に形成している。また、案内溝
１０は円盤６の一方の周端から半径方向に形成さ
れたスリツトである。したがつて、フツク１１は
バネ９によつて引かれ案内溝１０にガイドされて
円盤６の中心側に移動しようとする。そこで、こ
の円盤６上にウエハ７を載置しこのウエハ７のオ
リエンテーシヨンフラツト面８をフツク１１で係
止押圧させるようにすることにより、このウエハ
７をウエハ支持台２上に固定することができる。
ように、このように構成されたプラネタリ支持体
１の内面に少し浮かして固定された円盤６上にウ
エハ７を載置し、このウエハ７のオリエンテーシ
ヨンフラツト面８をバネ９に引かれ案内溝１０に
ガイドされたフツク１１で係止押圧し、かつ、こ
のウエハ７の他側を２箇所係止ピン１２で係止す
ることによりウエハ７を支持する。バネ９は、円
盤６の裏面側に配置されたつる巻きバネであり、
一端を円盤６の裏面中央部に設けられたバネ掛け
１３に係止するとともに、他端側を折り曲げてフ
ツク１１を一体的に形成している。また、案内溝
１０は円盤６の一方の周端から半径方向に形成さ
れたスリツトである。したがつて、フツク１１は
バネ９によつて引かれ案内溝１０にガイドされて
円盤６の中心側に移動しようとする。そこで、こ
の円盤６上にウエハ７を載置しこのウエハ７のオ
リエンテーシヨンフラツト面８をフツク１１で係
止押圧させるようにすることにより、このウエハ
７をウエハ支持台２上に固定することができる。
ところが、円盤６上に載置されたウエハ７のオ
ペレーシヨンフラツト面８が案内溝１０に対して
直角とならず、第６図に示すように、斜めに載置
された状態のままでフツク１１で係止すると、係
止が不安定となり外れ易くなるので、真空蒸着作
業中にウエハ７がウエハ支持台２から落下し破損
するおそれがある。このため、オペレータは、ウ
エハ７のウエハ支持台２への取り付けの際にオリ
エンテーシヨンフラツト面８が正確に案内溝１０
に対して直角となるように載置しなければならな
い。しかしながら、従来のウエハ支持台２は、案
内溝１０が一箇所にしか形成されないために、オ
ペレータはウエハの取付作業を慎重に行わなけれ
ばならず作業効率が悪くなり、また、載置後にこ
の角度を修正すると円盤６とすれ合うためにウエ
ハ７の表面に傷が生じ製品に不良が発生するとい
う欠点が生じていた。
ペレーシヨンフラツト面８が案内溝１０に対して
直角とならず、第６図に示すように、斜めに載置
された状態のままでフツク１１で係止すると、係
止が不安定となり外れ易くなるので、真空蒸着作
業中にウエハ７がウエハ支持台２から落下し破損
するおそれがある。このため、オペレータは、ウ
エハ７のウエハ支持台２への取り付けの際にオリ
エンテーシヨンフラツト面８が正確に案内溝１０
に対して直角となるように載置しなければならな
い。しかしながら、従来のウエハ支持台２は、案
内溝１０が一箇所にしか形成されないために、オ
ペレータはウエハの取付作業を慎重に行わなけれ
ばならず作業効率が悪くなり、また、載置後にこ
の角度を修正すると円盤６とすれ合うためにウエ
ハ７の表面に傷が生じ製品に不良が発生するとい
う欠点が生じていた。
(c) 考案の目的
この考案は、このような事情に鑑みなされたも
のであつて、円盤に角度を変えて２本以上の案内
溝を設けることにより、ウエハのセツテイングを
容易にする真空蒸着装置のウエハ支持台を提供す
ることを目的とする。
のであつて、円盤に角度を変えて２本以上の案内
溝を設けることにより、ウエハのセツテイングを
容易にする真空蒸着装置のウエハ支持台を提供す
ることを目的とする。
(d) 考案の構成および効果
この考案の真空蒸着装置のウエハ支持台は円盤
上に載置したウエハのオリエンテーシヨンフラツ
ト面を、一端が円盤の中心に係止されたバネの他
端に取り付けられ、案内溝にガイドされた単一の
フツクで係止押圧するとともに、このウエハの他
方側を２箇所以上係止することにより支持して、
真空蒸着装置内において遊星運動を行わせる真空
蒸着装置がウエハ支持台において 前記案内溝を、円盤の中心を扇中心とする扇形
範囲内で円盤の一方側の周端から半径方向に複数
形成したことを特徴とする。
上に載置したウエハのオリエンテーシヨンフラツ
ト面を、一端が円盤の中心に係止されたバネの他
端に取り付けられ、案内溝にガイドされた単一の
フツクで係止押圧するとともに、このウエハの他
方側を２箇所以上係止することにより支持して、
真空蒸着装置内において遊星運動を行わせる真空
蒸着装置がウエハ支持台において 前記案内溝を、円盤の中心を扇中心とする扇形
範囲内で円盤の一方側の周端から半径方向に複数
形成したことを特徴とする。
この考案の真空蒸着装置のウエハ支持台を上記
のように構成すると、単一のフツクを嵌入するも
のとして２本以上の案内溝が形成されることにな
り、単一のフツクはこの２本以上ある案内溝のう
ちの１つの案内溝に選択的に嵌め込まれる。フツ
クはバネにより円盤の中心方向に付勢されている
ため、ウエハを確実に固定するためにはオリエン
テーシヨンフラツト面がフツクの付勢方向（円盤
の法線）に直交する方向に一致するようにウエハ
を円盤上に載置すべきである。一方、フツクの付
勢方向が円盤面のどの法線方向に一致するかはフ
ツクが嵌め込まれる案内溝の形成位置により決定
する。すなわち、ウエハのオリエンテーシヨンフ
ラツト面とフツクの付勢方向とがなす角度は、オ
リエンテーシヨンフラツト面とフツクを嵌め込む
案内溝との位置関係によつて決まる。このことか
ら、円盤上へのウエハの載置の際にオリエンテー
シヨンフラツト面が多少傾いたとしても、２本以
上ある案内溝のうち最も把持力の得られる案内溝
を選んでフツクを嵌め込みウエハを係止すればよ
い。このため、オペレータは、ウエハ載置の際の
角度の許容範囲が広がるので、ウエハの取付作業
が容易となる。したがつて、この発明の真空蒸着
装置のウエハ支持台は、ウエハ取り付けの際の作
業性が向上するとともに、円盤上にウエハを載置
した後の角度の修正作業が不要となることからウ
エハの表面に傷を付けることもなくなり製品の歩
留まり向上に貢献することができる。
のように構成すると、単一のフツクを嵌入するも
のとして２本以上の案内溝が形成されることにな
り、単一のフツクはこの２本以上ある案内溝のう
ちの１つの案内溝に選択的に嵌め込まれる。フツ
クはバネにより円盤の中心方向に付勢されている
ため、ウエハを確実に固定するためにはオリエン
テーシヨンフラツト面がフツクの付勢方向（円盤
の法線）に直交する方向に一致するようにウエハ
を円盤上に載置すべきである。一方、フツクの付
勢方向が円盤面のどの法線方向に一致するかはフ
ツクが嵌め込まれる案内溝の形成位置により決定
する。すなわち、ウエハのオリエンテーシヨンフ
ラツト面とフツクの付勢方向とがなす角度は、オ
リエンテーシヨンフラツト面とフツクを嵌め込む
案内溝との位置関係によつて決まる。このことか
ら、円盤上へのウエハの載置の際にオリエンテー
シヨンフラツト面が多少傾いたとしても、２本以
上ある案内溝のうち最も把持力の得られる案内溝
を選んでフツクを嵌め込みウエハを係止すればよ
い。このため、オペレータは、ウエハ載置の際の
角度の許容範囲が広がるので、ウエハの取付作業
が容易となる。したがつて、この発明の真空蒸着
装置のウエハ支持台は、ウエハ取り付けの際の作
業性が向上するとともに、円盤上にウエハを載置
した後の角度の修正作業が不要となることからウ
エハの表面に傷を付けることもなくなり製品の歩
留まり向上に貢献することができる。
(e) 実施例
第１図はこの考案の実施例である真空蒸着装置
のウエハ支持台の平面図である。
のウエハ支持台の平面図である。
この実施例のウエハ支持台は、２本の案内溝１
０，１０を円盤１６に角度をわずかに変えて設け
ることにより構成される。円盤６はウエハ７を載
置するための台であり、プラネタリ支持体１の回
転放物面内側に少し浮かして固定されている。案
内溝１０，１０は、この円盤６の一方の周端から
半径方向に形成されたスリツトであり、半径の半
分程度の長さに亘つて形成されている。２本の案
内溝１０，１０の成す角度は、ウエハ７を取り付
けた際のオリエンテーシヨンフラツト面８が傾斜
を許容される角度範囲内に設定される。この円盤
６の裏面側中央にはバネ掛け１３が設けられバネ
９の一端側が係止されている。つる巻きバネから
なるバネ９の他端側は、円盤６の表側に突出する
ように折り曲げることによりフツク１１を形成し
ている。フツク１１は、バネ９によつて円盤６の
中心方向に引かれ、案内溝１０，１０のいずれか
に嵌め込むことにより円盤６上に載置したウエハ
７のオリエンテーシヨンフラツト面８を係止押圧
することができる。また、この円盤６の周端の他
方側には、十分な角度間隔を開けた係止ピン１
２，１２が表側に突出するように固定されてい
る。
０，１０を円盤１６に角度をわずかに変えて設け
ることにより構成される。円盤６はウエハ７を載
置するための台であり、プラネタリ支持体１の回
転放物面内側に少し浮かして固定されている。案
内溝１０，１０は、この円盤６の一方の周端から
半径方向に形成されたスリツトであり、半径の半
分程度の長さに亘つて形成されている。２本の案
内溝１０，１０の成す角度は、ウエハ７を取り付
けた際のオリエンテーシヨンフラツト面８が傾斜
を許容される角度範囲内に設定される。この円盤
６の裏面側中央にはバネ掛け１３が設けられバネ
９の一端側が係止されている。つる巻きバネから
なるバネ９の他端側は、円盤６の表側に突出する
ように折り曲げることによりフツク１１を形成し
ている。フツク１１は、バネ９によつて円盤６の
中心方向に引かれ、案内溝１０，１０のいずれか
に嵌め込むことにより円盤６上に載置したウエハ
７のオリエンテーシヨンフラツト面８を係止押圧
することができる。また、この円盤６の周端の他
方側には、十分な角度間隔を開けた係止ピン１
２，１２が表側に突出するように固定されてい
る。
実施例は、ウエハ７の裏面処理のために、この
ウエハ７の裏面に金等の金属膜を蒸着させる場合
を示す。円盤６上に裏面を上にして載置されたウ
エハ７は、他方側を係止ピン１２，１２に係止さ
れ、オリエンテーシヨンフラツト面８を案内溝１
０にガイドされたフツク１１に係止押圧されるこ
とによつて固定される。この際フツク１１をガイ
ドする案内溝１０，１０は、ウエハ７のオリエン
テーシヨンフラツト面８に対して最も直角に近い
方が選ばれる。
ウエハ７の裏面に金等の金属膜を蒸着させる場合
を示す。円盤６上に裏面を上にして載置されたウ
エハ７は、他方側を係止ピン１２，１２に係止さ
れ、オリエンテーシヨンフラツト面８を案内溝１
０にガイドされたフツク１１に係止押圧されるこ
とによつて固定される。この際フツク１１をガイ
ドする案内溝１０，１０は、ウエハ７のオリエン
テーシヨンフラツト面８に対して最も直角に近い
方が選ばれる。
上記のように構成されたこの実施例の真空蒸着
装置のウエハ支持台２は、ウエハ７のオリエンテ
ーシヨンフラツト面８を係止するフツク１１を嵌
め込む案内溝１０，１０を選択することができる
ので、ウエハ７の傾斜角度の許容範囲を案内溝１
０が一本だけの場合に比べ２倍にまで広げること
ができる。この許容範囲の拡大は、案内溝１０，
１０の角度範囲を丁度許容範囲角度としたときに
最高の２倍となる。このため、円盤６上にウエハ
７を載置する取付作業の精度が緩和され、オペレ
ータの作業が容易となるので、煩わしさが解消す
るとともに作業性の向上を図ることができる。ま
た、ウエハ７を円盤６上に載置した際に角度の許
容範囲から外れることがほとんどなくなるので、
後の角度修正により円盤６とすれ合つてウエハ７
の表面が傷付くというようなおそれもなくなり、
製品の歩留まり向上に貢献することができる。
装置のウエハ支持台２は、ウエハ７のオリエンテ
ーシヨンフラツト面８を係止するフツク１１を嵌
め込む案内溝１０，１０を選択することができる
ので、ウエハ７の傾斜角度の許容範囲を案内溝１
０が一本だけの場合に比べ２倍にまで広げること
ができる。この許容範囲の拡大は、案内溝１０，
１０の角度範囲を丁度許容範囲角度としたときに
最高の２倍となる。このため、円盤６上にウエハ
７を載置する取付作業の精度が緩和され、オペレ
ータの作業が容易となるので、煩わしさが解消す
るとともに作業性の向上を図ることができる。ま
た、ウエハ７を円盤６上に載置した際に角度の許
容範囲から外れることがほとんどなくなるので、
後の角度修正により円盤６とすれ合つてウエハ７
の表面が傷付くというようなおそれもなくなり、
製品の歩留まり向上に貢献することができる。
なお、案内溝１０は係止ピン１２，１２間の垂
直２等分線上に１本、それを対称軸として複数本
設けてもよく、この場合にはさらにウエハ７の傾
斜角度の許容範囲を広げることができる。
直２等分線上に１本、それを対称軸として複数本
設けてもよく、この場合にはさらにウエハ７の傾
斜角度の許容範囲を広げることができる。
第１図はこの考案の実施例である真空蒸着装置
のウエハ支持台の平面図、第２図は従来のウエハ
支持台を配置したプラネタリ支持体１の平面図、
第３図は真空蒸着装置の内部機構を説明するため
の縦断面概略正面図、第４図は従来のウエハ支持
台の平面図、第５図は同ウエハ支持台の縦断面正
面図、第６図は同ウエハ支持台に取り付けたウエ
ハが傾斜している場合の平面図である。 ７……ウエハ、８……オリエンテーシヨンフラ
ツト面、９……バネ、１０……案内溝、１１……
フツク。
のウエハ支持台の平面図、第２図は従来のウエハ
支持台を配置したプラネタリ支持体１の平面図、
第３図は真空蒸着装置の内部機構を説明するため
の縦断面概略正面図、第４図は従来のウエハ支持
台の平面図、第５図は同ウエハ支持台の縦断面正
面図、第６図は同ウエハ支持台に取り付けたウエ
ハが傾斜している場合の平面図である。 ７……ウエハ、８……オリエンテーシヨンフラ
ツト面、９……バネ、１０……案内溝、１１……
フツク。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 円盤上に載置したウエハのオリエンテーシヨン
フラツト面を、一端が円盤の中心に係止されたバ
ネの他端に取り付けられ、案内溝にガイドされた
単一のフツクで係止押圧するとともに、このウエ
ハの他方側を２箇所以上係止することにより支持
して、真空蒸着装置内においてウエハに遊星運動
を行わせる真空蒸着装置のウエハ支持台におい
て、 前記案内溝を、円盤の中心を扇中心とする扇形
範囲内で円盤の一方側の周端から半径方向に複数
形成したことを特徴とする真空蒸着装置のウエハ
支持台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985170698U JPH0248425Y2 (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985170698U JPH0248425Y2 (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6279872U JPS6279872U (ja) | 1987-05-21 |
| JPH0248425Y2 true JPH0248425Y2 (ja) | 1990-12-19 |
Family
ID=31105656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985170698U Expired JPH0248425Y2 (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248425Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5818711B2 (ja) * | 2012-02-14 | 2015-11-18 | 三菱電機株式会社 | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194175A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1985
- 1985-11-05 JP JP1985170698U patent/JPH0248425Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6279872U (ja) | 1987-05-21 |
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