JPH0251432B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】

本発明は新規な１−オキサデチアセフアロスポ
リン化合物に関するものである。 本発明者らは、広範囲の抗菌スペクトルを有し
しかも耐性菌に有効である１−オキサデチアセフ
アロスポリン化合物の探索を意図した研究におい
て、１−オキサデチアセフアロスポリン核の７位
および３位に種々の置換基を導入して新規な１−
オキサデチアセフアロスポリン類を合成し、それ
らの抗菌性を検討中に、広範囲の抗菌力を有する
と共に、しかも経口投与でも優れた感染治療効果
を示す新規な物質を見に出し、本発明を完成させ
た。 即ち本発明は次の一般式(1) ｛式中R₁はC₁〜C₄アルキル基を表わし、また
R₂は式 （但しR₃は水素原子又はカルボキシル基であ
る）の基を表わすか又は式 〔但しR₄はアミノ基であり、R₅はC₁〜C₄アル
キル基又は式 （但しR₆とR₇は同一でも異なつてもよく、そ
れぞれ水素原子又はC₁〜C₄アルキル基である）
の基である〕の基を表わす｝で示される１−オキ
サデチアセフアロスポリン化合物、及びその無毒
性塩及び無毒性エステルを提供するものである。 一般式(1)の化合物の具体例としては次の化合物
がある。 実施例No. 化合物名 １（ｂ） ７−（２チエニルアセトアミド）−１−
オキサ−１−１−デチア−３−メチルチオ−３
−セフエム−４−カルボン酸 ２（ｂ） ７−（３−チエニルアセトアミド）−１
−オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−３−
セフエム−４−カルボン酸 ３（ｂ） ７−｛２−（２−チエニル）−２−カルボ
キシアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア
−３−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボ
ン酸 ４（ｂ） ７−｛２−（３−チエニル）−２−カルボ
キシアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア
−３−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボ
ン酸 ５（ｂ） ７−｛２−（３−チエニル）−２−フエノ
キシカルボニルアセトアミド｝−１−オキサ−
１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエム−
４−カルボン酸 ６（ｂ） ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド｝−１−
オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セ
フエム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩 ７（ｂ） ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−エトキシイミノアセトアミド｝−１−
オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セ
フエム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩 ８（ｂ）） ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−カルボキシメトキシイミノアセトア
ミド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メチル
チオ−３−セフエム−４−カルボン酸トリフル
オロ酢酸塩 ９（ｂ） ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−フエノキシカルボニルメトキシイミ
ノアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア−
３−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボン
酸トリフルオロ酢酸塩 10（ｂ） ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−カルボキシプロプ−２−オキシイミ
ノアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア−
３−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボン
酸トリフルオロ酢酸塩 11（ｂ） ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリ
ル）−２−フエノキシカルボニルプロプ−２−
オキシイミノアセトアミド｝−１−オキサ−１
−デチア−３−メチルチオ−３−セフエム−４
−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩 本発明による一般式(1)のセフアロスポリン化合
物のうち、R₂が （式中R₄，R₅は前記の意義を有する）の場合
には、該化合物はシン（syn）異性体の形態であ
る。 また本発明はその範囲内に、一般式(1)の化合物
の溶媒和物、特に水和物を包含する。さらに本発
明は式(1)の化合物の無毒性塩及び無毒性エステ
ル、特に代謝上不安定なエステルをも包含する。
無毒性とは、医薬的に許容し得る意味である。 一般式(1)で表わされる本発明の化合物の近縁化合
物には、特開昭54−154786号公報に開示されてい
るセフタジダイム（Ceftazidime）等がある。し
かし、これらはセフエム核の７位側鎖の１部が本
発明の新規化合物(1)のそれと共通する系統のもの
であるけれども、その３位の置換基が本発明化合
物のそれと明確に異なる。すなわち、セフタジダ
イムの３位置換基はピリジニウムメチル基である
ことに対し、本発明の新規化合物(1)のそれは低級
アルキルチオ基である。さらに該公報には、そこ
に開示される具体的化合物が経口的に投与される
ことを何ら開示されていない。これに対し、本発
明の新規化合物は、７位および３位の置換基とし
て特定なものが組合せであることにより、非経口
投与ばかりでなく経口投与にても感染治療効果が
達成できるように改良されたものである。 また現在市販されているセフアロスポリン系の
経口抗菌剤として代表的なセフアトリジ、セフア
クロル、セフロキサジン等と比較して、本発明の
新規化合物はより広域なかつより高い抗菌活性を
示し、経口投与による感染治療効果も数段優れて
いる利点を有することが認められた。たとえば、
本発明による式(1)の化合物のうち代表的な化合物
を抗菌剤としてセフロキサジンと比較すると次の
利点がある。すなわち、 (イ) 生体外におけるグラム陽性菌及びグラム陰性
菌に対する抗菌スペクトルとして、各種細菌に
対する最低即止濃度（MIC）を第１表に示し
たが、この表から明らかなように、本発明の新
規化合物の代表的な実施例１（ｂ），２（ｂ），３
（ｂ）及び４（ｂ）の化合物はセフロキサジンに
比較して広範囲の抗菌スペクトルを示し、更に
その抗菌力も耐性菌に有効でかつセフロキサジ
ンに比べ優れている。すなわち本発明の化合物
はグラム陽性菌としてのスタフイロコツカス・
アウレウスに対し実用上充分な抗菌性を示すば
かりでなく、広範囲のグラム陰性菌、例えばエ
シエリシア・コリ：クレブシエラ・ニユーモニ
ア；プロテウス・ブルガリス；プロテウス・ミ
ラビリス；プロテウス・モルガニイ；セラチ
ア・マルセセンス；シゲラ・デセントリア；シ
ユードモナス・エルギノーザなどの菌に対して
もセフロキサジンに比し優れた抗菌作用を示し
た。

【表】 (ロ) 本発明の新規化合物は経口投与の場合にも、
生体内の細菌感染に対して治療効果が高い。す
なわち、マウス（平均体重20ｇ）におけるエシ
エリシア・コリNo.29の感染症に対して経口投与
した場合の本発明化合物感染治療効果を試験し
た。この感染治療試験では、マウス（１群３
匹）に3.25×10⁵CFU／マウスの接種量で前記
の細菌を腹膣内接種し、その直後に、供試化合
物を経口投与し、７日間観察してマウス生存数
を記録した。その結果を第２表に示した。たと
えば、本発明の化合物の例として用いた実施例
６（ｂ）の化合物はセフロキサジンに比べ優れ
た生体内治療効果を示した。

【表】 上記に例証されるごとく、本発明による式(1)の
化合物は抗菌剤として優れた性質を有するため
に、ヒトを含す哺乳動物の細菌感染症の治療又は
予防に経口又は非経口的に投与しうる有用な抗生
物質である。 したがつて、本発明はさらに、前記一般式(1)で
示される１−オキサデチアセフアロスポリン化合
物、及びその無毒性塩もしくは無毒性エステルの
少くとも一つを有効成分とする抗菌剤を提供す
る。 一般式(1)の化合物の無毒性塩、すなわち医薬上
許容し得る塩類としては、存在するカルボキシル
基との反応により生成される慣用的な非毒性の塩
（カルボキシレート）、特に無機塩基との塩類、例
えばナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ
金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、亜鉛塩
のようなアルカリ土類金属塩があり、また、リジ
ン、アルギニン、オルニチン、ヒスチジンのよう
な塩基性アミノ酸との付加塩があり、さらに有機
アミン塩、その他の、セフアロスポリンと通常塩
を形成するような塩基性塩との付加塩がある。 また、本発明化合物（）の他の無毒性塩とし
ては、該化合物のアミノ基又は他の塩基性基にお
ける塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など
の無機酸との付加塩があり、またトリフルオロ酢
酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、マ
イレン酸、酒石酸、ｐ−トルエンスルホン酸のよ
うな有機カルボン酸又は有機スルホン酸との付加
塩、並びにアスパラギン酸、グルタミン酸のよう
な酸性アミノ酸との付加塩類があり、さらに分子
間又は分子内塩等をあげることができる。 また本発明化合物（）の無毒性エステルとし
ては、そのカルボキシル基における薬学的に許容
できるエステル形成基とのエステルがあるが、そ
の中でも、代謝上不安定なエステルが好ましい。
後者は生体的で加水分解して除去し得るエステル
形成基を有する化合物である。かゝるエステル形
成基の例としてはアセトキシメチル基、ピバロイ
ルオキシメチル基、α−エトキシカルボニルオキ
シエチル基、フタリジル基、フエニル基等の芳香
族基をあげることができる。 なお、本発明による一般式（）の化合物の毒
性を評価するために次の急性毒性試験を行つた。 すなわち、本発明の化合物として、本発明の実
施例１（ｂ）〜実施例６（ｂ）の各化合物を１／
15Mリン酸緩衝液（PH7.0）に夫々に溶解して溶
液を調製し、それらの溶液を、本発明化合物の投
与量が3.0ｇ／ｋｇになるようにしてJcl：ICRマ
ウス（雄、５週令、体重16±１ｇ、１群３匹）に
夫々に１回静脈注射した。本発明化合物の投与
後、観察して各マウス群の14日間のマウス生存数
を算定した。その結果を第３表に示す。

【表】 第３表に示した結果から明らかなように、本発
明による供試化合物は何れも静脈注射で3.0ｇ／
Ｋｇの与量では死亡例が認められず、従つてその
急性毒性はLD₅₀が3.0／Ｋｇ以上であると判定さ
れる。それ故、本発明の化合物は急性毒性が低い
と認められる。 抗菌剤としての使用に際し、本発明の化合物は
ヒトの細菌性感染症に対しては、成人に対し１回
投与量として50〜1500mg、好ましくは100〜1000
mgを１日４〜６日、経口又は非経口的に投与され
る。本発明の抗菌剤は通常、本発明の化合物と固
体又は液体の賦形剤とから構成される。剤型とし
ては、錠剤、カプセル、散剤、予製散剤のような
固形製剤、または注射液、懸濁液、シロツプのよ
うな液体製剤の型に製造される。ここに使用され
る固体または液体の賦形剤としては、当該分野で
公知のものが使用される。前述のように、成人で
例示したような１回の投与量に必要な本発明の化
合物を含むように製剤化するのが好ましい。 本発明の一般式（）の化合物は、例えば次の
方法(1)又は(2)に従つて製造できる。 (1) 次の一般式（） （式中、R₁は前記の意義を有し、R₈は水素
原子又は公知のカルボキシル保護基を表わす）
の１−オキサデチア−３−アルキルチオ−７−
アミノ−セフエム化合物の７位アミノ基に一般
式（） （式中、R₉は水素原子又は保護されてもよ
いカルボキシル基を表わし、−COR₁₀はカルボ
キシル基又はその反応性誘導体を表わす）のチ
エニル化合物を反応（アシル化）させ、そして
要すれば保護基（R₈，等）を除去することか
らなる方法。 (2) 上記の一般式（）の１−オキサデチア−３
−アルキルチオ−７−アミノ−セフエム化合物
の７位アミノ基に一般式（） （式中、R₁₁は水素原子又は、保護されていて
もよいアミノ基を表わし、R₁₂はC₁〜C₄アルキル
基又は保護されていてもよいカルボキシルアルキ
ル基を表わす）のチアゾリル化合物（シン異性体
の形）又はその化合物（）のカルボキシル基に
おける反応性誘導体を反応（アシル化）させ、そ
して要すれば保護基を除去することからなる方
法。 上記の方法(1)又は(2)はアミド生成のためのそれ
自体公知の反応を利用するものである。一般式
（），（），（）の化合物中のカルボキシル基
の保護基としてはｐ−ニトロベンジル基、ジフエ
ニルメチル基、ｔ−ブチル基、トリメチルシリル
基、ビスジメチルシリル基、トリメトキシシリル
基、ビスジメトキシシリル基等が用いられる。こ
れらの保護基の除却は公知のカルボキシル保護基
脱離法で行なわれる。一般式（）又は（）の
化合物中のカルボキシル基における適当な反応性
誘導体としては、酸ハライド、酸無水物、活性ア
ミド、活性エステルなどが含まれる。そのうち好
ましいものとしてはビルスマイヤー試薬の誘導
体、酸クロライド、酸ブロマイド、置換リン酸
（例えばジアルキルリン酸、フエニルリン酸、ジ
フエニルリン酸、ジベンジルリ酸、ハロゲン化リ
ン酸）混合酸無水物、ジアルキル亜リン酸混合酸
無水物、芳香族カルボン酸混合酸無水物などの混
合酸無水物、対称型酸無水物、イミダゾール、４
−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリ
アゾール、テトラゾールなどのイミノ基含有複素
環化合物との活性アミド、Ｎ−ヒドロキシ化合物
（例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシアミン、１
−ヒドロキシ−２（Ｈ）ピリドン、Ｎ−ヒドロキ
シサクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミ
ド、１−ヒドロキシベンズトリアゾール、１−ヒ
ドロキシ−６−クロルベンズトリアゾールなど）
との活性エステルが含まれる。 式（）又は（）の酸化合物による式（）
の化合物の７位アミノ基のアシル化は縮合剤、あ
とえばＮ，N′−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド又はＮ−エチル−N′−γ−ジメチルアミノプ
ロピルカルボジイミドのようなカルボジイミド、
たとえばカルボニルジイミダゾールのようなカル
ボニル化合物又はＮ−エチル−５−フエニルイソ
オキサゾリウムパークロレートのようなイソオキ
サゾリウム塩のような公知の脱水剤の存在下で実
施するのが好ましい。 遊離酸の形又は前述した反応性誘導体の形の式
（）又は（）の化合物を用いるアミド生成の
ための上記アシル化反応は無水反応媒体、たとえ
ば酢酸エチル、メチレンクロライド、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド又はアセトニト
リル中で実施するのが好ましい。所望により、上
記アシル化反応は４−ジメチルアミノピリジンの
ような触媒の存在下で実施される。また一般式
（）の化合物中のアミノ基のための保護基とし
てはペニシリン、セフアロスポリン化合物につい
て慣用のものが用いられ、上記のアシル化反応後
に除去しうるアミノ保護基である。例えばトリチ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル基の如きアラルキル
オキシカルボニル基；トリクロルエトキシカルボ
ニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基の如きアルコ
キシカルボニル基；クロルアセチル基、ブロムア
セチル基、トリフルオロアセチル基、ホルミル基
の如きアルカノイル基；フタロイル基；若しくは
ハロゲン、ニトロ、またはC₁〜C₄低級アルキル
基で置換されたベンゾイル基等が用いられる。 本発明の式（）の化合物のうち、R₂が基 （式中R₄，R₅は前記の意義を有する）の場合、
異体性の混合物として得られる場合には、そのシ
ン異性体はたとえば晶出又はクロマトグラフイー
のような従来法により分離できる。 上記の製造法で原流として用いられる一般式
（）の化合物は特開昭57−85394号公報又は特開
昭54−154786号公報に開示されている方法に従つ
て調製される。また、別の原料の一般式（）の
１−オキサデチア−セフエム化合物は本出願人の
出願に係る特願昭56−198466号明細書に記載され
た方法で調製された次式（） 〔式中、Ａはアシル基を表わし、R′は水素又
はメトキシ基を表わし、R″はカルボキシル保護
基を表わす〕の１−オキサ−１−デチア−３−ヒ
ドロキシセフアロスポリン化合物から出発して、
若しくは「Heterocycles」18巻201〜209頁
（1982）に記載された次式 〔式中、φはフエニル基を示す〕の化合物から
出発して、後記の参考例で示した手法により調製
できる。 以下、本発明を実施例について説明する。 実施例 １ (a) ７−（２−チエニルアセトアミド）−１−オキ
サ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の合成 （但しMeはメチル基、φはフエニル基を示す） ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル43.5mg（0.11ミリモル）を
0.6mlの酢酸エチルにとかし、氷冷下にて、ピリ
ジン12μ、２−チエニルアセチルクロリド21mg
（0.13ミリモル）を加えて30分間反応する。 反応後、酢酸エチル５mlを加え、３mlの水で水
洗２回、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除去
した。ベンゼン酢酸エチル（５：１）で展開した
シリカゲル−クロマトグラフイーにかけて単離し
て40mg（46％）の表題化合物を得た。 nmr；δ（CDCl₃）：2.2（3H，ｓ），3.85（2H，
ｓ）4.5（2H，ｓ），5.00（1Hd，ｊ＝４），5.75
（IHdd，Ｊ＝4.8），6.4（IHd，Ｊ＝８），6.6〜7.9
（13Hm） (b) ７−（２−チエニルアセトアミド）−１−オキ
サ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸の合成 前項ａの生成物の28mg（0.054ミリモル）にア
ニソール84μを加え、氷冷下にトリフルオロ酢
酸280μを加え10分間反応する。反応後、トリ
フルオロ酢酸を除去し、イソプロピルエーテルで
沈澱させ乾燥すると13mg（68％）の表題化合物を
得た。 nmr，δ（CD₃COCD₃）： 2.2（3Hs），3.9（2Hs）， ４・75（2Hs），5.15（1H ｄ，Ｊ＝４）５・６（1Hdd， Ｊ＝4.8，），6.9〜7.4（4H ｍ） 実施例 ２ (a) ジフエニルメチル・７−（３−チエニルアセ
トアミド）−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボキシレー
トの合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステル33mg（0.084ミリモル）を
1.0mの塩化メチレンに溶解し、３−チエニル
酢酸13.1mg（0.092ミリモル）を加え、氷冷下に
ジンクロヘキシルカルボジイミド19.6mg（0.095
ミリモル）を加え、３時間反応する。 反応後、沈澱物を過し、溶媒を除去し、ベン
ゼン−酢酸エチル（５；１）で展開するシリカゲ
ルクロマトグラフイーで単離して33mg（77％）の
表題化合物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.3（3H，ｓ），3.70（2H， ｓ），4.5（2H，ｓ），5.00 （1H，ｄ，Ｊ＝４），5.75（１ Ｈ，dd，Ｊ＝4.8），6.6〜 7.9（13H，ｍ） (b) ７−（３−チエニルアセトアミド）−１−オキ
サ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸の合成 前項ａの生成物の33mg（0.063ミリモル）にア
ニソール100μを加え、氷冷下にトリフルオロ
酢酸330μを加え、10分間反応する。 反応後、トリフルオロ酢酸を除去し、イソプロ
ピルエーテルで沈澱とし、乾燥すると15mg（67
％）の表題化合物を得た。 nmr，δ（CD₃COCD₃）： 2.35（3H，ｓ），3.70（2H， ｓ），4.75（2H，ｓ），5.15 （1H，ｄ，Ｊ＝４），5.60（1H， dd，Ｊ＝4.8）7.05〜7.80 （4Hm） 実施例 ３ (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（２−チエニ
ル）−２−ジフエニルメトキシカルボニルアセ
トアミド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボキシレー
トの合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル27mg〔0.07ミリモル〕を
0.8mの塩化メチレンに溶解し２−チエニルマ
ロン酸のモノジフエニルメチルエステル25mg
（0.07ミリモル）を加え、氷冷下でジシクロヘキ
シルカルボジイミド16.3mg（0.08ミリモル）を加
え氷冷下で１夜反応させる。 反応後、沈澱物を過し、溶媒を除去し、ベン
ゼン−酢酸エチル（15：１）で展開するシリカゲ
ルクロマトグラフイーで単離して表題化合物40mg
（77％）を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.10（3H，ｓ），4.35（2H， bs），4.85（1H，ｄ，Ｊ＝ ４），4.90（1H，ｓ）5.5 （1H，dd，Ｊ＝4.8）6.75 〜7.5（26H） (b) ７−｛２−（２−チエニル）−２−カルボキシ
アセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア−３
−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸
の合成 前項ａの生成物の60mg（0.082ミリモル）にア
ニソール180μを加え、氷冷下にトリフルオロ
酢酸600μを加えて10分間反応する。反応後、
トリフルオロ酢酸を除去し、イソプロピルエーテ
ルで沈澱とし、乾燥すると21mg（64％）の表題化
合物を得た。 nmr，δ（CD₃COCD₃）： 2.30，2.33（3H，ｓ）， 4.25，4.30（2H，ｓ）， 5.15（1H，ｓ）5.25（1H ｄ，Ｊ＝４），5.65（1H，ｄ， Ｊ＝4.8），6.9〜7.5（3H， ｍ）８，20（1H，ｄ，Ｊ＝８） 実施例 ４ (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（３−チエニ
ル）−２−ジフエニルメトキシカルボニルアセ
トアミド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボキシレー
トの合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチアー３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル27mg（0.07ミリモル）を
0.8mlの塩化メチレンに溶解し、次式 の３−チエニルマロン酸のモノジフエニルメチル
エステル25mg（０・07ミリモル）を加え、氷冷下
でジシクロヘキシルカルボジイミド16.3mg（0.08
ミリモル）を加え、１夜反応させる。 反応後、沈澱物を過し、溶媒を除去し、ベン
ゼン−酢酸エチル（15：１）で展開するシリカゲ
ルクロマトグラフイーで単離して表題化合物46mg
（88％）を得る。 nmr，δ（CDCl₃）：2.20（3H，ｓ），4.50（2H， bs），４・85〜500（2H）， 5.65（1H，dd，Ｊ＝4.8）， 6.9（1H，ｓ），7.0〜7.5 （24H） (b) ７−｛２−（３−チエニル）−２−カルボキシ
アセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア−３
−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸
の合成 前項ａの生成物の46mg（0.063ミリモル）にア
ニソール140μを加え、氷冷下にトリフルオロ
酢酸460μを加え、10分間反応する。反応後、
トリフルオロ酢酸を除去し、イソプロピルエーテ
ルで沈澱とし乾燥すると17mg（68％）の表題化合
物を得る。 nmr，δ（CD₃COCD₃）： 2.25，2.30（3H，ｓ）， 4.70，4.75（2H，ｓ）， 4.9（1H，ｓ，）5.13， 5.18（1H，ｄ，Ｊ＝４）， 5.55（1H，dd，Ｊ＝4.8）， 7.10〜7.50（3H，ｍ）， 8.1（1H，ｄ，Ｊ＝８） 実施例 ５ (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（３−チエニ
ル）−２−フエノキシカルボニルアセトアミド｝
−１−オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−
３−セフエム−４−カルボキシレートの合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステル63mg（0.16ミリモル）を塩化
メチレン1.2mlに溶解し、３−チエニルマロン酸
モノフエニルエステル46mg（0.17ミリモル）を加
え氷冷下攬拌する。１−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール24mg（0.176ミリモル）を加え、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド36mg（0.176ミリモル）
を加え氷冷下に１時間、室温で１時間反応する。
反応後、不溶物を過し、塩化メチレンを除去す
る。酢酸エチル５mlに溶解し、水２mlで水洗、飽
和重曹水２mlで洗い、水洗（2m×３）後、硫
酸マグネシウムで乾燥した。ベンゼン−酢酸エチ
ル（10：１）で展開するシリカゲルクロマトグラ
フイーで単離して62mgの（60％）の表題化合物を
得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.15，2.18（3H，ｓ） 4.45，4.50（2H，ｄ）， 4.95（1H，ｓ），5.00（1H ｄ），5.20，5.23（1H，dd）， 6.85（1H，ｓ），7.0〜7.7 （18H，ｍ） (b) ７−｛２−（３−チエニル）−２−フエノキシ
カルボニルアセトアミド｝−１−オキサ−１−
デチア−３−メチルチオ−３−セフエム−４−
カルボン酸の合成 前項ａの生成物の100mg（0.156ミリモル）をア
ニソール300μに溶解し、氷冷下にトリフルオ
ロ酢酸１mlを加える。10分反応後、トリフルオロ
酢酸を除去し、イソプロピルエーテルで沈澱と
し、乾燥すると56ml（87.5％）の表題化合物を得
た。 nmr，δ（CD₃COCD₃）： 2.35（3H），4.75（2H）， 5.25（2H），5.65（1H）， 7.0〜7.7（8H），8.15 （1H） 実施例 ６ (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−メトキシイミ
ノアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア−
３−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボキ
シレートのシン異性体の合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル93mg（0.235ミリモル）を
2.8mlの塩化メチレンに溶解し、次式 の２−（２−トリチルアミノ−４−チアゾリル）−
２−メトキシイミノ酢酸のシン異性体106mg
（0.24ミリモル）を加える。氷冷下にてピリジン
78μ、オキシ塩化リン40μを加え、30分間反
応する。反応後、ジクロロメタン10ml及び水５ml
を加え分液、分取した有機溶液を重曹水で洗い、
水の５mlで水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した後
に溶媒を除去した。ベンゼン−酢酸エチル（５：
１）のシリカゲルクロマトグラフイーで単離して
165mg（85.6％）の目的物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.25（3H，ｓ），4.05（3H， ｓ），4.60（2H，ｄ），5.07 （1H，ｄ，Ｊ＝４），5.77（1H， dd，Ｊ＝４，８），6.7（1H，ｄ， Ｊ＝８），6.85（1H，ｓ），7.1 (b) ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−メトキシイミノアセトアミド｝−１−オキ
サ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩のシン
異性体の合成 前項ｃの生成物、シン異性体の165mg（0.2ミリ
モル）をアニソール500μに溶解し、氷冷下に
トリフルオロ酢酸1.65mを加えて30分反応す
る。反応後、イソプロピルエーテルで沈澱させ、
乾燥すると73mg（70.6％）の目的物を得た。 nmr，δ（CD₃COCD₃）：2.3（3H，ｓ），3.85
（3H， ｓ），4.73（2H，ｄ），5.15 （1H，ｄ，Ｊ＝４），5.48（1H， dd，Ｊ＝４，８）6.75（1H， ｓ），9.33（1H，ｄ，Ｊ＝８） 実施例 ７ (a) ジフエニルメチル．７−｛２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−エトキシイミ
ノアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチア−
３−メチルチオ−３−セフエム−４−カルボキ
シレートのシン異性体の合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル91mg（0.23ミリモル）を
2.7mlの塩化メチレンに溶解し、２−（２−トリチ
ルアミノ−４−チアゾリル）−２−エトキシイミ
ノ酢酸のシン異性体116mg（0.25ミリモル）を加
え氷冷下ピリジン78mlとオキシ塩化リン40μ
（0.26ミリモル）を加えて30分反応する。反応後、
塩化メチレン10ml、水５mlを加え分液する。重曹
水で洗い、水洗（５ml×２）、硫酸マグネシウム
で乾燥、溶媒を除去した。ベンゼン−酢酸エチル
（５：１）のシリカゲルクロマトグラフイーで単
離して122mg（64％）の目的物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：1.25（3H，ｔ，Ｊ＝８），
2.2 （3H，ｓ），3.95（2H，ｑ，Ｊ＝ ８），4.10（2H，ｄ），5.00 （1H，ｄ，Ｊ＝４），5.60（1H， ｄ，Ｊ＝８），6.60（1H，ｓ）， 7.1〜７，７（25H） (b) ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−エトキシイミノアセトアミド｝−１−オキ
サ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩のシン
異性体の合成 前項ａの生成物の122mg（0.146ミリモル）を
370μのアニソールに溶解し、氷冷下に1.22mgの
トリフルオロ酢酸を加えて30分反応する。反応
後、イソプロピルエーテルで沈澱させ乾燥すると
52mg（67.5％）の目的物を得た。 nmr，δ（CD₃COCD₃）： 1.15（3H，ｔ，Ｊ＝８），2.2 （3H，ｓ），4.0（2H，ｑ，Ｊ ＝８），4.65（2H，bs）， 5.05（1H，ｄ，Ｊ＝４）， 5.40（1H，ｄ，Ｊ＝８）， 6.65（1H，ｓ），９，12（1H， ｄ，Ｊ＝８） 実施例 ８ (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−３級ブトキシ
カルボニルメトキシイミノアセトアミド｝−１
−オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−３−
セフエム−４−カルボキシレートのシン異性体
の合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル44mg（0.11ミリモル）を
1.3mlの塩化メチレンに溶解し、２−（２−トリチ
ルアミノ−４−チアゾリル）−２−３級−ブトキ
シカルボニルメトキシイミノ酢酸のシン異性体60
mg（0.11ミリモル）を加え、氷冷下、ピリジン
36μ、オキシ塩化リン11.4μを加えて30分反応
する。反応後、塩化メチレンを５mg、水2mg加え
て分液、重曹水で洗い、水洗（２ml×２）、硫酸
マグネシウムで乾燥、溶媒を除去した。ベンゼン
−酢酸エチル（５：１）のシリカゲルクロマトグ
ラフイーで単離した50mg（50％）の目的物を得
た。 nmr，δ（CDCl₃）：1.4（9H，ｓ），2.20（3H， ｓ），4.5（2H，ｄ），4.85 （ｓ，2H），5.0（1H，ｄ，Ｊ ＝４），5.75（1H，ｄ，Ｊ＝ ４，８），6.70（1H，ｓ）， 6.90（1H，ｓ），７・０〜7.6 （25H），8.0（1H，ｄ，Ｊ＝ ８） (b) ７−｛２（２−アミノ−４−チアゾリル）−２
−カルボキシメトキシイミノアセトアミド｝−
１−オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−３
−セフエム−４−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩のシン異性体の合成 前項ａの生成物の50mg（0.05ミリモル）をアニ
ソール150μに溶解し、氷冷下トリフルオロ酢
酸0.5mlを加え30分間反応する。反応後、イソプ
ロピルエーテルで沈澱させ乾燥すると21mg（66
％）の目的物を得た。 nmr，δ（CD₃SOCD₃）： 2.25（3H，ｓ），4.6（4H）， 5.15（1H，ｄ，Ｊ＝４）， 5.55（1H，dd，Ｊ＝４，８）， 6.8（1H，ｓ），9.2（1H，ｄ， Ｊ＝８） 実施例 ９ (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−フエノキシカ
ルボニルメトキシイミノアセトアミド｝−１−
オキサ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セ
フエム−４−カルボキシレートのシン異性体の
合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル44mg（0.11ミリモル）を
1.3mlの塩化メチレンに溶解し、２−（２−トリチ
ルアミノ−４−チアゾリル）−２−フエノキシカ
ルボニルメトキシイミノ酢酸のシン異性体62mg
（0.11ミリモル）を加え、氷冷下、ピリジン36μ
、オキシ塩化リン11.4μを加えて30分間反応
する。反応後、塩化メチレン22ml、水２ml加えて
分液、重曹水で洗い、水洗（２ml×２）、硫酸マ
グネシウムで乾燥、溶媒を反応した。 ベンゼン−酢酸エチル（５：１）のシリカゲルク
ロマトグラフイーで単離して52mg（50％）の目的
物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.20（3H，ｓ），4.53（2H， ｄ），4.8（2H，ｓ），５，03 （1H，ｄ，Ｊ＝４），5.70（1H，ｄ，Ｊ＝
４，８），6.78（1H， ｓ），6.85（1H，ｓ），7.0〜 7.6（30H），7.95（1H，ｄ， Ｊ＝８） (b) ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−フエノキシカルボニルメトキシイミノアセ
トアミド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸トリ
フルオロ酢酸塩のシン異性体の合成 前項ａの生成物の52mg（0.055ミリモル）をア
ニソール150μに溶解し、氷冷下にトリフルオ
ロ酢酸0.5mlを加え30分間反応する。反応後、イ
ソプロピルエーテルで沈澱させ、乾燥して24mg
（66％）の目的物を得た。 nmr，δ（CD₃SOCD₃）： 2.30（3H，ｓ），4.65（4H）， 5.15（1H，ｓ，Ｊ＝４），5.5 （1H，dd，Ｊ＝４，８），6.8 （1H，ｓ），7.25（5H）， 9.25（1H，ｄ，Ｊ＝８） 実施例 10 (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−３級ブトキシ
カルボニルプロブ−２−オキシイミノアセトア
ミド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メチル
チオ−３−セフエム−４−カルボキシレートの
シン異性体の合成 ７−アミノ−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフ
エニルメチルエステル44mg（0.11ミリモル）を
1.3mlの塩化メチレンに溶解し、２−（２−トリチ
ルアミノ−４−チアゾリル）−２−３級ブトキシ
カルボニルプロプ−２−オキシイミノ酢酸のシン
異性体63mg（0.11ミリモル）を加え、氷冷下、ピ
リジン36μ、オキシ塩化リン11.4μを加えて30
分反応する。反応後、塩化メチレンを５ml、水２
ml加う分液、重曹水で洗い、水洗（２ml×２）、
硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を除去した。ベン
ゼン−酢酸エチル（５：１）のシリカゲルクロマ
トグラフイーで単離して52mg（50％）の目的物を
得た。 nmr，δ（CDCl₃）：1.4（9H，ｓ），1.6（3H， ｓ），1.65（3H，ｓ），2.2 （3H，ｓ），4.6（2H，ｓ）， 5.1（1H，ｄ，Ｊ＝４）， 5.7（1H，ｄ，Ｊ＝４，８）， 6.70（1H，ｓ），6.85（1H， ｓ），7.0〜7.7（25H）， 7.9（1H，ｄ，Ｊ＝８） (b) ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−カルボキシプロプ−２−オキシイミノアセ
トアミド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メ
チルチオ−３−セフエム−４−カルボン酸トリ
フルオロ酢酸塩のシン異性体の合成 前項ａの生成物の52mg（0.055ミリモル）をア
ニソール150μに溶解し、氷冷下トリフルオロ
酢酸520μを加えて60分間反応する。反応後イ
ソプロピルエーテルで沈澱させ乾燥すると21mg
（60％）の目的物を得た。 nmr，δ（CD₃SOCD₃）： 1.35（3H，ｓ），1.40（3H， ｓ），2.25（3H，ｓ），4.65 （2H，ｓ），5.05（1H，ｄ，Ｊ ＝４），5.5（1H，dd，Ｊ＝ 4.8），6.8（1H，ｓ），９，３ （1H，ｄ，Ｊ＝８） 実施例 11 (a) ジフエニルメチル・７−｛２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−フエノキシカ
ルボニルプロプ−２−オキシイミノアセトアミ
ド｝−１−オキサ−１−デチア−３−メチルチ
オ−３−セフエム−４−カルボキシレートのシ
ン異性体の合成 ７−アミノ−オキサ−１−デチア−３−メチル
チオ−３−セフエム−４−カルボン酸のジフエニ
ルメチルエステル44mg（0.11ミリモル）を1.3ml
のの塩化メチレンに溶解し、２−（２−トリチル
アミノ−４−チアゾリル）−２−フエノキシカル
ボニルプロプ−２−オキシイミノ酢酸のシン異性
体65mg（0.11ミリモル）を加え、氷冷下にピリジ
ン36μ、オキシ塩化リン、11.4μ（0.12ミリモ
ル）を加えて30分間反応する。反応後、塩化メチ
レンを５ml、水２ml加え、分液、重曹水で洗い水
洗42ml×２）、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を
除去した。ベンゼン−酢酸エチル（５：１）のシ
リカゲルクロマトグラフイで単離して58mg（55
％）の目的物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：1.6（3H，ｓ），1.65（3H， ｓ），2.20（3H，ｓ），4.8 （2H，ｓ），5.05（1H，ｄ， Ｊ＝４），5.70（1H，ｄ，Ｊ ＝4.8），6.80（H1，ｓ）， 6.90（1H，ｓ），７・０〜 ７・６（30H），8.00（1H，ｄ， Ｊ＝８） (b) ７−｛２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−
２−フエノキシカルボニルプロプ−２−オキシ
イミノアセトアミド｝−１−オキサ−１−デチ
ア−３−メチルチオ−３−セフエム−４−カル
ボン酸トリフルオロ酢酸塩のシン異性体の合成 前項ａの生成物の55mg（0.057ミリモル）をア
ニソール165μに溶解し、氷冷下トリフルオロ
酢酸550μを加え30分間反応する。反応後、イ
ソプロピルエーテルで沈澱させ乾燥すると23mg
（60％）の目的物で得た。 nmr，δ（CD₃SOCD₃）： 1.35（3H，ｓ），1.40（3H， ｓ），2.30（3H，ｓ），5.15 （1H，ｓ，Ｊ＝４），5.6（1H， dd，Ｊ＝４，８），6.8（1H， ｓ），7.25（5H），9.25（１ Ｈ，ｄ，Ｊ＝８） 参考例 (a) パラーニトロベンジン・７−α−ベンゾイル
アミド−１−オキサ−１−デチア−３−メチル
チオ−３−セフエム−４−カルボキシレートの
合成 （但しφはフエニル，Meはメチル基を示す） パラーニトロベンジン・７−α−ベンゾイル
「アミド」−１−オキサ−１−デチア−３−ヒドロ
キシ−３−セフエム−４−カルボキシレート440
mg（１ミリモル）を44mlの酢酸エチルに溶解し−
30℃に冷却する。ジイソプロピルエチルアミン
193μを加え、10分後メタンスルホニルクロリ
ド77μ（１ミリモル）を加えて10分反応する。 反応後、ジイソプロピルエチルアミン386μ
を加えメチルメルカプタンの30％のメタノール溶
液0.8mlを加え５℃で２時間反応する。 反応後、10mlの水で水洗、10mlのIN−HClで
洗い、10mlの水で水洗後、硫酸マグネシウムで乾
燥、溶媒を除去した。ベンゼン−酢酸エチル
（５：１）で展開するシリカゲルクロマトグラフ
イーで単離して120mgの表題化合物を得た。 質量スベクトル（Ｍ／ｅ）：469（M⁺） nmr，δ（CD₃COCD₃）： 3.4（3H，ｓ），4.7（2H， ｓ），5.0（1H，dd，Ｊ＝１， ８），5.45（1H，ｄ，Ｊ＝１）， 5.5（2H，ｓ），7.4〜8.3 （9H），8.65（1H，ｄ，Ｊ＝８） (b) ジフエニルメチル．７−α−ベンゾイルアミ
ド−１−オキサ−１−デチア−３−メチルチオ
−３−セフエム−４−カルボキシレートの合成 前項ａの生成物の234mgをエタノール−水
（90：10）70mlに溶解し10％pd−Ｃの23mgを加え
室温下、１時間水素ガス流下に加水素分解して脱
保護反応した。その後、溶媒を過し濃縮する。 ジフエニルジアゾメタンの塩化メチレン溶液を
加えてエステル化し溶媒を濃縮後、ベンゼン−酢
酸エチル（３：１）で展開するシリカゲルクロマ
トグラフイーで分離して240mgの目的物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.3（3H，ｓ），4.5（2H， ABq），4.9（1H，ｄ，Ｊ＝ １），5.0（1H，dd，Ｊ＝１， ８），6.9（1H，ｓ），7.0〜 7.9（16H） (c) ジフエニルメチル．７−α−アミノ−１−オ
キサ−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフ
エム−４−カルボキシレートの合成 前項ｂの生成物の500mg（１ミリモル）を塩化
メチレン６mlに溶解する。 五塩化リンの416mg（２ミリモル）を塩化メチ
レン４mlに懸濁し、氷冷下ピリジン240μを加
え、室温で30分反応した。反応後、氷冷下にて、
β−ラクタムの塩化メチレン溶液を適下し１時間
反応する。 反応後、−30℃に冷却し、メタノール５mlを加
え、２〜３℃で30分反応する。次に−30℃に冷却
し、水５mlを加え、２〜３℃で30分反応。 次に反応混合物を濃縮し、酢酸エチル20mlを加
え、NaHCO₃でPHを７にする。 ５mlの水で水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を除去した。ベンゼン−酢酸エチル
（１：１）で展開するシリカゲルクロマトグラフ
イーにかけて280mgの目的物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.2（3H，ｓ），4.0（1H， ｓ），4.5（2H，ｄ），4.65 （1H，ｓ），6.95（1H，ｓ）， 7.0〜8.0（11H） (b) ジフエニルメチル・７−α.（３，５−ジ−３
級ブチル−４−ヒドロキシベンジリデンアミ
ノ）−１−オキサ−１−デチア−３−メチルチ
オ−３−セフエム−４−カルボキシレートの合
成 前項ｃの生成物の160mg（0.4ミリモル）をベン
ゼン64mlに溶解し、３，５−ジ−３級ブチル−４
−ヒドロキシベンズアルデヒド103mgを加えて加
熱、還流し、さらに濃縮すると260mgの目的物を
得た。 nmr，δ（CDCl₃）：1.50（18H，ｓ），2.3（3H， ｐ），4.65（2H，ｄ），4.75 （1H，ｓ），5.15（1H，ｓ）， 5.6（9H，ｓ），6.95（1H， ｓ），7.2〜8.0（13H）， 8.45（1H，ｄ） (e) ジフエニルメチル・７−β−（３，５−ジ−
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジリデンアミ
ノ）−１−オキサ−１−デチア−３−メチルチ
オ−３−セフエム−４−カルボキシレートの合
成 前項ｄの生成物の260mg（0.4ミリモル）を塩化
メチレン5.2mlに溶解し、０℃で硫酸マグネシウ
ム160mg、過酸化ニツケル154mgを加え10分反応さ
せる。 反応後、過助剤を用いてろ過し、氷冷下にテ
トラエチルアンモニウムボロハイドライド16mg
（0.11ミリモル）加えて30分反応する。 反応後、IN−HClでPHを6.5にし、10mlの水で
２回水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して
286mgの表題化合物を得た。次の反応には、精製
せずに用いた。 (f) ジフエニルメチル・７−アミノ−１−オキサ
−１−デチア−３−メチルチオ−３−セフエム
−４−カルボキシレートの合成 前項ｅの生成物の286mgを塩化メチレン4.8mlに
溶解し、ジラード・Ｔ試薬133mgのメタノール溶
液5.3mlを氷冷下に適下する。30分後、酢酸エチ
ル15ml加え、水洗（10ml×２）、硫酸マグネシウ
ムで乾燥、さらに溶媒を除去した。ベンゼン−酢
酸エチル（１：１）で展開するシリカゲルクロマ
トグラフイーで単離すると93mgの目的物を得た。 nmr，δ（CDCl₃）：2.3（3H，ｓ），4.5（1H，ｄ， Ｊ＝８），4.6（2H，ｄ），5.0 （2H，ｄ，Ｊ＝８），6.9（1H， ｓ），7.1〜7.6（10H）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式(1) ｛式中、R₁はC₁〜C₄アルキル基を表わし、ま
   たR₂は式 （但しR₃は水素原子又はカルボキシル基であ
   る）の基を表わすか又は式 〔但しR₄はアミノ基であり、R₅はC₁〜C₄アル
   キル基又は式 （但しR₆とR₇は同一でも異なつてもよく、そ
   れぞれに水素原子又はC₁〜C₄アルキル基である）
   の基である〕の基を表わす｝で示される１−オキ
   サデチアセフアロスポリン化合物及びその無毒性
   塩及び無毒性エステル。 ２ 次の一般式(1) ｛式中、R₁はC₁〜C₄アルキル基を表わし、た
   R₂は式 （但しR₃は水素原子又はカルボキシル基であ
   る）の基を表わすか又は式 〔但しR₄はアミノ基であり、R₅はC₁〜C₄アル
   キル基又は式 （但しR₆とR₇は同一でも異なつてもよく、そ
   れぞれ水素原子又はC₁〜C₄アルキル基である）
   の基である〕の基を表わす｝で示される１−オキ
   サデチアセフアロスポリン化合物、及びその無毒
   性塩及び無毒性エステルの少くとも一つを有効成
   分として含むことを特徴とする抗菌剤。