JPH0251390B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0251390B2 JPH0251390B2 JP59215723A JP21572384A JPH0251390B2 JP H0251390 B2 JPH0251390 B2 JP H0251390B2 JP 59215723 A JP59215723 A JP 59215723A JP 21572384 A JP21572384 A JP 21572384A JP H0251390 B2 JPH0251390 B2 JP H0251390B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- marking
- mask
- reflected
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、マスクに文字や記号等を透孔によ
つて形成し、この透孔を透過するレーザビームに
よつてマーキングするレーザマーキング装置に関
する。
つて形成し、この透孔を透過するレーザビームに
よつてマーキングするレーザマーキング装置に関
する。
TEA CO2レーザ等を用いたレーザマーキング
装置は、一般に第２図に示すように構成されてい
る。すなわち、１はレーザ発振器で、２は出力側
ミラーである。この出力側ミラー２から出力され
たレーザビーム３はマスク４に照射されるように
なつている。このマスク４には第３図に示すよう
に、マーキングすべき文字、記号等が透孔５によ
つて形成され、この透孔５を透過したのち集光レ
ンズからなる結像光学系６によつて被マーキング
面７に結像されるように構成されている。そし
て、マスク４の透孔５がたとえば“Ａ”であれ
ば、第３図の白抜き部分ａはレーザビーム３が透
過するが、その他の部分ｂはレーザビーム３が反
射する。このマスク４はレーザビーム３を吸収し
ない材料、たとえばCO2レーザビームの場合には
銅板で形成されている。したがつて、マスク４の
透孔５を透過するレーザビーム３以外はほぼ同じ
強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示す）
これはマスク４が光路８に対して垂直であるため
で、反射光３ａは前記レーザ発振器１の出力側ミ
ラー２に戻る。このため、出力側ミラー２がレー
ザビーム３の反射光３ａによつて損傷を与える原
因となつている。
装置は、一般に第２図に示すように構成されてい
る。すなわち、１はレーザ発振器で、２は出力側
ミラーである。この出力側ミラー２から出力され
たレーザビーム３はマスク４に照射されるように
なつている。このマスク４には第３図に示すよう
に、マーキングすべき文字、記号等が透孔５によ
つて形成され、この透孔５を透過したのち集光レ
ンズからなる結像光学系６によつて被マーキング
面７に結像されるように構成されている。そし
て、マスク４の透孔５がたとえば“Ａ”であれ
ば、第３図の白抜き部分ａはレーザビーム３が透
過するが、その他の部分ｂはレーザビーム３が反
射する。このマスク４はレーザビーム３を吸収し
ない材料、たとえばCO2レーザビームの場合には
銅板で形成されている。したがつて、マスク４の
透孔５を透過するレーザビーム３以外はほぼ同じ
強度で反射されてしまう。（反射光を３ａで示す）
これはマスク４が光路８に対して垂直であるため
で、反射光３ａは前記レーザ発振器１の出力側ミ
ラー２に戻る。このため、出力側ミラー２がレー
ザビーム３の反射光３ａによつて損傷を与える原
因となつている。
この発明は、前記事情に着目してなされたもの
で、その目的とするところは、レーザビームの光
路に設置されたマスクからの反射レーザビームに
よるレーザ発振器の損傷を防止するとともに、そ
の反射レーザビームを有効に利用してマーキング
できるレーザマーキング装置を提供することにあ
る。
で、その目的とするところは、レーザビームの光
路に設置されたマスクからの反射レーザビームに
よるレーザ発振器の損傷を防止するとともに、そ
の反射レーザビームを有効に利用してマーキング
できるレーザマーキング装置を提供することにあ
る。
この発明は、前記目的を達成するために、レー
ザビームの光路にこのレーザビームに対して傾斜
する第１のマーキング用マスクを設けるととも
に、この第１のマーキング用マスクから反射する
反射レーザビームの反射光路にこの反射レーザビ
ームに対して傾斜する第２のマーキング用マスク
を設け、反射レーザビームを有効に利用すること
にある。
ザビームの光路にこのレーザビームに対して傾斜
する第１のマーキング用マスクを設けるととも
に、この第１のマーキング用マスクから反射する
反射レーザビームの反射光路にこの反射レーザビ
ームに対して傾斜する第２のマーキング用マスク
を設け、反射レーザビームを有効に利用すること
にある。
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説
明するが、レーザマーキング装置の基本的構成
は、従来と同一であるため同一番号を付して説明
を省略する。
明するが、レーザマーキング装置の基本的構成
は、従来と同一であるため同一番号を付して説明
を省略する。
第１図および第２図中、１１は第１のマーキン
グ用マスクであり、このマーキング用マスク１１
にはマーキングしようとする文字、記号などが透
孔１２によつて形成されている。そして、この第
１のマーキング用マスク１１はレーザビーム３に
対して傾斜（角度Θ1）しており、第１のマーキ
ング用マスク１１の透孔１２を透過せずに反射さ
れた反射レーザビーム１３は前記レーザビーム３
の光路８から外れるようになつている。そして、
この反射レーザビーム１３の反射光路１４にはこ
の反射レーザビーム１３に対して傾斜（角度Θ2）
して第２のマーキング用マスク１５が配置されて
いる。この第２のマーキング用マスク１５にはマ
ーキングしようとする文字、記号などが透孔１６
によつて形成されている。さらに、この第２のマ
ーキング用マスク１５の透孔１６を透過した反射
レーザビーム１３は集光レンズからなる結像光学
系１７を介して第２の被マーキング面１８に結像
されるように構成されている。
グ用マスクであり、このマーキング用マスク１１
にはマーキングしようとする文字、記号などが透
孔１２によつて形成されている。そして、この第
１のマーキング用マスク１１はレーザビーム３に
対して傾斜（角度Θ1）しており、第１のマーキ
ング用マスク１１の透孔１２を透過せずに反射さ
れた反射レーザビーム１３は前記レーザビーム３
の光路８から外れるようになつている。そして、
この反射レーザビーム１３の反射光路１４にはこ
の反射レーザビーム１３に対して傾斜（角度Θ2）
して第２のマーキング用マスク１５が配置されて
いる。この第２のマーキング用マスク１５にはマ
ーキングしようとする文字、記号などが透孔１６
によつて形成されている。さらに、この第２のマ
ーキング用マスク１５の透孔１６を透過した反射
レーザビーム１３は集光レンズからなる結像光学
系１７を介して第２の被マーキング面１８に結像
されるように構成されている。
しかして、レーザ発振器１から発振されたレー
ザビーム３は出力側ミラー２から第１のマーキン
グ用マスク１１に照射される。この第１のマーキ
ング用マスク１１には文字、記号などの透孔１２
が穿設されているため、レーザビーム３の一部は
透孔１２を透過し、さらに結像光学系６を介して
第１の被マーキング面７に結像される。したがつ
て、第１の被マーキング面７には前記第１のマー
キング用マスク１１の透孔１２によつて得られた
マークが形成される。このとき、前記第１のマー
キング用マスク１１に照射されたレーザビーム３
の一部、つまり透孔１２から外れたレーザビーム
３は第１のマーキング用マスク１１によつて反射
され、この反射レーザビーム１３は第２のマーキ
ング用マスク１５に照射される。反射レーザビー
ム１３はレーザビーム３の広がりの不均一性およ
びマーキング用マスク１１の表面粗さや平面度お
よび透孔５の幅がレーザビーム３の大きさと比較
して極めて小さいこと（１／40以下）などの原因
からマーキング用マスク１５に到達するまでにそ
の強度分布が均一なレーザビームとなつている。
この第２のマーキング用マスク１５にも透孔１６
が穿設されているため、反射レーザビーム１３の
一部は透孔１６を透過し、さらに結像光学系１７
を介して第２の被マーキング面１８に結像され
る。
ザビーム３は出力側ミラー２から第１のマーキン
グ用マスク１１に照射される。この第１のマーキ
ング用マスク１１には文字、記号などの透孔１２
が穿設されているため、レーザビーム３の一部は
透孔１２を透過し、さらに結像光学系６を介して
第１の被マーキング面７に結像される。したがつ
て、第１の被マーキング面７には前記第１のマー
キング用マスク１１の透孔１２によつて得られた
マークが形成される。このとき、前記第１のマー
キング用マスク１１に照射されたレーザビーム３
の一部、つまり透孔１２から外れたレーザビーム
３は第１のマーキング用マスク１１によつて反射
され、この反射レーザビーム１３は第２のマーキ
ング用マスク１５に照射される。反射レーザビー
ム１３はレーザビーム３の広がりの不均一性およ
びマーキング用マスク１１の表面粗さや平面度お
よび透孔５の幅がレーザビーム３の大きさと比較
して極めて小さいこと（１／40以下）などの原因
からマーキング用マスク１５に到達するまでにそ
の強度分布が均一なレーザビームとなつている。
この第２のマーキング用マスク１５にも透孔１６
が穿設されているため、反射レーザビーム１３の
一部は透孔１６を透過し、さらに結像光学系１７
を介して第２の被マーキング面１８に結像され
る。
したがつて、第１のマーキング用マスク１１に
よつて反射された反射レーザビーム１３がレーザ
発振器１の出力側ミラー２に戻ることはなく、出
力側ミラー２の損傷を未然に防止することができ
るとともに、その反射レーザビーム１３によつて
別の被マーキング面１８にマーキングすることが
でき、２ケ所で同時にマーキングが可能となり、
レーザビームを有効に利用できる。
よつて反射された反射レーザビーム１３がレーザ
発振器１の出力側ミラー２に戻ることはなく、出
力側ミラー２の損傷を未然に防止することができ
るとともに、その反射レーザビーム１３によつて
別の被マーキング面１８にマーキングすることが
でき、２ケ所で同時にマーキングが可能となり、
レーザビームを有効に利用できる。
なお、前記一実施例においては、第１のマーキ
ング用マスク１１の反射レーザビーム１３を第２
のマーキング用マスク１５に照射し、第２の被マ
ーキング面１８に結像するようにしたが、第２の
マーキング用マスク１５の反射レーザビームを利
用して第３のマーキングを行なうこともできる。
ング用マスク１１の反射レーザビーム１３を第２
のマーキング用マスク１５に照射し、第２の被マ
ーキング面１８に結像するようにしたが、第２の
マーキング用マスク１５の反射レーザビームを利
用して第３のマーキングを行なうこともできる。
以上説明したように、この発明によれば、レー
ザビームの光路にこのレーザビームに対して傾斜
する第１のマーキング用マスクを設けるととも
に、この第１のマーキング用マスクから反射する
反射レーザビームの反射光路にこの反射レーザビ
ームに対して傾斜する第２のマーキング用マスク
を設けたから、反射レーザビームによるレーザ発
振器の損傷を未然に防止することができるととも
に、反射レーザビームによつて第２のマーキング
が同時に行なえ、レーザビームを有効に利用する
ことができるという効果を奏する。
ザビームの光路にこのレーザビームに対して傾斜
する第１のマーキング用マスクを設けるととも
に、この第１のマーキング用マスクから反射する
反射レーザビームの反射光路にこの反射レーザビ
ームに対して傾斜する第２のマーキング用マスク
を設けたから、反射レーザビームによるレーザ発
振器の損傷を未然に防止することができるととも
に、反射レーザビームによつて第２のマーキング
が同時に行なえ、レーザビームを有効に利用する
ことができるという効果を奏する。
第１図はこの発明の一実施例を示すレーザマー
キング装置全体の構成図、第２図は従来のレーザ
マーキング装置の構成図、第３図はマスクの正面
図である。 １……レーザ発振器、３……レーザビーム、
６，１７……結像光学系、７，１８……被マーキ
ング面、８，１４……光路、１１……第１のマー
キング用マスク、１２……透孔、１３……反射レ
ーザビーム、１５……第２のマーキング用マス
ク。
キング装置全体の構成図、第２図は従来のレーザ
マーキング装置の構成図、第３図はマスクの正面
図である。 １……レーザ発振器、３……レーザビーム、
６，１７……結像光学系、７，１８……被マーキ
ング面、８，１４……光路、１１……第１のマー
キング用マスク、１２……透孔、１３……反射レ
ーザビーム、１５……第２のマーキング用マス
ク。
Claims (1)
- １ レーザ発振器から発振されたレーザビームを
光路に設置したマスクの透孔から透過したのち結
像光学系によつて被マーキング面に結像するレー
ザマーキング装置において、前記レーザビームの
光路にこのレーザビームに対して傾斜して設けら
れ第１の被マーキング面に結像される透孔を有す
る第１のマーキング用マスクと、この第１のマー
キング用マスクの透孔から外れたレーザビームが
反射する反射レーザビームの反射光路にこの反射
レーザビームに対して傾斜して設けられ第２の被
マーキング面に結像される透孔を有する第２のマ
ーキング用マスクとを具備したことを特徴とする
レーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215723A JPS6194793A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215723A JPS6194793A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6194793A JPS6194793A (ja) | 1986-05-13 |
| JPH0251390B2 true JPH0251390B2 (ja) | 1990-11-07 |
Family
ID=16677111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59215723A Granted JPS6194793A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6194793A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0562590U (ja) * | 1992-02-01 | 1993-08-20 | 保男 米盛 | 丸編み機 |
| RU2696804C1 (ru) * | 2018-12-20 | 2019-08-06 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Способ маркировки поверхности контролируемыми периодическими структурами |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5251642U (ja) * | 1975-10-13 | 1977-04-13 | ||
| JPS5295425U (ja) * | 1976-01-14 | 1977-07-16 | ||
| JPS58162348A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-09-27 | Toshiba Corp | レ−ザ−印刷装置 |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59215723A patent/JPS6194793A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6194793A (ja) | 1986-05-13 |
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