JPH0249236B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は透明な基板上に層設された記録物質層
に微細な凹凸又は穴を形成することによつて情報
を記録する光学的記録材料に関し、更に詳しくは
防湿膨張による基板の変形を防止した光学的記録
材料に関するものである。

記録物質層に微細な変形を施したり、あるいは
穴をあけることにより、情報を記録するようにし
た光学的記録材料が注目されており、最近ではこ
れを利用したビデオデイスクが市場に提供される
ようになつている。この光学的記録材料には、製
造後に情報を光学的に記録するものと、製造時に
情報を記録しておくものとがある。

前者の光学的記録材料に情報を記録する場合に
は、記録すべき情報を電気的な時系列信号に変換
し、その信号に応じて強度が変調された高エネル
ギー密度のビーム例えばレーザビームで走査し、
透明な基板上に設けた記録物質層を局部的に加熱
して融解、蒸発あるいは凝集等の変化を生じさ
せ、非照射部分とは光学的濃度（反射濃度又は透
過濃度）の差を生じさせることによつて行なわれ
る。また、この光学的記録材料は、ユーザーが情
報を個別的に記録するために用いる他に、情報を
複製する場合にも用いられる。この情報を複製す
る場合には、例えば特開昭48−19303号公報、同
51−59626号公報に記載されているように、情報
が記録されたマスターをマスクとして用い、これ
をデイスク状の光学的記録材料の上に配置し、マ
スターマスクの上からフラツシユ照射すれば、マ
スターマスクのコピーを得ることができる。

後者の光学的記録材料は、再生専用のものであ
り、情報が記録された光学的記録材料を原盤と
し、この原盤からニツケルメツキなどの方法でス
タンパを作り、これを用いて基板表面に熱加工を
施して微細な凹部を形成し、その表面に蒸着など
によつて記録物質層を設けることにより、記録物
質層に微細な凸部を形成するものである。

前述した光学的記録材料から情報を読み出す場
合には、記録物質層を変形もしくは破壊すること
がないように低エネルギー密度のレーザビームを
用い、このレーザビームで光学的記録材料を走査
する。記録物質層が平坦であると、レーザビーム
の反射方向が一定であるが、凹凸があると反射方
向が変化するから、レーザビームの反射方向に配
置した光検出器で記録物質層の凹凸の有無を知る
ことができ、この凹凸の有無から二値化した情報
を読み取ることができる。また、記録物質層に穴
を形成したものでは、レーザビームの反射状態を
検出する他に、光学的記録材料の裏面に光検出器
を配置して光学的記録材料の透過状態から穴の有
無を知ることができ、この穴の有無から二値化し
た情報を読み取ることができる。

光学的記録材料の基本的構造は、透明な基板と
その片面に層設された記録物質層とからなるもの
であり、またこれを改良したものとしては特願昭
56−74819号公報に記載されているように、透明
な基板の上に保護層を介して記録物質層を層設
し、さらにその上に安定用被覆層を設けたもの、
特開昭52−156605号公報に記載されているよう
に、記録物質層にスペーサを介して保護層を設け
たもの、２組の光学的記録材料を用い、その記録
物質層が内側にくるように向い合せ、その間にス
ペーサを介して接合したもの等が提案されてい
る。

基板としては、透明であること、複屈折性がな
いこと、微小欠陥がないこと、安価であること、
変形がしないこと等が要求され、一般的にはポリ
メチルメタアクリル樹脂が用いられている。記録
物質層としては、毒性が少ないこと、基板上への
膜の形成が容易なこと、融解又は蒸発に要するエ
ネルギーが小さいこと等が要求され、一般的には
Ge，Te，Bi，In等の金属が用いられる。なお再
生専用の複製盤には、反射率の高い金属、例えば
Al，Cr等が用いられる。

一般的にポリメチルメタアクリル樹脂は、第１
図に示すように、防湿膨張が大きいため、これを
基板に用いた場合に空気中の水分が浸透して変形
するという欠点がある。例えば基板の片面に記録
物質層を蒸着した構造のものでは、蒸着面からは
吸湿されにくいが露出した片面からは水分が徐々
に浸透するため、経時的な反りが生じてしまい、
レーザビームの反射方向がずれたり、あるいは記
録物質層の凹凸又は穴の位置ずれが生じたりす
る。

本発明はこのような水分による基板の変形を防
止することを目的とするものであり、基板の表面
に防湿層を設けて、空気中の水分が基板内に浸透
しないようにしたことを特徴とするものである。

以下、本発明について詳細に説明する。第２図
において、基板１は中心に孔２を有し、円盤状を
している。この基板１は透明なアクリル系樹脂を
主成分とするプラスチツク例えばポリメチルメタ
アクリル樹脂、アクリモノマーとアクリル化ウレ
タンオリゴマーの架橋物が用いられる。この基板
１の片面に記録物質層３が層設されており、この
記録物質層３に用いられる物質としては一般に、
Mg，Sc，Ｙ，Ti，Zr，Hf，Ｖ，Nb，Ta，Cr，
Mo，Ｗ，Mn，Re，Fe，Co，Ni，Ru，Rh，
Pd，Ir，Pt，Cu，Ag，Au，Zn，Cd，Al，Ga，
In，Si，Ge，Te，Pb，Po，Sn，As，Sb，Bi，
Seなどの金属が用いられ、、これらのうちで好ま
しいものはGe，Te，Bi，Inであり、特に再生専
用の複製盤にはAl，Cr等が用いられる。これら
の金属は１種あるいは２種以上、又は合金を蒸
着、スパツタリング、イオンプレーテイング、電
気メツキ、無電解メツキ等種々の方法によつて基
板１上に直接又は下塗層等を介して単層又は重層
として形成される。再生専用の複製盤の場合この
基板１の片面はスタンパで熱加工が施され、二値
化情報に応じた微細な凹部が形成されている。こ
の熱加工が施された片面に、記録物質層３が層設
されており、前記凹部内に記録物質層が入り込ん
で凸部４を形成する。

前記基板１は、厚みが１mm〜２mm程度のポリメ
チルメタアクリル板が用いられるが、このポリメ
チルメタアクリル板は、吸湿膨張して変形する。
そこで本発明は記録物質層３が層設された面を除
いた基板１の表面に、防湿層５を設けている。こ
の防湿層５に用いられる物質としては、透湿率が
低いこと、光透過率が高いこと、薄膜加工が可能
なこと等が要求される。特に透湿率としてはでき
るだけ小さいことが必要であり、実用的には0.5
ｇ／m²・hr・mm以下であれば充分である。このよ
うな要求を満たす物質としてポリ塩化ビニリデン
がある。その膜厚は1μm〜5μmであればよい。こ
の物質は、ラテツクスにしての液体塗布あるい
は、有機溶剤に溶解して基板１の表面に層設され
る。なお、記録物質層３の表面にも防湿層を設け
てもよい。

情報を読み取る場合には、エネルギー密度が小
さいレーザビーム６を用い、基板１を透過して記
録物質層３で反射したレーザビーム７を光検出器
８で測定する。記録物質層３に凸部４がある場合
には、レーザビームは点線に示すように進むか
ら、光検出器８で検出されない。したがつてこの
凸部４の有無から二値化した情報を読み取ること
ができる。

第３図はエアーサンドイツチタイプの光学的記
録材料を示すものである。透明な基板１０の片面
に記録物質層１１が層設されており、この記録物
質層１１に高エネルギー密度のレーザビーム等に
よつて作られた穴１２が設けられている。この微
細な穴１２によつて情報が担持される。記録物質
層１１の下に２個のリング状のスペーサ１３，１
４を介して設けられる保護層１５は、一般的には
基板１０と同じものが用いられる。この光学的記
録材料では、その外周全面に防湿層１６が層設さ
れる。

第４図に示す光学的記録材料は、基板１８と記
録物質層１９からなる第１の記録要素と、基板２
０と記録物質層２１からなる第２の記録要素とが
スペーサ２２，２３を介してサンドイツチにされ
ており、両面に情報を記録することができるよう
になつている。この光学的記録材料では、その全
面に防湿層２４が層設される。

上記構成を有する本発明は基板に防湿層を設け
たから、吸湿膨張による基板の変形を防止するこ
とができる。したがつて、基板の変形による情報
の読取りミスが生じない。また、記録物質層のう
ち特に情報が記録される面が、基板から浸透した
水分によつて経時劣化するのを防止することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図はポリメチルメタアクリル樹脂の吸湿特
性を示すグラフ、第２図ないし第４図は本発明の
光学的記録材料の実施例をそれぞれ示す断面図で
ある。 １……基板、３……記録物質層、４……凸部、
５……防湿層、６，７……レーザビーム、８……
光検出器、１０……基板、１１……記録物質層、
１３，１４……スペーサ、１５……保護層、１６
……防湿層、１８，２０……基板、１９，２１…
…記録物質層、２２，２３……スペーサ、２６…
…防湿層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 透明な基板に層設された記録物質層に、微細
   な凹凸又は穴を形成することによつて情報を記録
   する光学的記録材料において、ポリ塩化ビニリデ
   ン防湿層を前記基板に層設したことを特徴とする
   光学的記録材料。 ２ 前記基板はアクリル系を主成分とする樹脂か
   らなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の光学的記録材料。 ３ 前記基板はポリメチルメタアクリル樹脂から
   なることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
   の光学的記録材料。 ４ 前記基板はアクリルモノマーとアクリル化ウ
   レタンオリゴマーの架橋物からなることを特徴と
   する特許請求の範囲第２項記載の光学的記録材
   料。 ５ 前記塩化ビニリデンからなる防湿層は、乾燥
   膜厚が約5μm以下であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の光学的記録材料。 ６ 前記防湿層は記録物質層が層設されていない
   基板の片面及び端面に層設されていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の光学的記録材
   料。