JPH0248424Y2 - - Google Patents
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- JPH0248424Y2 JPH0248424Y2 JP1985146077U JP14607785U JPH0248424Y2 JP H0248424 Y2 JPH0248424 Y2 JP H0248424Y2 JP 1985146077 U JP1985146077 U JP 1985146077U JP 14607785 U JP14607785 U JP 14607785U JP H0248424 Y2 JPH0248424 Y2 JP H0248424Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- support
- spring body
- free end
- planetary
- Prior art date
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、MOS形集積回路やLSI等の半導体
集積回路、金属被膜低抗器等に用いられるシリコ
ン等のウエハの表裏面にアルミニウムや金などを
真空蒸着して金属被膜を形成するための装置の構
造に関するものである。
集積回路、金属被膜低抗器等に用いられるシリコ
ン等のウエハの表裏面にアルミニウムや金などを
真空蒸着して金属被膜を形成するための装置の構
造に関するものである。
前記半導体集積回路等に用いられる薄い略円板
状の多数枚のウエハを一度に真空蒸着処理すると
共に各ウエハの表面に均一な金属被膜を形成する
装置として、真空蒸着室内において略水平状に配
設した環状の公転軌道レールに沿つて公転する公
転枠に、回転放物面を有する支持体(以下この支
持体をプラネタリ体と称する)を前記公転軌道に
沿つて適宜間隔ごとに配設し、該各プラネタリ体
をその回転放物面の回転軸回りに自転させつつ公
転させるように構成し、その各プラネタリ体の内
面に略沿わせて多数枚のウエハを装着する構造が
知られている。
状の多数枚のウエハを一度に真空蒸着処理すると
共に各ウエハの表面に均一な金属被膜を形成する
装置として、真空蒸着室内において略水平状に配
設した環状の公転軌道レールに沿つて公転する公
転枠に、回転放物面を有する支持体(以下この支
持体をプラネタリ体と称する)を前記公転軌道に
沿つて適宜間隔ごとに配設し、該各プラネタリ体
をその回転放物面の回転軸回りに自転させつつ公
転させるように構成し、その各プラネタリ体の内
面に略沿わせて多数枚のウエハを装着する構造が
知られている。
この場合、先行技術の特開昭53−60381号公報
では、前記プラネタリ体の内面には、多数枚の略
円板状のウエハを装着ための箇所ごとに、当該ウ
エハの縁を係止するための一対の係止爪を設ける
一方、該一対の係止爪間に近づくような長手の溝
をプラネタリ体に穿設し、プラネタリ体の裏面
(外面)側には、平面視においてジグザグ状に屈
曲形成した偏平なばね体の一端をプラネタリ体に
固着し、前記ばね体の他端フツク部を前記溝に臨
ませ、その他端フツク部をウエハの一側縁に係止
することにより、ばね体のばね力によりウエハを
係止爪方向に付勢するような構成を開示してい
る。
では、前記プラネタリ体の内面には、多数枚の略
円板状のウエハを装着ための箇所ごとに、当該ウ
エハの縁を係止するための一対の係止爪を設ける
一方、該一対の係止爪間に近づくような長手の溝
をプラネタリ体に穿設し、プラネタリ体の裏面
(外面)側には、平面視においてジグザグ状に屈
曲形成した偏平なばね体の一端をプラネタリ体に
固着し、前記ばね体の他端フツク部を前記溝に臨
ませ、その他端フツク部をウエハの一側縁に係止
することにより、ばね体のばね力によりウエハを
係止爪方向に付勢するような構成を開示してい
る。
〔考案が解決しようとする課題〕
ところで、真空蒸着処理済のウエハと処理前の
ウエハとを取り替える作業に際して、処理済のウ
エハを外すには、一旦前記ばねの自由端フツク部
をウエハの外周縁から遠ざけるように半径外向き
に引張り、その状態で処理済のウエハを取り去つ
た後、処理前のウエハをプラネタリ体内面側に載
置してから、そのウエハの外周縁に前記ばね体の
自由端フツク部を係止するという作業を実行する
のである。
ウエハとを取り替える作業に際して、処理済のウ
エハを外すには、一旦前記ばねの自由端フツク部
をウエハの外周縁から遠ざけるように半径外向き
に引張り、その状態で処理済のウエハを取り去つ
た後、処理前のウエハをプラネタリ体内面側に載
置してから、そのウエハの外周縁に前記ばね体の
自由端フツク部を係止するという作業を実行する
のである。
この場合、前記先行技術においては、ばね体の
自由端フツク部はプラネタリ体に穿設した長手の
溝内で移動できるだけであつたから、処理済のウ
エハを取り去つた後、ばね体の自由端フツク部へ
の前記引張力を解除すると、当該自由端フツク部
は前記溝に沿つてウエハの半径中心方向に移動し
てしまうので、そののち、処理前のウエハをプラ
ネタリ体に折着するには、再度ばね体の自由端フ
ツク部を前記溝の長手方向に沿つて引張つた状態
で、ウエハをプラネタリ体上に載置しなければな
らず、このばね引張り作業は、ウエハを一回取り
替える作業につき2回行うので、非常に面倒であ
ると共に、引張作業の回数が必要以上に多くなつ
て、ばね体の寿命が短くなるという問題があつ
た。
自由端フツク部はプラネタリ体に穿設した長手の
溝内で移動できるだけであつたから、処理済のウ
エハを取り去つた後、ばね体の自由端フツク部へ
の前記引張力を解除すると、当該自由端フツク部
は前記溝に沿つてウエハの半径中心方向に移動し
てしまうので、そののち、処理前のウエハをプラ
ネタリ体に折着するには、再度ばね体の自由端フ
ツク部を前記溝の長手方向に沿つて引張つた状態
で、ウエハをプラネタリ体上に載置しなければな
らず、このばね引張り作業は、ウエハを一回取り
替える作業につき2回行うので、非常に面倒であ
ると共に、引張作業の回数が必要以上に多くなつ
て、ばね体の寿命が短くなるという問題があつ
た。
さらに、前記自由端フツク部が当該ばねの固定
側に近づいた状態(いわゆる自由状態)では、ば
ね体の弾性力がないので、当該自由端フツク部が
溝からプラネタリ体の裏面側に脱落し易くなり、
自由端フツク部の先端を、溝から抜けださないよ
うな形状にする等の工夫する必要があり、万一前
記自由端フツク部が溝から抜け出したときには、
大きなプラネタリ体の裏面側に手をまわして差し
込む等の手間がかかり、ウエハ取りつけ作業の効
率が非常に悪くなるという問題もあつた。
側に近づいた状態(いわゆる自由状態)では、ば
ね体の弾性力がないので、当該自由端フツク部が
溝からプラネタリ体の裏面側に脱落し易くなり、
自由端フツク部の先端を、溝から抜けださないよ
うな形状にする等の工夫する必要があり、万一前
記自由端フツク部が溝から抜け出したときには、
大きなプラネタリ体の裏面側に手をまわして差し
込む等の手間がかかり、ウエハ取りつけ作業の効
率が非常に悪くなるという問題もあつた。
本考案は、これらの従来の問題点を解決するこ
とを目的とするものである。
とを目的とするものである。
この目的を達成するため本考案では、半導体集
積回路等の電子部品に用いられる薄い板状のウエ
ハを、プラネタリ体の内面側に載置した状態にて
真空蒸着処理する装置において、前記プラネタリ
体の内面に適宜隙間をあけて複数の支持台を装着
し、前記ウエハの外径より大きい形状の各支持台
の表面側には、前記ウエハの縁を適宜間隔にて係
止する係止部を設け、各支持台には、当該支持台
の一側外周縁に開放し、且つ前記係止部に近付く
方向に長手の案内溝を設ける一方、前記各支持台
の裏面側に配設して基端部を固定したばね体の素
線を、前記各支持台裏面と略平行な平面上におい
て互いに重複しないように屈曲形成し、該ばね体
の自由端フツク部を前記案内溝に臨ませて前記係
止部方向にウエハを弾力付勢するように構成する
一方、前記各支持台の外周には、前記案内溝の近
傍位置に、ばね体の自由端フツク部を一時的に係
止する保持部を設けた構成にしたものである。
積回路等の電子部品に用いられる薄い板状のウエ
ハを、プラネタリ体の内面側に載置した状態にて
真空蒸着処理する装置において、前記プラネタリ
体の内面に適宜隙間をあけて複数の支持台を装着
し、前記ウエハの外径より大きい形状の各支持台
の表面側には、前記ウエハの縁を適宜間隔にて係
止する係止部を設け、各支持台には、当該支持台
の一側外周縁に開放し、且つ前記係止部に近付く
方向に長手の案内溝を設ける一方、前記各支持台
の裏面側に配設して基端部を固定したばね体の素
線を、前記各支持台裏面と略平行な平面上におい
て互いに重複しないように屈曲形成し、該ばね体
の自由端フツク部を前記案内溝に臨ませて前記係
止部方向にウエハを弾力付勢するように構成する
一方、前記各支持台の外周には、前記案内溝の近
傍位置に、ばね体の自由端フツク部を一時的に係
止する保持部を設けた構成にしたものである。
次に本考案の実施例を図面に従つて説明する
と、図において、符号2は密閉できる真空蒸着室
3内において半導体集積回路等に用いられる薄い
略円板状の多数枚のウエハ1を一度に真空蒸着処
理して各ウエハ1の表面に均一な金属被膜を形成
する装置を示し、該装置2は真空蒸着室3室内に
おいて略水平状に配設した環状の公転軌道レール
4と、該公転軌道レール4の上に回転コロ6を介
して載置されてこれに沿つて水平に公転する公転
枠5と、該公転枠5において前記公転軌道レール
4の内径側に適宜間隔ごとに配設された複数のプ
ラネタリ体7とから成る。
と、図において、符号2は密閉できる真空蒸着室
3内において半導体集積回路等に用いられる薄い
略円板状の多数枚のウエハ1を一度に真空蒸着処
理して各ウエハ1の表面に均一な金属被膜を形成
する装置を示し、該装置2は真空蒸着室3室内に
おいて略水平状に配設した環状の公転軌道レール
4と、該公転軌道レール4の上に回転コロ6を介
して載置されてこれに沿つて水平に公転する公転
枠5と、該公転枠5において前記公転軌道レール
4の内径側に適宜間隔ごとに配設された複数のプ
ラネタリ体7とから成る。
前記公転枠5から適宜間隔ごとに下向き斜め外
方向に突出した脚体8(実施例では3本を平面視
において互いに120度づつ隔てて設ける)には、
各々回転コロ6を前記断面上向きコ字型の公転軌
道レール4における外径寄り位置の角部に斜めに
接当するように取付ける。
方向に突出した脚体8(実施例では3本を平面視
において互いに120度づつ隔てて設ける)には、
各々回転コロ6を前記断面上向きコ字型の公転軌
道レール4における外径寄り位置の角部に斜めに
接当するように取付ける。
前記各回転コロ6の回転軸9に着脱自在に装着
される前記各プラネタリ体7の内面は、前記回転
軸9の軸心廻りの回転放物面となるように形成さ
れる。従つて、各プラネタリ体7の内面である回
転放物面は各々前記公転軌道レール4より内径側
において、公転軸12を囲み且つ斜め下向くよう
に形成される。
される前記各プラネタリ体7の内面は、前記回転
軸9の軸心廻りの回転放物面となるように形成さ
れる。従つて、各プラネタリ体7の内面である回
転放物面は各々前記公転軌道レール4より内径側
において、公転軸12を囲み且つ斜め下向くよう
に形成される。
また、前記公転枠5をその上方に配置された駆
動軸10から突出するクランクアーム11により
水平に公転するとき、前記各回転コロ6が公転軌
道レール4に接当しつつ転がるので、当該各回転
コロ6に取付く各プラネタリ体7は前記公転軸1
2を中心として公転すると同時に回転コロ6の回
転軸9廻りに自転するものである(第3図参照)。
動軸10から突出するクランクアーム11により
水平に公転するとき、前記各回転コロ6が公転軌
道レール4に接当しつつ転がるので、当該各回転
コロ6に取付く各プラネタリ体7は前記公転軸1
2を中心として公転すると同時に回転コロ6の回
転軸9廻りに自転するものである(第3図参照)。
前記各プラネタリ体7における内面には、その
回転放物面に略沿わせて多数枚のウエハ1を各々
着脱自在に装着するための支持台13を適宜間隔
隔てて装着するにおいて、支持台13を略円形の
板状に形成し、各支持台13の裏面から突出する
複数の支柱14をプラネタリ体7の裏面からねじ
15止めする。
回転放物面に略沿わせて多数枚のウエハ1を各々
着脱自在に装着するための支持台13を適宜間隔
隔てて装着するにおいて、支持台13を略円形の
板状に形成し、各支持台13の裏面から突出する
複数の支柱14をプラネタリ体7の裏面からねじ
15止めする。
前記各支持台13は載置すべきウエハ1の外径
より大きく形成し、各支持台13には、その一側
外周縁に開放し、且つ支持台13の内径方向にの
びる長手の案内溝16を切欠き形成してあり、ま
た、前記各ウエハ1を載置する支持台13の表面
側には、前記案内溝16と対向する縁部に複数個
の爪状等の係止部17,17を突設する。
より大きく形成し、各支持台13には、その一側
外周縁に開放し、且つ支持台13の内径方向にの
びる長手の案内溝16を切欠き形成してあり、ま
た、前記各ウエハ1を載置する支持台13の表面
側には、前記案内溝16と対向する縁部に複数個
の爪状等の係止部17,17を突設する。
符号18は前記各支持台13の裏面側(プラネ
タリ体7内面との間の隙間)に配設するばね体で
あつて、該ばね体18の基端部20を支持台13
裏面またはプラネタリ体7に止めねじ19等によ
り係止する一方、ばね体18の自由端フツク部2
1を前記案内溝16に臨ませて係止部17方向に
ウエハ1を弾力付勢させるものである。
タリ体7内面との間の隙間)に配設するばね体で
あつて、該ばね体18の基端部20を支持台13
裏面またはプラネタリ体7に止めねじ19等によ
り係止する一方、ばね体18の自由端フツク部2
1を前記案内溝16に臨ませて係止部17方向に
ウエハ1を弾力付勢させるものである。
前記ばね体18は、第6図の平面視に示すよう
に、基端部20から自由端フツク部21までの中
途部の素線を略同一平面上において交互に略コ字
状に屈曲形成する。従つて、第6図に示すよう
に、ばね体18におけるコ字状屈曲部、基端部2
0及び自由端フツク部21はその自由状態におい
ても、各々その素線が互いに重複することがな
く、相互に絡まないようになつている。
に、基端部20から自由端フツク部21までの中
途部の素線を略同一平面上において交互に略コ字
状に屈曲形成する。従つて、第6図に示すよう
に、ばね体18におけるコ字状屈曲部、基端部2
0及び自由端フツク部21はその自由状態におい
ても、各々その素線が互いに重複することがな
く、相互に絡まないようになつている。
なお、前記ばね体18の中途部の屈曲の形態
は、その素線が平面視において互いに重複して絡
まらない形状、例えば平面視S字状、Z字状に屈
曲させても良い。
は、その素線が平面視において互いに重複して絡
まらない形状、例えば平面視S字状、Z字状に屈
曲させても良い。
符号22は、ウエハ1を支持台13から着脱す
る作業時に、前記ばね体18の自由フツク部21
を一時的に支持台13に掛けておくための保持部
であり、該保持部22には自由端フツク部21が
着脱自在に係止でき、位置ずれしないようにする
ための凹所が形成されている。
る作業時に、前記ばね体18の自由フツク部21
を一時的に支持台13に掛けておくための保持部
であり、該保持部22には自由端フツク部21が
着脱自在に係止でき、位置ずれしないようにする
ための凹所が形成されている。
この構成において、公転枠5から取り外したプ
ラネタリ体7の内面を上向きにして作業台に置
き、ばね体18における自由端フツク部21をピ
ンセツト等により摘んで処理済みのウエハ1から
外して前記保持部22に一時的に引掛けたのち、
真空蒸着処理すべきウエハ1(円板の一部を直線
状に切欠いてある)を、その円周縁の適宜箇所が
支持台13に表面における係止部17,17に接
当するように載置し、次いで前記ばね体18の自
由端フツク部21を再びピンセツトにて摘んで支
持台13における案内溝16に沿わせてウエハ1
の一側縁に係止すれば、当該ばね体18の弾力に
よりウエハ1を係止部17,17方向に押圧し
て、実施例では円板状ウエハ1の縁をいわゆる3
点係止することができる。
ラネタリ体7の内面を上向きにして作業台に置
き、ばね体18における自由端フツク部21をピ
ンセツト等により摘んで処理済みのウエハ1から
外して前記保持部22に一時的に引掛けたのち、
真空蒸着処理すべきウエハ1(円板の一部を直線
状に切欠いてある)を、その円周縁の適宜箇所が
支持台13に表面における係止部17,17に接
当するように載置し、次いで前記ばね体18の自
由端フツク部21を再びピンセツトにて摘んで支
持台13における案内溝16に沿わせてウエハ1
の一側縁に係止すれば、当該ばね体18の弾力に
よりウエハ1を係止部17,17方向に押圧し
て、実施例では円板状ウエハ1の縁をいわゆる3
点係止することができる。
このようにして各支持台13にウエハ1を装着
したのち、プラネタリ体7を公転枠5における各
回転コロ6の回転軸9に下から嵌挿し、ここに係
止ピン等により抜け不能に取付け、準備完了した
後は、真空蒸着室3内においてプラネタリ体7を
公転させつつ自転させながら、所定の金属を蒸発
させると各ウエハ1の表面に金属被膜が形成され
る。
したのち、プラネタリ体7を公転枠5における各
回転コロ6の回転軸9に下から嵌挿し、ここに係
止ピン等により抜け不能に取付け、準備完了した
後は、真空蒸着室3内においてプラネタリ体7を
公転させつつ自転させながら、所定の金属を蒸発
させると各ウエハ1の表面に金属被膜が形成され
る。
このように、前記ウエハ1を位置保持するため
のばね体18がプラネタリ体7内面と各支持台1
3裏面との隙間に位置させてあるから、ばね体1
8がプラネタリ体7の裏面側に露出することがな
く、従つて、プラネタリ体7を公転枠5に対して
着脱する場合に、プラネタリ体7の裏面が相手部
材に不用意に接触しても、ばね体18がウエハ1
から外れたり、ばね体18自体が損傷する等の事
故も無くなるのである。
のばね体18がプラネタリ体7内面と各支持台1
3裏面との隙間に位置させてあるから、ばね体1
8がプラネタリ体7の裏面側に露出することがな
く、従つて、プラネタリ体7を公転枠5に対して
着脱する場合に、プラネタリ体7の裏面が相手部
材に不用意に接触しても、ばね体18がウエハ1
から外れたり、ばね体18自体が損傷する等の事
故も無くなるのである。
以上のように本考案によれば、前記ウエハ1を
位置保持するためのばね体18がプラネタリ体7
内面と各支持台13裏面との隙間に位置させてあ
るから、ばね体18がプラネタリ体7の裏面側に
露出することがなく、従つて、ウエハ1をプラネ
タリ体7の内面側に適宜隙間を隔てて取りつけた
支持台13表面に載置した状態にて真空蒸着処理
するに際して、プラネタリ体7を公転枠5に対し
て着脱する場合に、プラネタリ体7の裏面が相手
部材に不用意に接触しても、ばね体18がウエハ
1から外れたり、ばね体18自体が損傷する等の
事故も無くなるのである。
位置保持するためのばね体18がプラネタリ体7
内面と各支持台13裏面との隙間に位置させてあ
るから、ばね体18がプラネタリ体7の裏面側に
露出することがなく、従つて、ウエハ1をプラネ
タリ体7の内面側に適宜隙間を隔てて取りつけた
支持台13表面に載置した状態にて真空蒸着処理
するに際して、プラネタリ体7を公転枠5に対し
て着脱する場合に、プラネタリ体7の裏面が相手
部材に不用意に接触しても、ばね体18がウエハ
1から外れたり、ばね体18自体が損傷する等の
事故も無くなるのである。
また、前記支持台13の裏面に配設するばね体
18の屈曲部等における素線を、支前記支持台1
3裏面と略平行な平面上において互いに重複しな
いように屈曲形成したのであるから、蔓巻ばねや
コイルばねのように素線の直径以上に嵩張ると云
うことがなく、ばね体18の伸縮時にも素線の略
直径の隙間が支持台の裏面におれば良いことにな
つて、前記支持台13とこれを支持する部材との
隙間寸法を大きくとる必要がなくなり、多数の支
持台13を回転放物面を有するプラネタリ体7に
支持させるときには、隣接する支持台13との配
置間隔を狭くでき、結果的にはプラネタリ体7を
小さくして装置全体をコンパクトにすることがで
きる。
18の屈曲部等における素線を、支前記支持台1
3裏面と略平行な平面上において互いに重複しな
いように屈曲形成したのであるから、蔓巻ばねや
コイルばねのように素線の直径以上に嵩張ると云
うことがなく、ばね体18の伸縮時にも素線の略
直径の隙間が支持台の裏面におれば良いことにな
つて、前記支持台13とこれを支持する部材との
隙間寸法を大きくとる必要がなくなり、多数の支
持台13を回転放物面を有するプラネタリ体7に
支持させるときには、隣接する支持台13との配
置間隔を狭くでき、結果的にはプラネタリ体7を
小さくして装置全体をコンパクトにすることがで
きる。
そして、前記のような支持台13上の薄板状の
ウエハ1を着脱する作業時にばね体18の自由端
フツク部21を摘んで屈曲部の弾力に抗して伸縮
させるときにも、ばね体18の素線が互いに絡ま
ることがない。
ウエハ1を着脱する作業時にばね体18の自由端
フツク部21を摘んで屈曲部の弾力に抗して伸縮
させるときにも、ばね体18の素線が互いに絡ま
ることがない。
しかも、処理済みのウエハ1を支持台13から
外すに際しては、ばね体18の自由端フツク部2
1を案内溝16に沿つて支持台13の外周側に引
き出した後、当該支持台13外周における前記案
内溝16近傍の保持部22に自由端フツク部21
を一時的に係止させておけば、ばね体18は常時
引張状態となり、ばね体18の素線が互いに絡ま
ることがないので、絡まりを解く必要がない。
外すに際しては、ばね体18の自由端フツク部2
1を案内溝16に沿つて支持台13の外周側に引
き出した後、当該支持台13外周における前記案
内溝16近傍の保持部22に自由端フツク部21
を一時的に係止させておけば、ばね体18は常時
引張状態となり、ばね体18の素線が互いに絡ま
ることがないので、絡まりを解く必要がない。
さらに、ばね体18の自由端フツク部21を一
時的に位置保持するための保持部22が、支持台
13の表面に載置するウエハ1の外縁よりも常時
外側になるから、前記ばね体18における自由端
フツク部21を再度移動させることなく、処理前
のウエハ1を支持台13表面に載置することが直
ちに実行できてばね体18の自由端フツク部21
を動かす回数も少なくできると共に、前記自由端
フツク部21を片手で位置保持しながら、ウエハ
1を片手で取り替えるというような不安定な作業
を行う必要がない。
時的に位置保持するための保持部22が、支持台
13の表面に載置するウエハ1の外縁よりも常時
外側になるから、前記ばね体18における自由端
フツク部21を再度移動させることなく、処理前
のウエハ1を支持台13表面に載置することが直
ちに実行できてばね体18の自由端フツク部21
を動かす回数も少なくできると共に、前記自由端
フツク部21を片手で位置保持しながら、ウエハ
1を片手で取り替えるというような不安定な作業
を行う必要がない。
従つて、本考案に従えば、ウエハの着脱作業に
際して、ばね体の取扱いに関して無駄な作業をし
なくて済み、ばね体の耐久性を向上させることが
できると共に、ウエハの着脱作業能率を大幅に向
上させることができるという顕著な効果を奏する
のである。
際して、ばね体の取扱いに関して無駄な作業をし
なくて済み、ばね体の耐久性を向上させることが
できると共に、ウエハの着脱作業能率を大幅に向
上させることができるという顕著な効果を奏する
のである。
図面は本考案の実施例を示し、第1図はウエハ
を載置した支持台の平面図、第2図は第1図の
−線視断面図、第3図は真空蒸着装置の要部を
第4図の−線で示す断面図、第4図は平面
図、第5図はプラネタリ体の平面図、第6図はば
ね体の自由状態で示す平面図である。 1……ウエハ、2……装置、3……真空蒸着
室、4……公転軌道レール、5……公転枠、6…
…回転コロ、7……プラネタリ体、13……支持
台、14……支柱、15……ねじ、16……案内
溝、17,17……係止部、18……ばね体、1
9……止めねじ、20……基端部、21……自由
端フツク部、22……保持部。
を載置した支持台の平面図、第2図は第1図の
−線視断面図、第3図は真空蒸着装置の要部を
第4図の−線で示す断面図、第4図は平面
図、第5図はプラネタリ体の平面図、第6図はば
ね体の自由状態で示す平面図である。 1……ウエハ、2……装置、3……真空蒸着
室、4……公転軌道レール、5……公転枠、6…
…回転コロ、7……プラネタリ体、13……支持
台、14……支柱、15……ねじ、16……案内
溝、17,17……係止部、18……ばね体、1
9……止めねじ、20……基端部、21……自由
端フツク部、22……保持部。
Claims (1)
- 半導体集積回路等の電子部品に用いられる薄い
板状のウエハを、プラネタリ体の内面側に載置し
た状態にて真空蒸着処理する装置において、前記
プラネタリ体の内面に適宜隙間をあけて複数の支
持台を装着し、前記ウエハの外径より大きい形状
の各支持台の表面側には、前記ウエハの縁を適宜
間隔にて係止する係止部を設け、各支持台には、
当該支持台の一側外周縁に開放し、且つ前記係止
部に近付く方向に長手の案内溝を設ける一方、前
記各支持台の裏面側に配設して基端部を固定した
ばね体の素線を、前記各支持台裏面と略平行な平
面上において互いに重複しないように屈曲形成
し、該ばね体の自由端フツク部を前記案内溝に臨
ませて前記係止部方向にウエハを弾力付勢するよ
うに構成する一方、前記各支持台の外周には、前
記案内溝の近傍位置に、ばね体の自由端フツク部
を一時的に係止する保持部を設けたことを特徴と
する電子部品の真空蒸着装置におけるウエハの支
持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985146077U JPH0248424Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985146077U JPH0248424Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6255557U JPS6255557U (ja) | 1987-04-06 |
| JPH0248424Y2 true JPH0248424Y2 (ja) | 1990-12-19 |
Family
ID=31058208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985146077U Expired JPH0248424Y2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248424Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5360381A (en) * | 1976-11-11 | 1978-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | Planetary for vacuum evaporation |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP1985146077U patent/JPH0248424Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6255557U (ja) | 1987-04-06 |
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