JPS609514B2 - ７−アミノ−３′−ノルセファロスポラン酸類 - Google Patents
７−アミノ−３′−ノルセファロスポラン酸類Info
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- JPS609514B2 JPS609514B2 JP51093809A JP9380976A JPS609514B2 JP S609514 B2 JPS609514 B2 JP S609514B2 JP 51093809 A JP51093809 A JP 51093809A JP 9380976 A JP9380976 A JP 9380976A JP S609514 B2 JPS609514 B2 JP S609514B2
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/085—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a nitrogen atom directly attached in position 3
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は強力な抗菌作用を有するセフアロスポリン新類
似体への重要な合成中間体、特に７８−アミノー１ーオ
キサデチアセフアロスポリン類に関する。
似体への重要な合成中間体、特に７８−アミノー１ーオ
キサデチアセフアロスポリン類に関する。
本発明化合物を一般式で示すと、次のように表わすこと
ができる。
ができる。
（式中、
ＲＩは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低
級アルキルスルホニルオキシ基、アリールチオ基または
メチルテトラゾリルチオ基；Ｒ２はＣＯＯ日または（ニ
トロまたはフエニル）ペンジルオキシカルボニル基：Ｒ
３は水素原子またはメトキシ基； をそれぞれ表わす） 一般式（１）で示される本発明化合物は、以下の反応工
程図１〜８に示す方法で製造することができる。
級アルキルスルホニルオキシ基、アリールチオ基または
メチルテトラゾリルチオ基；Ｒ２はＣＯＯ日または（ニ
トロまたはフエニル）ペンジルオキシカルボニル基：Ｒ
３は水素原子またはメトキシ基； をそれぞれ表わす） 一般式（１）で示される本発明化合物は、以下の反応工
程図１〜８に示す方法で製造することができる。
一般式（１）において、ＲＩがハロゲン原子またはスル
ホニルオキシ基である化合物（ｌａ）は反応工程図−１
に示した方法で製造することができる。
ホニルオキシ基である化合物（ｌａ）は反応工程図−１
に示した方法で製造することができる。
反応工程図−１
（但し、式中Ｒはアミノ保護基、Ｒ′はカルボン酸保護
基、Ｘはハロゲン原子またはスルホニルオキシ基をそれ
ぞれ表わす：Ｒ２は前述同様の意味を有する）上記工程
における原料物質（ｎ）は公知の物質であり、例えば侍
開昭５１−４１３８５号明細書に記載の方法で製造する
ことができる。
基、Ｘはハロゲン原子またはスルホニルオキシ基をそれ
ぞれ表わす：Ｒ２は前述同様の意味を有する）上記工程
における原料物質（ｎ）は公知の物質であり、例えば侍
開昭５１−４１３８５号明細書に記載の方法で製造する
ことができる。
また、本発明者らの方法により、次の反応工程図−２に
従って製造してもよい。反応工程図−２ （但し、式中Ｘ′およびＸ″はそれぞれハロゲン原子、
Ｒ″はェステル残基をそれぞれ表わす：ＲおよびＲ′は
前述同様の意味を有する）上記反応工程図−２における
反応は、各上程ごとに示した反応工程を満足する公知の
反応条件に従って行えばよい。
従って製造してもよい。反応工程図−２ （但し、式中Ｘ′およびＸ″はそれぞれハロゲン原子、
Ｒ″はェステル残基をそれぞれ表わす：ＲおよびＲ′は
前述同様の意味を有する）上記反応工程図−２における
反応は、各上程ごとに示した反応工程を満足する公知の
反応条件に従って行えばよい。
反応工程図一１に示した工程により得られる化合物（ｌ
ａ）は一般式（１）のＲＩがハロゲン原子またはスルホ
ニルオキシ基、Ｒ２が同意義、Ｒ３が水素原子である化
合物に相当する。
ａ）は一般式（１）のＲＩがハロゲン原子またはスルホ
ニルオキシ基、Ｒ２が同意義、Ｒ３が水素原子である化
合物に相当する。
反応工程図一１に示した各工程の反応条件を詳しく説明
すると次のとおりである。工程ａ（０→ｍ） ３位の水酸基をハロゲン原子に置き換えるか、スルホニ
ル化剤でスルホニル化して、所望の３−ハロゲン体ある
いは３−スルホニルオキシ体とする。
すると次のとおりである。工程ａ（０→ｍ） ３位の水酸基をハロゲン原子に置き換えるか、スルホニ
ル化剤でスルホニル化して、所望の３−ハロゲン体ある
いは３−スルホニルオキシ体とする。
３位水酸基のハロゲン化反応は、通常水酸基のハロゲン
化に利用される反応方法（例えば三ハロゲン化リンＰＸ
３、塩化チオニルなどによる方法）によっても達成可能
であるが、本発明においては既知のハロゲン化方法の内
、特にハロゲン化オキサリル（例、塩化オキサリル）、
オキシハロゲン化リン（例、オキシ塩化リン）、ハロゲ
ン（例、塩素）−トリフェニルホスフィンなどによる反
応法が、好ましい方法として適用される。
化に利用される反応方法（例えば三ハロゲン化リンＰＸ
３、塩化チオニルなどによる方法）によっても達成可能
であるが、本発明においては既知のハロゲン化方法の内
、特にハロゲン化オキサリル（例、塩化オキサリル）、
オキシハロゲン化リン（例、オキシ塩化リン）、ハロゲ
ン（例、塩素）−トリフェニルホスフィンなどによる反
応法が、好ましい方法として適用される。
３位水酸基のスルホニル化反応は、通常水酸基のスルホ
ニル化反応と同様に行うことができる。
ニル化反応と同様に行うことができる。
スルホニル化剤の具体例としては、ハロゲン化アルキル
スルホニル（塩化メチルスルホニル、塩化エチルスルホ
ニルなど）、ハロゲン化アリールスルホニル（塩化ベン
ゼンスルホニル、塩化トルヱンスルホニルなど）が挙げ
られる。反応は通常のスルホニル化反応の条件に従って
、例えば、ピリジン、トリェチアミンなどの第三級アミ
ンの存在下、上記ハロゲン化剤を反応せしめることによ
り行う。工程ｂ（ｍ→ｌａ） この工程では、７位アミノ保護基と、必要に応じて４位
カルボン酸保護基とを同時に、または段階的に、保護基
の性質に応じて水解的にもしくは還元的に除去する。
スルホニル（塩化メチルスルホニル、塩化エチルスルホ
ニルなど）、ハロゲン化アリールスルホニル（塩化ベン
ゼンスルホニル、塩化トルヱンスルホニルなど）が挙げ
られる。反応は通常のスルホニル化反応の条件に従って
、例えば、ピリジン、トリェチアミンなどの第三級アミ
ンの存在下、上記ハロゲン化剤を反応せしめることによ
り行う。工程ｂ（ｍ→ｌａ） この工程では、７位アミノ保護基と、必要に応じて４位
カルボン酸保護基とを同時に、または段階的に、保護基
の性質に応じて水解的にもしくは還元的に除去する。
本発明に使用される７位アミノ保護基および４位カルボ
ン酸保護基は、ペニシリンあるいはセフアロスポリンの
合成化学において通常繁用されるものであり、公知の方
法で容易に脱離除去することができる。一般式（１）に
おいて、ＲＩがハロゲン原子、スルホニルオキシ基以外
のものは、以下の反応工程図のように製造することがで
きる。
ン酸保護基は、ペニシリンあるいはセフアロスポリンの
合成化学において通常繁用されるものであり、公知の方
法で容易に脱離除去することができる。一般式（１）に
おいて、ＲＩがハロゲン原子、スルホニルオキシ基以外
のものは、以下の反応工程図のように製造することがで
きる。
反応工程図−３
（但し、式中Ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＸは前述同様の意味
を有する。
を有する。
）反応工程図−３は、一般式（１）におけるＲＩが水素
原子である化合物を製造するための工程を示す。
原子である化合物を製造するための工程を示す。
工程ｃ（ｍ→Ｗ）
一般式（ｍ）で示される化合物の３位ハロゲン原子もし
くはスルホニルオキシ基を還元的に脱離して、３位非置
換のオキサデチアセフヱム骨格を調製する。
くはスルホニルオキシ基を還元的に脱離して、３位非置
換のオキサデチアセフヱム骨格を調製する。
この工程での還元反応は、他の置換基および官能基を損
わずに、特異的に３位ハロゲン原子もしくはスルホニル
オキシ基を還元脱離する方法として、金属と酸の組合せ
、特に亜鉛−酢酸の組合せによる方法が効果的である。
反応は公知の方法に従って行えばよい。工程ｄ（Ｗ→ｌ
ｂ） この工程は前述の工程ｂと全く同じ目的の水解もし〈は
還元工程であり、ペニシリンあるいはセフアロスポリン
の合成化学で繁用される方法に従って行えばよい。
わずに、特異的に３位ハロゲン原子もしくはスルホニル
オキシ基を還元脱離する方法として、金属と酸の組合せ
、特に亜鉛−酢酸の組合せによる方法が効果的である。
反応は公知の方法に従って行えばよい。工程ｄ（Ｗ→ｌ
ｂ） この工程は前述の工程ｂと全く同じ目的の水解もし〈は
還元工程であり、ペニシリンあるいはセフアロスポリン
の合成化学で繁用される方法に従って行えばよい。
なおこの工程の目的化合物（ｌｂ）は、次の反応工程図
に従って製造してもよい。
に従って製造してもよい。
（但し、式中ＲおよびＲ′は前述同様の意味を有する。
）＊ 上記反応工程図−４における反応は、各工程ごと
に示した反応工程を満足する公知の反応条件に従って行
えばよい。
に示した反応工程を満足する公知の反応条件に従って行
えばよい。
一般式（１）において、ＲＩがアリールチオ基または単
環性へテロ環チオ基である化合物は、次の反応工程図に
従って製造することができる。
環性へテロ環チオ基である化合物は、次の反応工程図に
従って製造することができる。
反応工程図一５（但し、式中Ｒ、Ｒ１、Ｒ２および×は
前述同様の意味を有する：Ｙはアリールチオ基または単
環性へテロ環チオ基を表わす。
前述同様の意味を有する：Ｙはアリールチオ基または単
環性へテロ環チオ基を表わす。
）工程ｅ（町→Ｖ）
化合物（皿）の３位ハロゲン原子もしくはスルホニルオ
キシ基を、所望のアリールチオ基もしくは単環性へテロ
環チオ基と置換する。
キシ基を、所望のアリールチオ基もしくは単環性へテロ
環チオ基と置換する。
本反応は、原料化合物（ｍ）と対応するアリールチオー
ルもしくは単環性へテロ環チオールとを弱塩基の存在下
に反応させるか、あるいは対応するチオールの塩と反応
させればよい。弱塩基としては、ピリジン、トリェチル
アミンなどの有機塩基が特に好ましい。反応は通常、室
温で容易に進行する。工程ｆ（Ｖ→ｌｃ）この工程は前
述の工程ｂおよびｄと全く同じ目的の水解もしくは還元
工程であり、これらの工程と同様の条件で反応を行うこ
とができる。
ルもしくは単環性へテロ環チオールとを弱塩基の存在下
に反応させるか、あるいは対応するチオールの塩と反応
させればよい。弱塩基としては、ピリジン、トリェチル
アミンなどの有機塩基が特に好ましい。反応は通常、室
温で容易に進行する。工程ｆ（Ｖ→ｌｃ）この工程は前
述の工程ｂおよびｄと全く同じ目的の水解もしくは還元
工程であり、これらの工程と同様の条件で反応を行うこ
とができる。
また、この工程の目的化合物（ｌｃ）は、次の反応工程
図に従って製造することができる。
図に従って製造することができる。
反応工程図−６（但し、式中Ｒ、ＲＩおよびＹは前述同
様の意味を有する。
様の意味を有する。
）★ 上言己反応工程図−６における反応は、各工程ご
とに示した反応工程を満足する公知の反応条件に従って
行えばよい。
とに示した反応工程を満足する公知の反応条件に従って
行えばよい。
一般式（１）において、ＲＩが低級アルコキシ基である
化合物は、次の反応工程図に従って製造することができ
る。
化合物は、次の反応工程図に従って製造することができ
る。
反応工程図−７
（但し、式中Ｒ、Ｒ′およびＲ２は前述同様の意味を有
する：Ｒ…は低級アルキル基を表わす。
する：Ｒ…は低級アルキル基を表わす。
）工程ｇ（０→Ｗ）この工程の反応は、ケトンのヱノー
ルェーテル化反応の条件に従って行うか、あるいはジア
ゾアルカンなど通常カルボン酸のェステル化に利用する
試薬を用いて行う。
ルェーテル化反応の条件に従って行うか、あるいはジア
ゾアルカンなど通常カルボン酸のェステル化に利用する
試薬を用いて行う。
ケトンのェノールェーテル化反応とは、例えば、トリア
ルキルオルト蟻酸ェステル（例：トリェチルオルト蟻酸
ェステル）な＊どを使用する反応、アルコールとｐート
ルェンスルホン酸による反応などである。また、ジアゾ
アルカン（ジアゾメタン、ジアゾエタンなど）によるア
ルキル化反応も本発明においては髪湯される。これらの
反応はそれぞれ公知の反応法に従って行えばよい。工程
ｈ（Ｗ→ｌｄ） この工程の反応は、前述の工程ｂ、ｄ、ｆと全く同じ水
解もし〈は還元反応を目的とする工程であり、これらの
工程と同じ条件で反応を行うことができる。
ルキルオルト蟻酸ェステル（例：トリェチルオルト蟻酸
ェステル）な＊どを使用する反応、アルコールとｐート
ルェンスルホン酸による反応などである。また、ジアゾ
アルカン（ジアゾメタン、ジアゾエタンなど）によるア
ルキル化反応も本発明においては髪湯される。これらの
反応はそれぞれ公知の反応法に従って行えばよい。工程
ｈ（Ｗ→ｌｄ） この工程の反応は、前述の工程ｂ、ｄ、ｆと全く同じ水
解もし〈は還元反応を目的とする工程であり、これらの
工程と同じ条件で反応を行うことができる。
一般式（１）において、Ｒ３がメトキシ基である化合物
は、次の反応工程図に従って製造することができる。
は、次の反応工程図に従って製造することができる。
反応工程図−８
（但し、式中ＲＩおよびＲ２は前述同機の意味を有する
）工程 原料化合物（ｌｆ）は上述反応工程図１〜７により得ら
れる各自的化合物に相当する。
）工程 原料化合物（ｌｆ）は上述反応工程図１〜７により得ら
れる各自的化合物に相当する。
反応工程図−８に示した７位メトキシ基の導入には、ペ
ニシリンおよびセフアロスポリンの化学において一般に
利用される７−メトキシ基導入法がそのまま適用できる
。それらの方法を詳説すれば次のとおりである。方法１ 原料化合物（ｌｆ）の７−アミ／基をアシル化して、対
応する７ーアシルアミノ体とし、これにメトキシリチウ
ム（ＬｉＯＣＨ３）および次亜塩素酸・ｔ−ブチル（ｔ
−ＢｕＯＣＩ）を下宿性溶媒中低温で反応せしめる（ベ
ルギー特許第８１７８３６号）。
ニシリンおよびセフアロスポリンの化学において一般に
利用される７−メトキシ基導入法がそのまま適用できる
。それらの方法を詳説すれば次のとおりである。方法１ 原料化合物（ｌｆ）の７−アミ／基をアシル化して、対
応する７ーアシルアミノ体とし、これにメトキシリチウ
ム（ＬｉＯＣＨ３）および次亜塩素酸・ｔ−ブチル（ｔ
−ＢｕＯＣＩ）を下宿性溶媒中低温で反応せしめる（ベ
ルギー特許第８１７８３６号）。
次いで、７位アシル保護基を除去する。方法２
原料化合物（ｌｆ）の７ーアミノ基に亜硝酸ナトリウム
を反応せしめて７−ジアゾ体｛ａ）とし、これにハロァ
ジド（ナトリウムアジドと対応するハロゲンから調製す
る）（例：ＢｒＮ３・ＣＩＮ３、ＩＮ３）を反応せしめ
て対応するハロアジド体‘ｂーとし、次いでこれにメタ
ノールを反応せしめて、更に還元的にアジドを分解して
やれば、所望の７−アミノ−７ーメトキシ体（ｌｅ）が
得られる。
を反応せしめて７−ジアゾ体｛ａ）とし、これにハロァ
ジド（ナトリウムアジドと対応するハロゲンから調製す
る）（例：ＢｒＮ３・ＣＩＮ３、ＩＮ３）を反応せしめ
て対応するハロアジド体‘ｂーとし、次いでこれにメタ
ノールを反応せしめて、更に還元的にアジドを分解して
やれば、所望の７−アミノ−７ーメトキシ体（ｌｅ）が
得られる。
本工程を反応式により説明すると、次のように表わすこ
とができる。（特閥昭４７一９３１）（但し、式中ＲＩ
およびＲ２は前述同様の意味を有する；×′′′はハロ
ゲン原子を表わす。
とができる。（特閥昭４７一９３１）（但し、式中ＲＩ
およびＲ２は前述同様の意味を有する；×′′′はハロ
ゲン原子を表わす。
）方法３
原料化合物（ｌｆ）にｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド
（特にｐ−ヒドロキシの隣接位に嵩高い置換基を有する
、例えば３・５ージーｔーブチル−４−ヒドロキシベン
ズアルデヒドが好ましい）を反応せしめてペンジリデン
議導体【ｃ’とし、これを適当な酸化剤（例：過酸化ニ
ッケル、四酢酸鉛）で酸化してキノイド型誘導体【ｄー
とし、これにメタノールを反応させて、７Ｑーメトキシ
体‘ｅーとした後、ベンジリデン基を水解（通常ジラー
ル試薬により処理する）してやると、所望の７８−ァミ
ノ−７Ｑ−メトキシ体（ｌｅ）が得られる。
（特にｐ−ヒドロキシの隣接位に嵩高い置換基を有する
、例えば３・５ージーｔーブチル−４−ヒドロキシベン
ズアルデヒドが好ましい）を反応せしめてペンジリデン
議導体【ｃ’とし、これを適当な酸化剤（例：過酸化ニ
ッケル、四酢酸鉛）で酸化してキノイド型誘導体【ｄー
とし、これにメタノールを反応させて、７Ｑーメトキシ
体‘ｅーとした後、ベンジリデン基を水解（通常ジラー
ル試薬により処理する）してやると、所望の７８−ァミ
ノ−７Ｑ−メトキシ体（ｌｅ）が得られる。
本工程を反応式により説明すると、次のように表わすこ
とができる。（袴関昭５０−５０３９４）（但し、式中
ＲＩおよびＲ２は前述同機の意味を有する。）方法４ その他の方法としては下記反応式のごとき方法も利用で
きる。
とができる。（袴関昭５０−５０３９４）（但し、式中
ＲＩおよびＲ２は前述同機の意味を有する。）方法４ その他の方法としては下記反応式のごとき方法も利用で
きる。
即ち、原料化合物（ｌｆ）の７位アミノ基を、Ｑ位に少
くとも１ケの水素原子を有するァシル基で保護し、この
７ーアシルアミノ誘導体【ｆｌをハロゲン化剤と処理し
てィミノハラィド議導体（ｇ）とし、これを塩基と処理
してハロゲン化水素を脱離せしめ、得られるケテンィミ
ン誘導体（ｈ）をハロゲン化してジハロゲノイミン譲導
体（ｉ）とし、これにアルカリ金属メトキシドを反応せ
しめ、次いで適宜水解して、アシル基を除去する。（特
開昭５０一１２６６９２）（但し、式中ＲＩおよびＲ２
は前述同様の意味を有する；Ｑ′およびＱ″は水素原子
または適当な置換基を、ＸおよびＸ′はハロゲン原子を
それぞれ表わす。
くとも１ケの水素原子を有するァシル基で保護し、この
７ーアシルアミノ誘導体【ｆｌをハロゲン化剤と処理し
てィミノハラィド議導体（ｇ）とし、これを塩基と処理
してハロゲン化水素を脱離せしめ、得られるケテンィミ
ン誘導体（ｈ）をハロゲン化してジハロゲノイミン譲導
体（ｉ）とし、これにアルカリ金属メトキシドを反応せ
しめ、次いで適宜水解して、アシル基を除去する。（特
開昭５０一１２６６９２）（但し、式中ＲＩおよびＲ２
は前述同様の意味を有する；Ｑ′およびＱ″は水素原子
または適当な置換基を、ＸおよびＸ′はハロゲン原子を
それぞれ表わす。
）一般式（１）で表わされる本発明化合物は、新しい型
の１−オキサデチアセフアロスポリン類を製造する上で
の重要な合成中間体となるものであり、本発明化合物（
１）の７位遊離アミノ基に、ペニシリンあるいはセフア
ロスポリン化学の領域で常用される種々のァシル基を導
入することにより、強力な抗菌作用を示す化合物を得る
ことができる。
の１−オキサデチアセフアロスポリン類を製造する上で
の重要な合成中間体となるものであり、本発明化合物（
１）の７位遊離アミノ基に、ペニシリンあるいはセフア
ロスポリン化学の領域で常用される種々のァシル基を導
入することにより、強力な抗菌作用を示す化合物を得る
ことができる。
以下に本発明方法実施の態様を示す。
実施例 １
７８−アミノー３−クロル−１−オキサー１−デチア−
３−セフェム−４−カルボン酸（ｌａ：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ
２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）（ｌａ：Ｒ２：Ｃ〇〇Ｈ：Ｘ
＝ＣＩ）‘１’ ７８−ペンジルオキシカルボニルアミ
ノ−３−ヒドロキシ−１−オキサ−１ーデチア−３ーセ
フヱム−４−カルボン酸・ジフェニルメチルヱステル（
０：Ｒ：ＰｈＣＨ２０Ｃ○；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１．５
夕（３のｍｏｌ）をジメチルホルムアミド３０の【にと
かし、氷水冷却下、これにピリジン０．０３Ｍ（０．３
６ｍｍｏｌｅ）を加え、次いで塩化オキサリル０．３１
の‘（３．６のｍｏｌｅ）を滴下する。
３−セフェム−４−カルボン酸（ｌａ：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ
２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）（ｌａ：Ｒ２：Ｃ〇〇Ｈ：Ｘ
＝ＣＩ）‘１’ ７８−ペンジルオキシカルボニルアミ
ノ−３−ヒドロキシ−１−オキサ−１ーデチア−３ーセ
フヱム−４−カルボン酸・ジフェニルメチルヱステル（
０：Ｒ：ＰｈＣＨ２０Ｃ○；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１．５
夕（３のｍｏｌ）をジメチルホルムアミド３０の【にと
かし、氷水冷却下、これにピリジン０．０３Ｍ（０．３
６ｍｍｏｌｅ）を加え、次いで塩化オキサリル０．３１
の‘（３．６のｍｏｌｅ）を滴下する。
室温で３時間蝿梓後、反応液を５％リン酸氷水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒
留去し、得られる残澄を２折音量のシリカゲルカラムに
通して、ベンゼン−酢酸エチル（５：１）で溶出すると
、目的の３ークロル体、７６ーベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−３ークロル−１−オキサー１ーデチア−３−
セフェム−４ーカルボン酸・ジフェニルメチルエステル
（ｍ：Ｒ＝ＰｈＣＱＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｘ＝Ｃ
Ｉ）４８９の９（収率３１．４％）が得られる。ｍｐ１
３０〜１３１００。ＩＲ：ひ生鷲〆３肌−・：３４５０
、 １８０５、１７２５、１６２０。ＮＭＲ： ６（Ｃ
ＤＣｌ３）肌：４，３２（ｓ、２Ｈ）、４，９８（ｄ、
Ｊニ４．０ＨＺ、ＩＨ）、５．１０（ｓ、２Ｈ）、５．
２０〜５．８０（ｍ、汎）「６．９７（ｓ、ＩＨ）、７
．０（ｍ、芳香環プロトン）。本品は次の方法によって
も製造できる。
、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒
留去し、得られる残澄を２折音量のシリカゲルカラムに
通して、ベンゼン−酢酸エチル（５：１）で溶出すると
、目的の３ークロル体、７６ーベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−３ークロル−１−オキサー１ーデチア−３−
セフェム−４ーカルボン酸・ジフェニルメチルエステル
（ｍ：Ｒ＝ＰｈＣＱＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｘ＝Ｃ
Ｉ）４８９の９（収率３１．４％）が得られる。ｍｐ１
３０〜１３１００。ＩＲ：ひ生鷲〆３肌−・：３４５０
、 １８０５、１７２５、１６２０。ＮＭＲ： ６（Ｃ
ＤＣｌ３）肌：４，３２（ｓ、２Ｈ）、４，９８（ｄ、
Ｊニ４．０ＨＺ、ＩＨ）、５．１０（ｓ、２Ｈ）、５．
２０〜５．８０（ｍ、汎）「６．９７（ｓ、ＩＨ）、７
．０（ｍ、芳香環プロトン）。本品は次の方法によって
も製造できる。
トリフエニルホスフイン１．６２夕（６．２ｍｍｏｌｅ
）をテトラヒドロフラン２０舷にとかし、これに、氷水
冷却鷹梓下、塩素−四塩化炭素溶液６．２ｍｍｏｌｅを
加える。
）をテトラヒドロフラン２０舷にとかし、これに、氷水
冷却鷹梓下、塩素−四塩化炭素溶液６．２ｍｍｏｌｅを
加える。
次いで、この溶液に、３−ヒドロキシ体（ロ：Ｒ＝Ｐｈ
ＣＨ２０ＣＯ：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）１．５５夕（３．１の
ｍｏｌｅ）とテトラヒドロフラン１０の‘よりなる溶液
を加え、更にトリエチルアミン０．８６の‘（６．２の
ｍｏｌｅ）を加える。反応液を室温で１．５時間燈拝し
た後、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
水洗、乾燥、溶媒留去し、得られる残澄を３ぴ音量のシ
リカゲルカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（１０
：１）で溶出すると、目的の３−クロル体（ｍ：Ｒ＝Ｐ
ｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；×＝ＣＩ）０．９
５夕（収率５９．０％）が得られる。‘２’上記３ーク
ロル体（皿：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２
：×：ＣＩ）９５０の９（１．８３ｍｍｏｌｅ）を塩化
メチレン３７叫にとかし、それにアニソール１．７８の
【（１６．５ｍｍｏｌｅ）を加える。この溶液に、塩化
アルミニウム１．４５夕（１１ｍｍｏｌｅ）とニトロメ
タン１８のの）らなる溶液を加え、室温に一夜放贋する
。反応液に氷冷２％塩酸１５の‘を加え、水層を塩化メ
チレンおよび酢酸エチルで順次洗浄し、減圧下に溶媒蟹
去する。残澄をダイヤイオンＨＰ２０（三菱化成商標；
ハィポーラスポリマー）４００夕のカラムに通して、ｐ
Ｈ３の水で溶出する。熔出液をｐＨ４．４に濃縮すると
、目的の遊離３ークロル体（１：Ｒ′＝ＣＩ；Ｒ２＝Ｃ
ＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）１７５の９（収率４３．８％）が得
られる。・Ｒ：路暮奉加‐１：３４２０・１８１８１６
３０・１６１３実施例 ２７８ーアミノー１ーオキサ−
１−デチアー３−セフェム−４ーカルボン酸（１：ＲＩ
＝Ｒ３＝Ｈ；Ｒ２＝ＣＯＯＨ）（ｌｂ：Ｒ２＝ＣＯＯＨ
）【１｝ ３ーヒドロキシ体（０：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０Ｃ
Ｏ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２）１．斑夕（３．９６ｍｍｏｌｅ）
をジメチルホルムアミド２０私にとかし、これに塩化メ
チルスルホニル０．６２の‘（２当量）を−５０ｏｏで
加え、次いでトリェチルアミン０．８３の上（１．５当
量）を加えて、同温で１３分間鷹拝する。
ＣＨ２０ＣＯ：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）１．５５夕（３．１の
ｍｏｌｅ）とテトラヒドロフラン１０の‘よりなる溶液
を加え、更にトリエチルアミン０．８６の‘（６．２の
ｍｏｌｅ）を加える。反応液を室温で１．５時間燈拝し
た後、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
水洗、乾燥、溶媒留去し、得られる残澄を３ぴ音量のシ
リカゲルカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（１０
：１）で溶出すると、目的の３−クロル体（ｍ：Ｒ＝Ｐ
ｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；×＝ＣＩ）０．９
５夕（収率５９．０％）が得られる。‘２’上記３ーク
ロル体（皿：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２
：×：ＣＩ）９５０の９（１．８３ｍｍｏｌｅ）を塩化
メチレン３７叫にとかし、それにアニソール１．７８の
【（１６．５ｍｍｏｌｅ）を加える。この溶液に、塩化
アルミニウム１．４５夕（１１ｍｍｏｌｅ）とニトロメ
タン１８のの）らなる溶液を加え、室温に一夜放贋する
。反応液に氷冷２％塩酸１５の‘を加え、水層を塩化メ
チレンおよび酢酸エチルで順次洗浄し、減圧下に溶媒蟹
去する。残澄をダイヤイオンＨＰ２０（三菱化成商標；
ハィポーラスポリマー）４００夕のカラムに通して、ｐ
Ｈ３の水で溶出する。熔出液をｐＨ４．４に濃縮すると
、目的の遊離３ークロル体（１：Ｒ′＝ＣＩ；Ｒ２＝Ｃ
ＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）１７５の９（収率４３．８％）が得
られる。・Ｒ：路暮奉加‐１：３４２０・１８１８１６
３０・１６１３実施例 ２７８ーアミノー１ーオキサ−
１−デチアー３−セフェム−４ーカルボン酸（１：ＲＩ
＝Ｒ３＝Ｈ；Ｒ２＝ＣＯＯＨ）（ｌｂ：Ｒ２＝ＣＯＯＨ
）【１｝ ３ーヒドロキシ体（０：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０Ｃ
Ｏ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２）１．斑夕（３．９６ｍｍｏｌｅ）
をジメチルホルムアミド２０私にとかし、これに塩化メ
チルスルホニル０．６２の‘（２当量）を−５０ｏｏで
加え、次いでトリェチルアミン０．８３の上（１．５当
量）を加えて、同温で１３分間鷹拝する。
反応液を氷水中に注ぎ、析出する結晶を炉取すると、目
的の３−メチルスルホニルオキシ体、７８ーベンジルオ
キシカルボニルアミノー３ーメチルスルホニルオキシー
１−オキサー１−デチア−３−セフェム−４−カルボン
酸・ジフェニルメチルェステル（ｍ：ＲニＰｈＣＨ２０
Ｃ０；Ｒ′：ＣＨＰｈ２；Ｘ＝ＯＳ０２ＣＨ３）２．１
５夕（収率９４．０％）が得られる。ＩＲ：ひ錦袋３伽
‐１：３４２０、１８１０・１７３０・１５１０、１３
６５、１１６５０ＮＭＲ：８（ＣＤＣｌ３）跡：２．９
６（ｓ、汎）、４．４６（広、２Ｈ）、４，９７（ｄ、
Ｊ：４．０日２、ＩＨ）、５．０７（ｓ、が）、５．４
５（ｄｄ．、Ｊ＝４．０ＨＺ、ＩＨ）。【２） 上記３
ーメチルスルホニルオキシ体（ｍ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０Ｃ
Ｏ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｘ＝ＯＳ０２ＣＨ３）１．１５
夕（２のｍｏｌｅ）を塩化メチレン２０の‘および酢酸
４０のとの混液にとかし、これに活性亜鉛末３夕を加え
、室温で一夜縄拝する。この間、反応開始２時間および
３時間目に、各３夕の亜鉛末を追加する。反応混合物よ
り亜鉛末を炉去し、酢酸エチルを加えて、有機層を水洗
、乾燥後、減圧下に溶媒留去すると、目的の３−デオキ
シ体、７８−ペンジルオキシカルボニルアミノー１ーオ
キサー１ーデチアー３ーセフエムー４ーカルボン酸・ジ
フェニルメチルェステル（Ｗ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；
Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）９１３泌（収率９４．２％）が粉末
状物質として得られる。ＩＲ：レ鴇舷多３伽‐１：３４
５０、１８００、１７３０、１６５０。ＮＭＲ：６（Ｃ
ＤＣ１３）跡：４．４１（ｍ、汎）、４．９５（ｄ、Ｊ
＝４．０ＨＺ、ＩＨ）、５．１５（ｓ、が）、５．５３
（ｄｄ．、Ｊ＝４．０、９．０ＨＺ、ＩＨ）、６．５１
（ｍ、ＩＨ）、６．９９（Ｓ、ＩＨ）。本品は次の方法
によっても製造できる。実施例１において得られる３ー
クロル体 （皿：Ｒ＝ＰｈＣＨ２○Ｃ〇；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｘ＝
ＣＩ）２４０の９を、塩化メチレン４の【および酢酸８
の‘の混液にとかし、活性亜鉛末０．７２夕を加えて、
室温で鷹拝する。
的の３−メチルスルホニルオキシ体、７８ーベンジルオ
キシカルボニルアミノー３ーメチルスルホニルオキシー
１−オキサー１−デチア−３−セフェム−４−カルボン
酸・ジフェニルメチルェステル（ｍ：ＲニＰｈＣＨ２０
Ｃ０；Ｒ′：ＣＨＰｈ２；Ｘ＝ＯＳ０２ＣＨ３）２．１
５夕（収率９４．０％）が得られる。ＩＲ：ひ錦袋３伽
‐１：３４２０、１８１０・１７３０・１５１０、１３
６５、１１６５０ＮＭＲ：８（ＣＤＣｌ３）跡：２．９
６（ｓ、汎）、４．４６（広、２Ｈ）、４，９７（ｄ、
Ｊ：４．０日２、ＩＨ）、５．０７（ｓ、が）、５．４
５（ｄｄ．、Ｊ＝４．０ＨＺ、ＩＨ）。【２） 上記３
ーメチルスルホニルオキシ体（ｍ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０Ｃ
Ｏ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｘ＝ＯＳ０２ＣＨ３）１．１５
夕（２のｍｏｌｅ）を塩化メチレン２０の‘および酢酸
４０のとの混液にとかし、これに活性亜鉛末３夕を加え
、室温で一夜縄拝する。この間、反応開始２時間および
３時間目に、各３夕の亜鉛末を追加する。反応混合物よ
り亜鉛末を炉去し、酢酸エチルを加えて、有機層を水洗
、乾燥後、減圧下に溶媒留去すると、目的の３−デオキ
シ体、７８−ペンジルオキシカルボニルアミノー１ーオ
キサー１ーデチアー３ーセフエムー４ーカルボン酸・ジ
フェニルメチルェステル（Ｗ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；
Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）９１３泌（収率９４．２％）が粉末
状物質として得られる。ＩＲ：レ鴇舷多３伽‐１：３４
５０、１８００、１７３０、１６５０。ＮＭＲ：６（Ｃ
ＤＣ１３）跡：４．４１（ｍ、汎）、４．９５（ｄ、Ｊ
＝４．０ＨＺ、ＩＨ）、５．１５（ｓ、が）、５．５３
（ｄｄ．、Ｊ＝４．０、９．０ＨＺ、ＩＨ）、６．５１
（ｍ、ＩＨ）、６．９９（Ｓ、ＩＨ）。本品は次の方法
によっても製造できる。実施例１において得られる３ー
クロル体 （皿：Ｒ＝ＰｈＣＨ２○Ｃ〇；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｘ＝
ＣＩ）２４０の９を、塩化メチレン４の【および酢酸８
の‘の混液にとかし、活性亜鉛末０．７２夕を加えて、
室温で鷹拝する。
反応開始４時間ないし９時間の間に、各０．７２夕の亜
鉛末を３回追加し、鷹梓下に一夜放置する。反応混合物
より亜鉛末を炉去し、炉液を水中に注ぎ、酢酸エチルで
抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮し、得られる残
澄をシリカゲルのカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチ
ル（５：１）で溶出すると、目的の３ーデオキシ体（Ｎ
：Ｒ＝ＰｈＣＨ２−ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２１５
雌（収率９６．０％）が得られる。湖上記３ーデオキシ
体（Ｗ：Ｒ＝ ＰｈＣＨ２０Ｃ。
鉛末を３回追加し、鷹梓下に一夜放置する。反応混合物
より亜鉛末を炉去し、炉液を水中に注ぎ、酢酸エチルで
抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、濃縮し、得られる残
澄をシリカゲルのカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチ
ル（５：１）で溶出すると、目的の３ーデオキシ体（Ｎ
：Ｒ＝ＰｈＣＨ２−ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２１５
雌（収率９６．０％）が得られる。湖上記３ーデオキシ
体（Ｗ：Ｒ＝ ＰｈＣＨ２０Ｃ。
；Ｒ′ニＣＨＰｈ２）９１３燐（１８，８のｍｏｌｅ）
を塩化メチレン３５の‘‘ことかし、これにアニソール
１．８５の‘（９当量）を加え、更に、塩化アルミニウ
ム１．５１夕（６当量）とニトロメタン１鰍【より成る
溶液を加え、室温に一夜放置する。反応混合物を氷冷下
に２％塩酸で抽出し、抽出水層を塩化メチレンおよび酢
酸エチルで洗浄する。水層にとげ込んでいる有機溶媒を
減圧下に轡去し、ダイヤイオンＨＰ２０（三菱化成商標
；ノ・ィボーラスポリマー）のカラムに通して、稀塩酸
（ｐＨ３．０）で溶出、溶出液を減圧濃縮すると、目的
の３ーオキサセフェム体（１：ＲＩ＝Ｒ３＝Ｈ；Ｒ２＝
ＣＯＯＨ）塩酸塩２９１の９（７０．６％収率）が得ら
れる。〔ぱ〕色４．５十１１．ｒ士２．４（ｃ＝０．２
１０メタ／‐ル）。ＩＲ：レ鰭去肌‐１：３５００、２
６００、１８０５、１６４５、１６１０、１５５０。Ｎ
ＭＲ：６（ＣＤ３０Ｄ）５．３７（ｄ、Ｊ＝４．０日２
、ＩＨ）、５．５１（ｄ、Ｊ＝４．０ＨＺ、ＩＨ）、６
．７０（ｍ、ＩＨ）柳ｏ実施例 ３ ７８−アミノー３一（１−メチルテトラゾール−５−イ
ル）チオ−１−オキサ−１−デチア−３−セフェム−４
−カルポン酸（１：ＲＩ＝１−メチルテトラゾールー５
−イルチオ；Ｒ２＝ＣＯＯＨ：Ｒ３＝Ｈ）（ｌｅ：Ｙ＝
１ーメチルテトラゾール−５ーイルチオ；Ｒ２＝ＣＯＯ
Ｈ）【１ー 実施例２で得られる３ーメチルスルホニル
オキシ体（虹：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰＨ
２：×＝ＯＳ０２ＣＨ３）１．１２夕（１．９４ｍｍｏ
ｌｅ）をジメチルホルムアミド１０叫にとかし、０℃に
冷却して、これに１ーメチルテトラゾール一５ーイルチ
オール３７３Ｍ（３．２ｍｍｏｌｅ）およびトリエチル
アミン０．４２の‘（３．０ｍｍｏｌｅ）を加え、室温
で一夜損拝する。
を塩化メチレン３５の‘‘ことかし、これにアニソール
１．８５の‘（９当量）を加え、更に、塩化アルミニウ
ム１．５１夕（６当量）とニトロメタン１鰍【より成る
溶液を加え、室温に一夜放置する。反応混合物を氷冷下
に２％塩酸で抽出し、抽出水層を塩化メチレンおよび酢
酸エチルで洗浄する。水層にとげ込んでいる有機溶媒を
減圧下に轡去し、ダイヤイオンＨＰ２０（三菱化成商標
；ノ・ィボーラスポリマー）のカラムに通して、稀塩酸
（ｐＨ３．０）で溶出、溶出液を減圧濃縮すると、目的
の３ーオキサセフェム体（１：ＲＩ＝Ｒ３＝Ｈ；Ｒ２＝
ＣＯＯＨ）塩酸塩２９１の９（７０．６％収率）が得ら
れる。〔ぱ〕色４．５十１１．ｒ士２．４（ｃ＝０．２
１０メタ／‐ル）。ＩＲ：レ鰭去肌‐１：３５００、２
６００、１８０５、１６４５、１６１０、１５５０。Ｎ
ＭＲ：６（ＣＤ３０Ｄ）５．３７（ｄ、Ｊ＝４．０日２
、ＩＨ）、５．５１（ｄ、Ｊ＝４．０ＨＺ、ＩＨ）、６
．７０（ｍ、ＩＨ）柳ｏ実施例 ３ ７８−アミノー３一（１−メチルテトラゾール−５−イ
ル）チオ−１−オキサ−１−デチア−３−セフェム−４
−カルポン酸（１：ＲＩ＝１−メチルテトラゾールー５
−イルチオ；Ｒ２＝ＣＯＯＨ：Ｒ３＝Ｈ）（ｌｅ：Ｙ＝
１ーメチルテトラゾール−５ーイルチオ；Ｒ２＝ＣＯＯ
Ｈ）【１ー 実施例２で得られる３ーメチルスルホニル
オキシ体（虹：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰＨ
２：×＝ＯＳ０２ＣＨ３）１．１２夕（１．９４ｍｍｏ
ｌｅ）をジメチルホルムアミド１０叫にとかし、０℃に
冷却して、これに１ーメチルテトラゾール一５ーイルチ
オール３７３Ｍ（３．２ｍｍｏｌｅ）およびトリエチル
アミン０．４２の‘（３．０ｍｍｏｌｅ）を加え、室温
で一夜損拝する。
反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、生成する黄色沈澱
物を炉取し、洗浄、乾燥すると、目的の３−テトラゾリ
ルチオ誘導体（Ｖ：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰ
ｈ２：Ｙ二１−メチルテトラゾール−５ーイルチオ）１
．００７夕（収率８６．７％）が黄色粉末として得られ
る。ＩＲ：ひ碑※３肌‐１：３４５０、１８０５１７３
０。ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：３．９３（ｓ、細）
、４．２８（ＡＢｑ、Ｊ＝１８ＨＺ、２Ｈ）、５．００
（ｄ、Ｊ＝４．０日２、ＩＨ）、５，１７（ｓ、汎）、
５．３０〜５．９０（ｍ、２Ｈ）、６，９８（Ｓ、ＩＨ
）。（２｝ 上記３ーテトラゾリルチオ誘導体（Ｖ：Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｙ＝１ーメチルテトラ
ゾール一５ーイルチオ）１３７の８（０．２２９肌ｍｏ
ｌｅ）を塩化メチレン４の‘にとかし、これにアニソー
ル０．２２３の‘（２．０６ｍｍｏｌｅ）を加え、次い
で、塩化アルミニウム１９０の９（１．４ｍｍｏｌｅ）
およびニトロメタン２の‘からなる溶液を加える。
物を炉取し、洗浄、乾燥すると、目的の３−テトラゾリ
ルチオ誘導体（Ｖ：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰ
ｈ２：Ｙ二１−メチルテトラゾール−５ーイルチオ）１
．００７夕（収率８６．７％）が黄色粉末として得られ
る。ＩＲ：ひ碑※３肌‐１：３４５０、１８０５１７３
０。ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：３．９３（ｓ、細）
、４．２８（ＡＢｑ、Ｊ＝１８ＨＺ、２Ｈ）、５．００
（ｄ、Ｊ＝４．０日２、ＩＨ）、５，１７（ｓ、汎）、
５．３０〜５．９０（ｍ、２Ｈ）、６，９８（Ｓ、ＩＨ
）。（２｝ 上記３ーテトラゾリルチオ誘導体（Ｖ：Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｙ＝１ーメチルテトラ
ゾール一５ーイルチオ）１３７の８（０．２２９肌ｍｏ
ｌｅ）を塩化メチレン４の‘にとかし、これにアニソー
ル０．２２３の‘（２．０６ｍｍｏｌｅ）を加え、次い
で、塩化アルミニウム１９０の９（１．４ｍｍｏｌｅ）
およびニトロメタン２の‘からなる溶液を加える。
反応混合物を室温に一夜放置し、次いで、氷冷下に２％
塩酸３の上を加える。水層を塩化メチレンおよび酢酸エ
チルで順次洗浄した後、濃縮する。この濃縮液に炭酸ナ
トリウムを加えてｐＨ２．５に調整すると、目的の７６
−アミノー３ーテトラゾ１」ルチオ誘導体（１：ＲＩ：
１−メチルテトラゾール−５ーイルチオ；Ｒ２＝ＣＯＯ
Ｈ：Ｒ３＝Ｈ）２．４柵が結晶として得られる。
塩酸３の上を加える。水層を塩化メチレンおよび酢酸エ
チルで順次洗浄した後、濃縮する。この濃縮液に炭酸ナ
トリウムを加えてｐＨ２．５に調整すると、目的の７６
−アミノー３ーテトラゾ１」ルチオ誘導体（１：ＲＩ：
１−メチルテトラゾール−５ーイルチオ；Ｒ２＝ＣＯＯ
Ｈ：Ｒ３＝Ｈ）２．４柵が結晶として得られる。
ｍｐ＞２００００。ＩＲ：ひ麓玉，仇‐１：１８２ｏ、
１６３０、１６２０。実施例 ４ ７８−アミノー３−メトキシー１ーオキサ−１−デチア
ー３−セフェムー４ーカルボン酸（１：ＲＩ＝ＯＣＨ３
；Ｒ２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）（ｌｄ：Ｒ２＝ＣＯＯＨ
；Ｒ川＝ＣＨ３）‘１’ ３ーヒドロキシ体（ロ：Ｒ＝
ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ′：ＣＨＰｈ２）１．１５夕（２
．３０ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン１２の｛にとかし、
これにジアゾメタンーエーテル溶液を加え、室温で１０
分間燈梓する。
１６３０、１６２０。実施例 ４ ７８−アミノー３−メトキシー１ーオキサ−１−デチア
ー３−セフェムー４ーカルボン酸（１：ＲＩ＝ＯＣＨ３
；Ｒ２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）（ｌｄ：Ｒ２＝ＣＯＯＨ
；Ｒ川＝ＣＨ３）‘１’ ３ーヒドロキシ体（ロ：Ｒ＝
ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ′：ＣＨＰｈ２）１．１５夕（２
．３０ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン１２の｛にとかし、
これにジアゾメタンーエーテル溶液を加え、室温で１０
分間燈梓する。
反応液を減圧下濃縮し、得られる油状残湾をシリカゲル
５０夕のカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（４：
１）で溶出精製すれば、目的の３−メトキシ体、７８ー
ベンジルオキシカルボニルアミノ−３ーメトキシー１ー
オキサー１ーデチアー３ーセフヱムー４ーカルボン酸・
ジフヱニルメチルエステル（川：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ
；Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｒ川＝ＣＨ３）０．８９夕（収率７
５％）が得られる。ＩＲ：レ視袋３ｃの‐１：３４９５
、１７９６、１７２５、１６２６、１５１２０ＮＭＲ：
６ くＣＤＣ１３）肌：３．７０（ｓ、細）、４．２３
および４．５４（ＡＢｑ、Ｊ＝１８ＨＺ、２Ｈ）、４．
９６（ｄ、Ｊ＝４．０Ｈｚ、ＩＨ）、５．１８（ｓ、が
）、５．４２（ｄｄ、Ｊ＝１０および４．０日２、ＩＨ
）、５．８１（ｄ、Ｊ＝１０ＨＺ、ＩＨ）、７．０２（
ｓ、ＩＨ）、〜７．４（ｍ、芳香環プロトン）。■上記
３−メトキシ体（Ｗ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝Ｃ
ＨＰｈ２；Ｒ′′′＝ＣＨ３）１．０６夕（２．０６ｍ
ｍｏｌｅ）を塩化メチレン２０の‘にとかし、これに冷
時、アニソール３地および三フツ化酢酸３泌を加え、１
５分間櫨拝する。
５０夕のカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（４：
１）で溶出精製すれば、目的の３−メトキシ体、７８ー
ベンジルオキシカルボニルアミノ−３ーメトキシー１ー
オキサー１ーデチアー３ーセフヱムー４ーカルボン酸・
ジフヱニルメチルエステル（川：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ
；Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｒ川＝ＣＨ３）０．８９夕（収率７
５％）が得られる。ＩＲ：レ視袋３ｃの‐１：３４９５
、１７９６、１７２５、１６２６、１５１２０ＮＭＲ：
６ くＣＤＣ１３）肌：３．７０（ｓ、細）、４．２３
および４．５４（ＡＢｑ、Ｊ＝１８ＨＺ、２Ｈ）、４．
９６（ｄ、Ｊ＝４．０Ｈｚ、ＩＨ）、５．１８（ｓ、が
）、５．４２（ｄｄ、Ｊ＝１０および４．０日２、ＩＨ
）、５．８１（ｄ、Ｊ＝１０ＨＺ、ＩＨ）、７．０２（
ｓ、ＩＨ）、〜７．４（ｍ、芳香環プロトン）。■上記
３−メトキシ体（Ｗ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝Ｃ
ＨＰｈ２；Ｒ′′′＝ＣＨ３）１．０６夕（２．０６ｍ
ｍｏｌｅ）を塩化メチレン２０の‘にとかし、これに冷
時、アニソール３地および三フツ化酢酸３泌を加え、１
５分間櫨拝する。
反応液にトルェン２０の‘を加えて減圧濃縮し、得られ
る油状残造をベンゼンにとかし、５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で抽出する。抽出液をベンゼンで洗浄し「 １
０％塩酸を加えて酸性（ｐＨ２）とした後．酢酸エチル
で抽出する。この抽出液を水し食塩水で順次洗浄し、溶
媒を減圧下に蟹去すると、遊離の４−カルボン酸、７３
−ペンジルオキシカルボニルアミノー３ーメトキシー１
ーオキサ−１−デチア−３−セフヱム−４−力ルボン酸
０．６Ｍが得られる。ＩＲ：リ錦袋３伽‐１：３４３０
、１７９３、１７２ふ １６３０、１５１０。‘３’５
％パラジウム−炭素１００の９を酢酸エチル−メタノー
ル（１：１）混液２０の‘に懸濁し、あらかじめ水素ガ
スを吸収させる。この混液に上記遊離の４−カルボン酸
２００の９（０．９３４ｍｍｏｌｅ）を加え、激しく縄
拝しながら水素ガスを吸収させる。室温で２時間損拝し
た後、触媒を炉去し、溶媒を減圧留去すると、目的の７
８−アミノ体〈１：ＲＩ＝。ＣＨ３；Ｒ２＝ＣＯＯＨ；
Ｒ３＝Ｈ＞ ６５の９（収率５３％）が得られる。ＩＲ
：レ機去伽１：〜３４０い 〜２９００、１７８ふ１６
７９１６４７。上記の炉去した触媒を、メタノール−塩
酸で数回洗浄し、洗液を減圧蟹去すると、７８−アミノ
体（１：ＲＩ＝ＯＣＨ３：Ｒ２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）
の塩酸塩６５の９（収率４５％）が白色粉末状結晶とし
て得られる。ＩＲ：〃礎主弧‐１：〜乳ｏｏ、〜３００
０、１７８７、１６９ム１６１９。実施例 ５７３−ア
ミノー３ークロルー７Ｑ−メトキシ−１ーオキサー１ー
デチアー３−セフエムー４ーカルボン酸・ｐ−ニトロベ
ンジルェステル（１：ＲＩ＝ＣＩ：Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２
・Ｃ６日４・Ｎ０２−ｐ；Ｒ３＝ＯＣＨ３）（ｌｅ：Ｒ
＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６凡・Ｎ０２−ｐ）｛
１｝ ７８ーアミノー３−クロルー１−オキサー１−デ
チアー３ーセフェムー４−カラルボン酸・ｐーニトロベ
ンジルエステル（１：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２；ＣＯＯＣＨ２
・Ｃ６日４・Ｎ０２一ｐ：Ｒ３＝Ｈ）〔実施例１で得ら
れる遊離３−クロル体（１：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯ
Ｈ；Ｒ３＝Ｈ）をエステル化することにより得られる〕
１４１雌（０．３９９ｍｍｏｌｅ）をクロロホルム７の
‘とベンゼン１の‘との濃液にとかし、これに、３・５
ージーｔーブチル−４ーヒドロキシベンズアルデヒド１
１２の９（１．２当量）を加え、モノキュラーシーブ入
り脱水管付反応容器中で加熱還流する。
る油状残造をベンゼンにとかし、５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で抽出する。抽出液をベンゼンで洗浄し「 １
０％塩酸を加えて酸性（ｐＨ２）とした後．酢酸エチル
で抽出する。この抽出液を水し食塩水で順次洗浄し、溶
媒を減圧下に蟹去すると、遊離の４−カルボン酸、７３
−ペンジルオキシカルボニルアミノー３ーメトキシー１
ーオキサ−１−デチア−３−セフヱム−４−力ルボン酸
０．６Ｍが得られる。ＩＲ：リ錦袋３伽‐１：３４３０
、１７９３、１７２ふ １６３０、１５１０。‘３’５
％パラジウム−炭素１００の９を酢酸エチル−メタノー
ル（１：１）混液２０の‘に懸濁し、あらかじめ水素ガ
スを吸収させる。この混液に上記遊離の４−カルボン酸
２００の９（０．９３４ｍｍｏｌｅ）を加え、激しく縄
拝しながら水素ガスを吸収させる。室温で２時間損拝し
た後、触媒を炉去し、溶媒を減圧留去すると、目的の７
８−アミノ体〈１：ＲＩ＝。ＣＨ３；Ｒ２＝ＣＯＯＨ；
Ｒ３＝Ｈ＞ ６５の９（収率５３％）が得られる。ＩＲ
：レ機去伽１：〜３４０い 〜２９００、１７８ふ１６
７９１６４７。上記の炉去した触媒を、メタノール−塩
酸で数回洗浄し、洗液を減圧蟹去すると、７８−アミノ
体（１：ＲＩ＝ＯＣＨ３：Ｒ２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）
の塩酸塩６５の９（収率４５％）が白色粉末状結晶とし
て得られる。ＩＲ：〃礎主弧‐１：〜乳ｏｏ、〜３００
０、１７８７、１６９ム１６１９。実施例 ５７３−ア
ミノー３ークロルー７Ｑ−メトキシ−１ーオキサー１ー
デチアー３−セフエムー４ーカルボン酸・ｐ−ニトロベ
ンジルェステル（１：ＲＩ＝ＣＩ：Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２
・Ｃ６日４・Ｎ０２−ｐ；Ｒ３＝ＯＣＨ３）（ｌｅ：Ｒ
＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６凡・Ｎ０２−ｐ）｛
１｝ ７８ーアミノー３−クロルー１−オキサー１−デ
チアー３ーセフェムー４−カラルボン酸・ｐーニトロベ
ンジルエステル（１：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２；ＣＯＯＣＨ２
・Ｃ６日４・Ｎ０２一ｐ：Ｒ３＝Ｈ）〔実施例１で得ら
れる遊離３−クロル体（１：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯ
Ｈ；Ｒ３＝Ｈ）をエステル化することにより得られる〕
１４１雌（０．３９９ｍｍｏｌｅ）をクロロホルム７の
‘とベンゼン１の‘との濃液にとかし、これに、３・５
ージーｔーブチル−４ーヒドロキシベンズアルデヒド１
１２の９（１．２当量）を加え、モノキュラーシーブ入
り脱水管付反応容器中で加熱還流する。
反応開始２．虫時間後に、アルデヒド３０の９を追加し
、更に３．虫時間反応を続ける。次いで、反応混合物を
−１５ｑｏに冷却して、硫酸マグネシウム６５の９およ
び過酸化ニッケル２１９の９を加え、同温度で３０分間
、次いで室温で４０分間損拝する。反応物を炉遇し、炉
液にメタノール５の‘を加えて、室温で１．期時間蝉洋
する。溶媒を減圧留去し、残澄をシリカゲル１２夕のカ
ラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（１９：１）で溶
出分離すると、目的の７ーメトキシ体、７Ｂ−（３・５
−ジーｔ−プチル−４ーヒドロキシベンジリデン）アミ
ノー３ークロルー７ｏーメトキシー１ーオキサー１−デ
チアー３ーセフェムー４ーカルポン酸・ｐーニトロベン
ジルエステル（ｅ：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・
Ｃ６日４・Ｎ０２−ｐ；７８一側鎖＝３．５ージーｔ−
ブチルー４ーヒドロキシベンジリデンアミノ）１２５の
９（収率５２．２％）が飴状物質として得られる。ＩＲ
：〃錦舷３弧「：１７８ｏ、１７３５、１６８０、１５
２０、１３４５。ＮＭＲ： ６（ＣＤＣ１３）胸：１．
４８（ｓ、１班）、３．６１（ｓ、細）、４．４９（ｓ
、が）、５．２３（ｓ、ＩＨ）、５．４４（芳香環プロ
トン）、８．５３（ｓ、ＩＨ）。■ 上記７ーメトキシ
体（ｅ：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６日４・
Ｎ０２一ｐ；７８一側鎖＝３・５ージーｔ−ブチルー４
ーヒドロキシベンジリデンアミノ）１２５雌をメタノー
ル２．５の‘およびテトラヒドロフラン０．５の‘の混
液にとかし、これにジラール試薬（０ｊｒａｒｄ Ｔ）
８１の９を加え、室温で１時間縄拝する。反応物を水中
に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン抽出液を
水洗、乾燥、減圧留去する。得られる残澄をシリカゲル
３．５夕のカラムに通し、ベンゼン−酢酸エチル（４：
１）溶出分画すると、目的の７ーアミノ体（１：ＲＩ＝
ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６伍・Ｎ０２一ｐ：Ｒ３
＝ＯＣは）３５Ｍ（収率４３‐８％）が得られる。ＩＲ
：レ鴇燕と３肌「：１７９０、１７４０、１５２０、１
３５０。ＮＭＲ： ６（ＣＤＣ１３）柳：１．８３（戊
、が）、３．５３（ｓ、細）、４．５４（ｓ、班）、５
．０１（ｓ、ＩＨ）、５．４７（ｓｐｌｉｔ、が）、７
．６７（ｄ、Ｊ＝９日２、ＩＨ）、８．２８（ｄ、Ｊ：
９日２、ＩＨ）、８．２８（ｄ、Ｊ＝９ＨＺ、ＩＨ）。
同様に上記いずれかの方法により次の化合物が得られる
。
、更に３．虫時間反応を続ける。次いで、反応混合物を
−１５ｑｏに冷却して、硫酸マグネシウム６５の９およ
び過酸化ニッケル２１９の９を加え、同温度で３０分間
、次いで室温で４０分間損拝する。反応物を炉遇し、炉
液にメタノール５の‘を加えて、室温で１．期時間蝉洋
する。溶媒を減圧留去し、残澄をシリカゲル１２夕のカ
ラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（１９：１）で溶
出分離すると、目的の７ーメトキシ体、７Ｂ−（３・５
−ジーｔ−プチル−４ーヒドロキシベンジリデン）アミ
ノー３ークロルー７ｏーメトキシー１ーオキサー１−デ
チアー３ーセフェムー４ーカルポン酸・ｐーニトロベン
ジルエステル（ｅ：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・
Ｃ６日４・Ｎ０２−ｐ；７８一側鎖＝３．５ージーｔ−
ブチルー４ーヒドロキシベンジリデンアミノ）１２５の
９（収率５２．２％）が飴状物質として得られる。ＩＲ
：〃錦舷３弧「：１７８ｏ、１７３５、１６８０、１５
２０、１３４５。ＮＭＲ： ６（ＣＤＣ１３）胸：１．
４８（ｓ、１班）、３．６１（ｓ、細）、４．４９（ｓ
、が）、５．２３（ｓ、ＩＨ）、５．４４（芳香環プロ
トン）、８．５３（ｓ、ＩＨ）。■ 上記７ーメトキシ
体（ｅ：ＲＩ＝ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６日４・
Ｎ０２一ｐ；７８一側鎖＝３・５ージーｔ−ブチルー４
ーヒドロキシベンジリデンアミノ）１２５雌をメタノー
ル２．５の‘およびテトラヒドロフラン０．５の‘の混
液にとかし、これにジラール試薬（０ｊｒａｒｄ Ｔ）
８１の９を加え、室温で１時間縄拝する。反応物を水中
に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン抽出液を
水洗、乾燥、減圧留去する。得られる残澄をシリカゲル
３．５夕のカラムに通し、ベンゼン−酢酸エチル（４：
１）溶出分画すると、目的の７ーアミノ体（１：ＲＩ＝
ＣＩ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６伍・Ｎ０２一ｐ：Ｒ３
＝ＯＣは）３５Ｍ（収率４３‐８％）が得られる。ＩＲ
：レ鴇燕と３肌「：１７９０、１７４０、１５２０、１
３５０。ＮＭＲ： ６（ＣＤＣ１３）柳：１．８３（戊
、が）、３．５３（ｓ、細）、４．５４（ｓ、班）、５
．０１（ｓ、ＩＨ）、５．４７（ｓｐｌｉｔ、が）、７
．６７（ｄ、Ｊ＝９日２、ＩＨ）、８．２８（ｄ、Ｊ：
９日２、ＩＨ）、８．２８（ｄ、Ｊ＝９ＨＺ、ＩＨ）。
同様に上記いずれかの方法により次の化合物が得られる
。
７８−アミノー１ーオキサー１−デチア−３−セフェム
ー４ーカルボン酸・ｐ−ニトロベンジルエステル（１：
ＲＩニＨ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６日・Ｎ０２−ｐ；
Ｒ３＝Ｈ）：（ＩＲ：レ鴇暖３肌‐１：３４０５、１７
７２、１７２６、１６３３、１６０５、１５１７、１３
４５０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：１．７４（ｂ、２
Ｈ）、４．６１（ｍ、２Ｈ）、５．０５（ｄ、１＝４．
０ＨＺ、ＩＨ）、５．４２（広、２Ｈ）、５．５（ｍ、
ＩＨ）、６．６１５（ｍ、ＩＨ）、７．６７および８．
３１（ｑ、Ｊ＝９．０ＨＺ、４Ｈ）。
ー４ーカルボン酸・ｐ−ニトロベンジルエステル（１：
ＲＩニＨ；Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６日・Ｎ０２−ｐ；
Ｒ３＝Ｈ）：（ＩＲ：レ鴇暖３肌‐１：３４０５、１７
７２、１７２６、１６３３、１６０５、１５１７、１３
４５０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：１．７４（ｂ、２
Ｈ）、４．６１（ｍ、２Ｈ）、５．０５（ｄ、１＝４．
０ＨＺ、ＩＨ）、５．４２（広、２Ｈ）、５．５（ｍ、
ＩＨ）、６．６１５（ｍ、ＩＨ）、７．６７および８．
３１（ｑ、Ｊ＝９．０ＨＺ、４Ｈ）。
７３ーアミノ−３ーメチルスルホニルオキシ−１ーオキ
サー１ーデチアー３ーセフエムー４ーカルボン酸・ｐー
ニトロベンジルェステル０ （１：ＲＩ＝ＯＳ０２ＣＨ
３：Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６日・Ｎ０２‐ｐ；Ｒ３：
Ｈ）：ＩＲ：レ鍋係狐−・：３４２ｏ、１７９０、１７
３５、１６１００ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）肌：２．１
５（戊、が）、３．２３（ｓ、細）、４，５２（ｓ、２
Ｈ）、５．０２（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）、５．３０（
ｓ、が）、５．３３（ｍ、ＩＨ）、７．４８および８１
０（ｑ、Ｊ＝８．０ＨＺ、４Ｈ）。
サー１ーデチアー３ーセフエムー４ーカルボン酸・ｐー
ニトロベンジルェステル０ （１：ＲＩ＝ＯＳ０２ＣＨ
３：Ｒ２＝ＣＯＯＣＨ２・Ｃ６日・Ｎ０２‐ｐ；Ｒ３：
Ｈ）：ＩＲ：レ鍋係狐−・：３４２ｏ、１７９０、１７
３５、１６１００ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）肌：２．１
５（戊、が）、３．２３（ｓ、細）、４，５２（ｓ、２
Ｈ）、５．０２（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）、５．３０（
ｓ、が）、５．３３（ｍ、ＩＨ）、７．４８および８１
０（ｑ、Ｊ＝８．０ＨＺ、４Ｈ）。
７８−アミノ−３ーフエニルチオ−１−オキサー１ーデ
チアー３−セフエムー４ーカルボン酸（１：ＲＩ＝Ｓ・
Ｐｈ；Ｒ２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）。
チアー３−セフエムー４ーカルボン酸（１：ＲＩ＝Ｓ・
Ｐｈ；Ｒ２＝ＣＯＯＨ；Ｒ３＝Ｈ）。
実施例 ６‘１｝ ２一〔２ｆ一（２ープロピニルオキ
シ）一３８−アミノ−４ーオキソアゼチジン−１ーイル
〕−２ーィソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチルエス
テル（２：Ｒ′ニＣＨＰｈ２）−２一（２ｆークロルー
３８ーアミノー４−オキソアゼチジン−１−ィル）−２
ーィソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチルェステル（
１：Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｘ′＝ＣＩ）０．９５夕をプロパ
ルギルアルコール３の‘とテトラヒドロフラン２の‘の
混液にとかし、これにテトラフルオロ棚酸銀０．７９夕
（４のｍｏｌｅ）を加え、室温で３時間蝿拝する。
シ）一３８−アミノ−４ーオキソアゼチジン−１ーイル
〕−２ーィソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチルエス
テル（２：Ｒ′ニＣＨＰｈ２）−２一（２ｆークロルー
３８ーアミノー４−オキソアゼチジン−１−ィル）−２
ーィソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチルェステル（
１：Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｘ′＝ＣＩ）０．９５夕をプロパ
ルギルアルコール３の‘とテトラヒドロフラン２の‘の
混液にとかし、これにテトラフルオロ棚酸銀０．７９夕
（４のｍｏｌｅ）を加え、室温で３時間蝿拝する。
反応混合物をベンゼン５０叫で稀釈し、０℃に冷却して
、これに５％炭酸水素ナトリウム水１０私と飽和食塩水
５の上との混液を加え櫨拝する。この混合物をセラィト
を通して炉過し、炉液を分離する。ベンゼン層を苧硝乾
燥し、減圧下に濃縮すると褐色油状物が得られる。これ
を１０％含水シリカゲルを用いてのクロマトグラフィー
により精製すると、ベンゼン−酢酸エチル（１：１）混
液の画分から目的の２さ−プロピルオキシ誘導体（２：
Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２６８の９（２Ｑープロピニルオキ
シ体１３４奴９および２８−プロピニルオキシ体１３４
のｏ）が得られる。瀦ープロピニルォキシ体：ＩＲ：レ
視暖３弧「：３４００、３３２０、２１１５、１７６７
、１７２３０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）跡：１．８３（
ｂｒ‐ｓ、汎）、１．９８（ｓ、知日）、２，２２（ｓ
、汎）、２．３３（ｔ、Ｊ＝２．５ＨＺ、ＩＨ）、４，
０７（ｄ、Ｊ＝２．５日２、が）、約４．０７（ｍ、Ｉ
Ｈ）、４．９３（ｄ、Ｊ＝１．０ＨＺ、ＩＨ）、６．９
０（ｓ、ＩＨ）、７．３２（ｓ、１順）２３‐フ。
、これに５％炭酸水素ナトリウム水１０私と飽和食塩水
５の上との混液を加え櫨拝する。この混合物をセラィト
を通して炉過し、炉液を分離する。ベンゼン層を苧硝乾
燥し、減圧下に濃縮すると褐色油状物が得られる。これ
を１０％含水シリカゲルを用いてのクロマトグラフィー
により精製すると、ベンゼン−酢酸エチル（１：１）混
液の画分から目的の２さ−プロピルオキシ誘導体（２：
Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２６８の９（２Ｑープロピニルオキ
シ体１３４奴９および２８−プロピニルオキシ体１３４
のｏ）が得られる。瀦ープロピニルォキシ体：ＩＲ：レ
視暖３弧「：３４００、３３２０、２１１５、１７６７
、１７２３０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）跡：１．８３（
ｂｒ‐ｓ、汎）、１．９８（ｓ、知日）、２，２２（ｓ
、汎）、２．３３（ｔ、Ｊ＝２．５ＨＺ、ＩＨ）、４，
０７（ｄ、Ｊ＝２．５日２、が）、約４．０７（ｍ、Ｉ
Ｈ）、４．９３（ｄ、Ｊ＝１．０ＨＺ、ＩＨ）、６．９
０（ｓ、ＩＨ）、７．３２（ｓ、１順）２３‐フ。
ｏピルォキシ体ＩＲ：ひ錦紫ム伽−，：３４１０、３３
２０、２１１５、１７６７、１７２０。ＮＭＲ：６（Ｃ
ＤＣｌ３）胸：１，７７（ｂｒ−ｓ、２Ｈ）、２，００
（ｓ、汎）、２．２３（ｓ、汎）、２．２７（ｔ、Ｊ＝
２．５ＨＺ、ＩＨ）、４．１２（ｄ、Ｊ＝２．５ＨＺ、
汎）、４．２３（ｄ、１：４．０ＨＺ、ＩＨ）、５．２
７（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）、６．９０（ｓ、ＩＨ）、
７，３２（ｓ、１雌）。｛２） ２−〔２８一（２ープ
ロピニルオキシ）一３８ーベンジルオキシカルボニルア
ミノー４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕一２−イソプ
ロピリデン酢酸・ジフェニルメチルェステル（３：Ｒ＝
ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）−上記２８ープロ
ピニルオキシ誘導体（２：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）３０．０
夕（０．０７４ｍｏｌｅ）を無水塩化メチレン２５０の
【‘ことかし、これに氷冷下ペンジルオキシカルボニル
クロリド１４．０７夕（０．０８２５ｍｏｌｅ）を加え
、次いでこれにピリジン６．７の【（０．０８２８ｈｏ
ｌｅ）と塩化メチレンからなる溶液を滴下し、袷時３０
分間縄梓する。反応液を氷水中に注ぎ、塩化メチレンで
抽出し、抽出液を水、食塩水で洗浄、乾燥して、溶媒減
圧蟹去する。得られる油状残澄をシリカゲル１０００夕
を使用してのクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢
酸エチル（５：１）で溶出すると、２６．５夕（６６．
３％収率）の目的物３８ーベンジルオキシカルボニルア
ミノ誘導体（３：Ｒ＝ＰｈＣ広ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ
２）が得られる。ＩＲ：レ落球〆３肌‐１：３４４０、
３３００・２１１０・１７７４、１７２０、１６３０、
１５０７。ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）肌：２．００およ
び２．２５（ｓ、粗ｘ２）、２．１７（ｄ、Ｊ＝３ＨＺ
、ＩＨ）、４．０７（ｄ、Ｊ＝３日２、２Ｈ）、５．１
０（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）、５．１７（ｓ、が）、５
．３３（ｑ、Ｊ＝８および４ＨＺ、ＩＨ）、５．５５（
ｄ、Ｊ＝８ＨＺ、ＩＨ）、６．９８（ｓ、ＩＨ）。‘３
’ ２−（２８−アリルオキシ−３８−ペンジルオキシ
カルボニルアミノー４−オキソアゼチジン−１ーィル）
一２ーィソプロピリデン酢酸・ジフエニルメチルエステ
ル（４：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）一
５％パラジウム−炭酸カルシウム６．６夕をメタノ」ル
１７０ｍ‘に懸濁し、渡洋下に水素ガスを吸収させる。
２０、２１１５、１７６７、１７２０。ＮＭＲ：６（Ｃ
ＤＣｌ３）胸：１，７７（ｂｒ−ｓ、２Ｈ）、２，００
（ｓ、汎）、２．２３（ｓ、汎）、２．２７（ｔ、Ｊ＝
２．５ＨＺ、ＩＨ）、４．１２（ｄ、Ｊ＝２．５ＨＺ、
汎）、４．２３（ｄ、１：４．０ＨＺ、ＩＨ）、５．２
７（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）、６．９０（ｓ、ＩＨ）、
７，３２（ｓ、１雌）。｛２） ２−〔２８一（２ープ
ロピニルオキシ）一３８ーベンジルオキシカルボニルア
ミノー４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕一２−イソプ
ロピリデン酢酸・ジフェニルメチルェステル（３：Ｒ＝
ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）−上記２８ープロ
ピニルオキシ誘導体（２：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）３０．０
夕（０．０７４ｍｏｌｅ）を無水塩化メチレン２５０の
【‘ことかし、これに氷冷下ペンジルオキシカルボニル
クロリド１４．０７夕（０．０８２５ｍｏｌｅ）を加え
、次いでこれにピリジン６．７の【（０．０８２８ｈｏ
ｌｅ）と塩化メチレンからなる溶液を滴下し、袷時３０
分間縄梓する。反応液を氷水中に注ぎ、塩化メチレンで
抽出し、抽出液を水、食塩水で洗浄、乾燥して、溶媒減
圧蟹去する。得られる油状残澄をシリカゲル１０００夕
を使用してのクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢
酸エチル（５：１）で溶出すると、２６．５夕（６６．
３％収率）の目的物３８ーベンジルオキシカルボニルア
ミノ誘導体（３：Ｒ＝ＰｈＣ広ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ
２）が得られる。ＩＲ：レ落球〆３肌‐１：３４４０、
３３００・２１１０・１７７４、１７２０、１６３０、
１５０７。ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）肌：２．００およ
び２．２５（ｓ、粗ｘ２）、２．１７（ｄ、Ｊ＝３ＨＺ
、ＩＨ）、４．０７（ｄ、Ｊ＝３日２、２Ｈ）、５．１
０（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）、５．１７（ｓ、が）、５
．３３（ｑ、Ｊ＝８および４ＨＺ、ＩＨ）、５．５５（
ｄ、Ｊ＝８ＨＺ、ＩＨ）、６．９８（ｓ、ＩＨ）。‘３
’ ２−（２８−アリルオキシ−３８−ペンジルオキシ
カルボニルアミノー４−オキソアゼチジン−１ーィル）
一２ーィソプロピリデン酢酸・ジフエニルメチルエステ
ル（４：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）一
５％パラジウム−炭酸カルシウム６．６夕をメタノ」ル
１７０ｍ‘に懸濁し、渡洋下に水素ガスを吸収させる。
次いで上記３８−ペンジルオキシカルボニルアミノ誘導
体（３：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２
６．５夕（０．０４９ｈｏｌｅ）をメタノール１００叫
にとかして、パラジウム触媒懸濁液に加える。水素ガス
中５０分間燭拝した後、触媒を炉去し、炉液を減圧濃縮
すると、目的の２８ーアリルオキシ誘導体（４：Ｒ＝Ｐ
ｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２６．３夕（９８
．８％収率）が得られる。ＩＲ：レ鴇袋と３肌‐１：私
４０、１７７２、１７２止 １６２８、１５０５。ＮＭ
Ｒ：６（ＣＤＣｌ３）跡：２．００および２，２５（ｓ
、がｘ２）、３‐９０（ｍ、２Ｈ）、４．８〜５‐９（
ｍ、母Ｈ）、５．１７（ｓ、が）、６．９５（ｓ、ＩＨ
）。■２−〔２８一（２・３ーエポキシプロポキシ）−
３３ーベンジルオキシカルボニルアミノー４ーオキソア
ゼチジンー１ーイル〕‐２−イソプ。ピリデン酢酸・ジ
フェニルメチルェステル（５：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ
′工ＣＨＰｈ２）−上記２８ーアリルオキシ誘導体（４
：Ｒ＝ＰｈＣ＆ＯＣＯ ；Ｒ′ ＝ ＣＨＰＱ ）２５
．６ 夕（０．０４７ｍｏｌｅ）をクロロホルム２６０
の‘にとかし、これにｍ−クロル過安息香酸１５．３夕
（０．０７１ｍｏｌｅ）を徐々に加え、室温（２３〜２
５ｑ０）にて２自問放置する。
体（３：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２
６．５夕（０．０４９ｈｏｌｅ）をメタノール１００叫
にとかして、パラジウム触媒懸濁液に加える。水素ガス
中５０分間燭拝した後、触媒を炉去し、炉液を減圧濃縮
すると、目的の２８ーアリルオキシ誘導体（４：Ｒ＝Ｐ
ｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２６．３夕（９８
．８％収率）が得られる。ＩＲ：レ鴇袋と３肌‐１：私
４０、１７７２、１７２止 １６２８、１５０５。ＮＭ
Ｒ：６（ＣＤＣｌ３）跡：２．００および２，２５（ｓ
、がｘ２）、３‐９０（ｍ、２Ｈ）、４．８〜５‐９（
ｍ、母Ｈ）、５．１７（ｓ、が）、６．９５（ｓ、ＩＨ
）。■２−〔２８一（２・３ーエポキシプロポキシ）−
３３ーベンジルオキシカルボニルアミノー４ーオキソア
ゼチジンー１ーイル〕‐２−イソプ。ピリデン酢酸・ジ
フェニルメチルェステル（５：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ
′工ＣＨＰｈ２）−上記２８ーアリルオキシ誘導体（４
：Ｒ＝ＰｈＣ＆ＯＣＯ ；Ｒ′ ＝ ＣＨＰＱ ）２５
．６ 夕（０．０４７ｍｏｌｅ）をクロロホルム２６０
の‘にとかし、これにｍ−クロル過安息香酸１５．３夕
（０．０７１ｍｏｌｅ）を徐々に加え、室温（２３〜２
５ｑ０）にて２自問放置する。
反応液を減圧濃縮し、得られる残湾を酢酸エチルにとか
し、５％チオ硫酸ナトリウム水、５％炭酸水素ナトリウ
ム水、水、および食塩水で順次洗浄し、溶媒を減圧蟹去
する。得られる油状残澄をシリカゲル８００夕を用いて
のクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチル（
５：１）で熔出すると、目的のェポキシ誘導体（５：Ｒ
＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２）２１．２５夕（
８１．２％収率）が得られる。ＩＲＩ：び鴇鞍３肌‐１
：３４４５、１７７８・１７２４・１６３２、１５０８
。ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）柳：２．００および２．２
５（ｓ、細ｘ２）、約２．２〜３．９（ｍ、斑）、５．
１８（ｓ、が）、約５．０〜５．３（ｍ、２Ｈ）、５．
５８（ｄ、Ｊ＝１０日２、ＩＨ）、６．８３（ｓ、ＩＨ
）。なお、この工程では副生物として少量のジェポキシ
体（２．２５夕；ｍｐｌ１８〜１２０ｏｏ）が得られる
。■ ２一〔２８一（２・３ージヒドロキシプロポキシ
）−３ーベンジルオキシカルボニルアミノー４ーオキソ
アゼチジン−１ーイル〕一２−イソプロピリデン酢酸・
ジフェニルメチルェステル（６：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；
Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）一上記ェポキシ誘導体（５：Ｒ＝Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２１．２５夕（０．
０３８ｈｏｌｅ）をアセトン２２０Ｍ‘にとかし、これ
に３０％過塩素酸６６の【および水４４机上を氷冷下に
加え、室温で２〜３時間燈梓する。
し、５％チオ硫酸ナトリウム水、５％炭酸水素ナトリウ
ム水、水、および食塩水で順次洗浄し、溶媒を減圧蟹去
する。得られる油状残澄をシリカゲル８００夕を用いて
のクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチル（
５：１）で熔出すると、目的のェポキシ誘導体（５：Ｒ
＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２）２１．２５夕（
８１．２％収率）が得られる。ＩＲＩ：び鴇鞍３肌‐１
：３４４５、１７７８・１７２４・１６３２、１５０８
。ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）柳：２．００および２．２
５（ｓ、細ｘ２）、約２．２〜３．９（ｍ、斑）、５．
１８（ｓ、が）、約５．０〜５．３（ｍ、２Ｈ）、５．
５８（ｄ、Ｊ＝１０日２、ＩＨ）、６．８３（ｓ、ＩＨ
）。なお、この工程では副生物として少量のジェポキシ
体（２．２５夕；ｍｐｌ１８〜１２０ｏｏ）が得られる
。■ ２一〔２８一（２・３ージヒドロキシプロポキシ
）−３ーベンジルオキシカルボニルアミノー４ーオキソ
アゼチジン−１ーイル〕一２−イソプロピリデン酢酸・
ジフェニルメチルェステル（６：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；
Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）一上記ェポキシ誘導体（５：Ｒ＝Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２１．２５夕（０．
０３８ｈｏｌｅ）をアセトン２２０Ｍ‘にとかし、これ
に３０％過塩素酸６６の【および水４４机上を氷冷下に
加え、室温で２〜３時間燈梓する。
反応液に酢酸エチルを加え、５％炭酸水素ナトリウム水
、水、および食塩水で順次洗浄した後、溶媒を減圧蟹去
する。得られる油状残澄をメタノール２００地にとかし
、１０％塩酸４０泌を加え室温で３０分間燈梓する。次
いで酢酸エチルを加え、５％炭酸水素ナトリウム水、水
、および食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を減圧蟹去すると
、目的のジオール誘導体（６：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ
′＝ＣＨＰｈ２）２０．６夕（９４．４％収率）が得ら
れる。
、水、および食塩水で順次洗浄した後、溶媒を減圧蟹去
する。得られる油状残澄をメタノール２００地にとかし
、１０％塩酸４０泌を加え室温で３０分間燈梓する。次
いで酢酸エチルを加え、５％炭酸水素ナトリウム水、水
、および食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を減圧蟹去すると
、目的のジオール誘導体（６：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ
′＝ＣＨＰｈ２）２０．６夕（９４．４％収率）が得ら
れる。
ＩＲ：レ鴇暖３伽−・：３６ｏｏ、３４４５、１７７８
、１７２５、１６３２、１５０８。ＮＭＲ：６（ＣＤＣ
１３）胸：１．９７および２．２２（ｓ、汎ｘ２）、３
．４７（ｍ、４Ｈ）、４．９〜５．３（ｍ、２Ｈ）、５
．１３（ｓ、が）、６．０７（ｍ、ＩＨ）、６．９７（
ｓ、ＩＨ）。同様にして上記２８−プロピニルオキシ体
（２：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）をフエニルアセチルクロリドと
反応させて３３一フェニルアセトァミド誘導体（３：Ｒ
＝ＰｈＣはＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）とし、これを順
次、水素化、ェポキシ化、ェポキシ関環工程に付すと、
２−〔２６−（２・３−ジヒドロキシプロポキシ）−３
８−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１
−イル〕−２−ィソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチ
ルェステル（６：Ｒ＝ＰｈＣＱＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２
）が得られる。
、１７２５、１６３２、１５０８。ＮＭＲ：６（ＣＤＣ
１３）胸：１．９７および２．２２（ｓ、汎ｘ２）、３
．４７（ｍ、４Ｈ）、４．９〜５．３（ｍ、２Ｈ）、５
．１３（ｓ、が）、６．０７（ｍ、ＩＨ）、６．９７（
ｓ、ＩＨ）。同様にして上記２８−プロピニルオキシ体
（２：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）をフエニルアセチルクロリドと
反応させて３３一フェニルアセトァミド誘導体（３：Ｒ
＝ＰｈＣはＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）とし、これを順
次、水素化、ェポキシ化、ェポキシ関環工程に付すと、
２−〔２６−（２・３−ジヒドロキシプロポキシ）−３
８−フエニルアセトアミド一４ーオキソアゼチジンー１
−イル〕−２−ィソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチ
ルェステル（６：Ｒ＝ＰｈＣＱＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２
）が得られる。
実施例 ７
｛１’２−〔２８−（２・３−イソプロピリデンジオキ
シプロポキシ）一３８−ペンジルオキシカルポニルアミ
ノ−４−オキソアゼチジン−１−ィル〕−２ーィソプロ
ピリデン酢酸・ジフェニルメチルエステル（１３：Ｒ＝
ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′一ＣＨＰｈ２）一２一〔２８一
（２．３ージヒドロキシプロポキシ）−３８−ペンジル
オキシカルボニルアミノ−４ーオキソアゼチジン−１ー
ィル〕−２−イソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチル
ヱステル（６：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２
）２．５夕をアセトン５０Ｍにとかし、これにｐートル
ェご／スルホン酸５の９を氷冷下に加えて、３時間凝拝
する。
シプロポキシ）一３８−ペンジルオキシカルポニルアミ
ノ−４−オキソアゼチジン−１−ィル〕−２ーィソプロ
ピリデン酢酸・ジフェニルメチルエステル（１３：Ｒ＝
ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′一ＣＨＰｈ２）一２一〔２８一
（２．３ージヒドロキシプロポキシ）−３８−ペンジル
オキシカルボニルアミノ−４ーオキソアゼチジン−１ー
ィル〕−２−イソプロピリデン酢酸・ジフェニルメチル
ヱステル（６：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２
）２．５夕をアセトン５０Ｍにとかし、これにｐートル
ェご／スルホン酸５の９を氷冷下に加えて、３時間凝拝
する。
次いで、これに５％炭酸水素ナトリウム水少量を加えて
減圧濃縮する。残湾を酢酸エチルにとかし、水洗、乾燥
、濃縮して得られる残湾をシリカゲルによるクロマトグ
ラフィーに付して、ベンゼン−酢酸エチル（２：１）で
溶出すると、目的のィソプロピリデンジオキシ譲導体（
１３：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．２
６夕（８４％収率）が得られる。
減圧濃縮する。残湾を酢酸エチルにとかし、水洗、乾燥
、濃縮して得られる残湾をシリカゲルによるクロマトグ
ラフィーに付して、ベンゼン−酢酸エチル（２：１）で
溶出すると、目的のィソプロピリデンジオキシ譲導体（
１３：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．２
６夕（８４％収率）が得られる。
ＩＲ：レ鴇隊３肌‐１：３４５０、１７８０、１７２５
、１６３５、１６００。ＮＭＲ： ６（ＣＤＣ１３）脚
；１．２８（ｓ、細）、２．００（ｓ、汎）、２．２５
（ｓ、３Ｈ）、３．２５〜４．２０（ｍ、斑）、４．９
０〜５．７７（ｍ、斑）、６．９５（ｓ、ＩＨ）、７．
３付近（ｍ、１班）。（２手 ２−〔２８−（２・３ー
イソプロピリデンジオキシプロポキシ）−３８ーベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−４−オキソアゼチジンー１
−ィル〕−２ーヒドロキシ酢酸・ジフェニルメチルエス
テル（１５：ＲニＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′；ＣＨＰｈ２
）−上記ィソプロピリデンジオキシ誘導体（１３：Ｒ＝
ＰｈＣ拡ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．２夕（３．５
８ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン４０の上にとかし、これ
に、ドライアイスーァセトン冷却下、反応液が青色を呈
するまでオゾンを導適する。
、１６３５、１６００。ＮＭＲ： ６（ＣＤＣ１３）脚
；１．２８（ｓ、細）、２．００（ｓ、汎）、２．２５
（ｓ、３Ｈ）、３．２５〜４．２０（ｍ、斑）、４．９
０〜５．７７（ｍ、斑）、６．９５（ｓ、ＩＨ）、７．
３付近（ｍ、１班）。（２手 ２−〔２８−（２・３ー
イソプロピリデンジオキシプロポキシ）−３８ーベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−４−オキソアゼチジンー１
−ィル〕−２ーヒドロキシ酢酸・ジフェニルメチルエス
テル（１５：ＲニＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′；ＣＨＰｈ２
）−上記ィソプロピリデンジオキシ誘導体（１３：Ｒ＝
ＰｈＣ拡ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．２夕（３．５
８ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン４０の上にとかし、これ
に、ドライアイスーァセトン冷却下、反応液が青色を呈
するまでオゾンを導適する。
過剰のオゾンを除いた後、硫化メチル２．２の‘を加え
て同温冷却下に１時間、更に室温に１時間放置する。反
応液に少量の酢酸を加えた後、水洗、乾燥、濃縮すると
、中間体としての１ージフェニルメトキサリル−２８−
（２・３ーイソプロピリデンジオキシプロポキシ）一３
８ーベンジルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼ
チジン（１４：Ｒ＝ＰｈＣ止ＯＣＯ：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）
２夕が得られる。これを直ちに塩化メチレン２０の上と
酢酸２０の‘との源液にとかし、活性化亜鉛末２夕を加
えて、氷袷下に２時間鷹拝する。亜鉛末を炉去し、塩化
メチレンで洗浄、炉液および洗液を合せて水洗、乾燥、
濃縮すると、目的の２−ヒドロキシ誘導体（１５：Ｒ＝
ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．０夕（９５
％収率）が得られる。ＩＲ：し楓静肌４：３５０ｏ、３
４３ｏ・１７８０・１７４０・１７２０、１６０００Ｎ
ＭＲ：６（ＣＤＣ１３）肌：１．４７（ｓ、細）、３．
１７〜４．３０（ｍ、５〜細）、５．１６（ｓ、汎）、
４．７０〜６．００（ｍ、３〜４Ｈ）、６．９７および
７．００（各ｓ、ＩＨ）、７．針寸近（ｍ、芳香環プロ
トン）。（３’２−〔２８一（２・３−イソプロピリデ
ンジオキシプロポキシ）−３８ーベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−オキソアゼチジンー１ーィル〕−２−
トリフェニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメチル
ェステル（１６：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ
２）−上記２−ヒドロキシ譲導体（１５：Ｒ＝ＰｈＣＨ
２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．０夕（３．４ｍｍｏ
ｌｅ）を無水塩化メチレン６０の‘にとかし、これにジ
メチルアニリン１．３のと（１０．２のｍｏｌｅ）を氷
冷下に加えた後、塩化チオニル０．７４の‘（１０．２
ｍｍｏｌｅ）を滴下し、同温度に３０分間鷹柊する。
て同温冷却下に１時間、更に室温に１時間放置する。反
応液に少量の酢酸を加えた後、水洗、乾燥、濃縮すると
、中間体としての１ージフェニルメトキサリル−２８−
（２・３ーイソプロピリデンジオキシプロポキシ）一３
８ーベンジルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼ
チジン（１４：Ｒ＝ＰｈＣ止ＯＣＯ：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）
２夕が得られる。これを直ちに塩化メチレン２０の上と
酢酸２０の‘との源液にとかし、活性化亜鉛末２夕を加
えて、氷袷下に２時間鷹拝する。亜鉛末を炉去し、塩化
メチレンで洗浄、炉液および洗液を合せて水洗、乾燥、
濃縮すると、目的の２−ヒドロキシ誘導体（１５：Ｒ＝
ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．０夕（９５
％収率）が得られる。ＩＲ：し楓静肌４：３５０ｏ、３
４３ｏ・１７８０・１７４０・１７２０、１６０００Ｎ
ＭＲ：６（ＣＤＣ１３）肌：１．４７（ｓ、細）、３．
１７〜４．３０（ｍ、５〜細）、５．１６（ｓ、汎）、
４．７０〜６．００（ｍ、３〜４Ｈ）、６．９７および
７．００（各ｓ、ＩＨ）、７．針寸近（ｍ、芳香環プロ
トン）。（３’２−〔２８一（２・３−イソプロピリデ
ンジオキシプロポキシ）−３８ーベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−オキソアゼチジンー１ーィル〕−２−
トリフェニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメチル
ェステル（１６：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ
２）−上記２−ヒドロキシ譲導体（１５：Ｒ＝ＰｈＣＨ
２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）２．０夕（３．４ｍｍｏ
ｌｅ）を無水塩化メチレン６０の‘にとかし、これにジ
メチルアニリン１．３のと（１０．２のｍｏｌｅ）を氷
冷下に加えた後、塩化チオニル０．７４の‘（１０．２
ｍｍｏｌｅ）を滴下し、同温度に３０分間鷹柊する。
反応液を氷冷中にあげ、塩化メチレン層を水洗、乾燥し
て濃縮すると、中間体としての２一〔２３一（２・３ー
ィソプロピリデンジオキシプｏポキシ）−３８ーベンジ
ルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼチジン−１
−ィル〕‐２ークロル酢酸・ジフェニルメチルェステル
２．３夕が得られる〔ＩＲ：レ錦塩〆」仇‐１：３４３
０１１７８ふ１７５０・１７２０・１５９５〕にれを塩
化メチレン４０の‘にとかし、これにジメチルアニリン
０．８６泌（６．８のｍｏｌｅ）およびトリフエニルホ
スフイン１．８９（６．８ｍｍｏｌｅ）を加え、６時間
加熱還流した後、更にトリフェニルホスフィン１．８夕
を追加して、１２時間反応させる。反応混合物を５％炭
酸水素ナトリウム水に冷却下注ぎ、水洗、乾燥、濃縮す
る。得られる残澄をシリカゲルによるクロマトグラフィ
ーに付すと、目的のトリフェニルホスホラン誘導体（１
６：ＲＥＰｈＣ拡ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１．６夕
（５６．６％収率）が得られる。
て濃縮すると、中間体としての２一〔２３一（２・３ー
ィソプロピリデンジオキシプｏポキシ）−３８ーベンジ
ルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼチジン−１
−ィル〕‐２ークロル酢酸・ジフェニルメチルェステル
２．３夕が得られる〔ＩＲ：レ錦塩〆」仇‐１：３４３
０１１７８ふ１７５０・１７２０・１５９５〕にれを塩
化メチレン４０の‘にとかし、これにジメチルアニリン
０．８６泌（６．８のｍｏｌｅ）およびトリフエニルホ
スフイン１．８９（６．８ｍｍｏｌｅ）を加え、６時間
加熱還流した後、更にトリフェニルホスフィン１．８夕
を追加して、１２時間反応させる。反応混合物を５％炭
酸水素ナトリウム水に冷却下注ぎ、水洗、乾燥、濃縮す
る。得られる残澄をシリカゲルによるクロマトグラフィ
ーに付すと、目的のトリフェニルホスホラン誘導体（１
６：ＲＥＰｈＣ拡ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１．６夕
（５６．６％収率）が得られる。
ＩＲ：レ錦袋３伽‐１：３４００、１７６０、１７１０
、１６２０、１５９０。｛４ー ２一〔２３一（２・３
ージヒドロプロポキシ）−３８−ペンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−オキソアゼチジン−１ーイル〕−２ー
トリフヱニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメチル
エステル（１７：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰ
ｈ２）−上記トリフェニルホスホラン誘導体（１６：Ｒ
＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）４１７ｍ９（
０．５ｍｍｏｌｅ）をメタノール８の‘にとかし、これ
に１０％塩酸１．６泌を加え、室温で４０分間蝿拝する
。反応液を冷却した５％炭酸水素ナトリウム水にあげ、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥、濃縮して
得られる残溶をシリカゲルによるクロマトグラフィーに
付すと、目的の脱アセトニド体（１７：Ｒ＝ＰｈＣ広Ｏ
ＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１７２の９（４３．３％収率
）が得られる。ＩＲ三レ錦舷３肌‐１：３４５０〜３２
００、１７７０・１７２０・１６３０、１６００。‘５
）７８−ペンジルオキシカルボニルアミノ−１−オキサ
−１ーデチア−３ーセフエム−４ーカルボン酸・ジフェ
ニルメチルェステル（Ｗ：ＲこＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′
＝ＣＨＰｈ２）−上記脱アセトニド体（ｉ７：Ｒ＝Ｐｈ
ＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１３９雌（０．１７
５ｍｍｏｌｅ）をテトラヒドロフラン４の｛にとかし、
これに過ヨウ素酸（Ｎａｌ０４４５の９およびＩＮ一Ｗ
Ｓ０４２．２の【より成る）を氷冷下に加え、同温度で
３時間櫨梓後、更に室温で１時間燈梓する。
、１６２０、１５９０。｛４ー ２一〔２３一（２・３
ージヒドロプロポキシ）−３８−ペンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−オキソアゼチジン−１ーイル〕−２ー
トリフヱニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメチル
エステル（１７：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰ
ｈ２）−上記トリフェニルホスホラン誘導体（１６：Ｒ
＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）４１７ｍ９（
０．５ｍｍｏｌｅ）をメタノール８の‘にとかし、これ
に１０％塩酸１．６泌を加え、室温で４０分間蝿拝する
。反応液を冷却した５％炭酸水素ナトリウム水にあげ、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥、濃縮して
得られる残溶をシリカゲルによるクロマトグラフィーに
付すと、目的の脱アセトニド体（１７：Ｒ＝ＰｈＣ広Ｏ
ＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１７２の９（４３．３％収率
）が得られる。ＩＲ三レ錦舷３肌‐１：３４５０〜３２
００、１７７０・１７２０・１６３０、１６００。‘５
）７８−ペンジルオキシカルボニルアミノ−１−オキサ
−１ーデチア−３ーセフエム−４ーカルボン酸・ジフェ
ニルメチルェステル（Ｗ：ＲこＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′
＝ＣＨＰｈ２）−上記脱アセトニド体（ｉ７：Ｒ＝Ｐｈ
ＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１３９雌（０．１７
５ｍｍｏｌｅ）をテトラヒドロフラン４の｛にとかし、
これに過ヨウ素酸（Ｎａｌ０４４５の９およびＩＮ一Ｗ
Ｓ０４２．２の【より成る）を氷冷下に加え、同温度で
３時間櫨梓後、更に室温で１時間燈梓する。
反応混合物を氷水にあげ、酢酸エチルで抽出し、抽出液
を水洗、乾燥、濃縮して得られる残澄をシリカゲルのク
ロマトグラフィーにより分離精製すると、目的のオキサ
セフェム保護置換誘導体（Ｗ：Ｒ＝ＰｈＣ山ＯＣＯ：Ｒ
′＝ＣＨＰｈ２）１５の９（１７．７％収率）が得られ
る。本品は実施例２で得られる別途合成品と、薄層クロ
マトグラフイ−、ＩＲスペクトル、ＮＭ旧スペクトルに
おいて完全に一致し、同一化合物であることが確認でき
る。実施例 ８ ｛１） ２−〔２８一（２ーオキソエチルオキシ）−３
８ーベンジルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼ
チジンー１−イル〕一２ーイソプロピリデン酢酸・ジフ
ェニルメチルヱステル（７：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ
′＝ＣＨＰｈ２）−２−〔２６一（２・３−ジヒドロキ
シプロポキシ）一３８ーベンジルオキシカルボニルアミ
ノー４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕一２−イソプロ
ピリデン酢酸・ジフェニルメチルェステル（６：Ｒ＝Ｐ
ｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１１．５夕（０．
０２ｈｏｌｅ）をエタノール２００の‘にとかし、これ
に過ヨウ素酸ナトリウム５．１４夕（０．０２４ｍｏｌ
ｅ）とＩＮ−硫酸２１０の‘からなる溶液を加え、室温
で３粉ご間鷹拝する。
を水洗、乾燥、濃縮して得られる残澄をシリカゲルのク
ロマトグラフィーにより分離精製すると、目的のオキサ
セフェム保護置換誘導体（Ｗ：Ｒ＝ＰｈＣ山ＯＣＯ：Ｒ
′＝ＣＨＰｈ２）１５の９（１７．７％収率）が得られ
る。本品は実施例２で得られる別途合成品と、薄層クロ
マトグラフイ−、ＩＲスペクトル、ＮＭ旧スペクトルに
おいて完全に一致し、同一化合物であることが確認でき
る。実施例 ８ ｛１） ２−〔２８一（２ーオキソエチルオキシ）−３
８ーベンジルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼ
チジンー１−イル〕一２ーイソプロピリデン酢酸・ジフ
ェニルメチルヱステル（７：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ
′＝ＣＨＰｈ２）−２−〔２６一（２・３−ジヒドロキ
シプロポキシ）一３８ーベンジルオキシカルボニルアミ
ノー４ーオキソアゼチジンー１ーイル〕一２−イソプロ
ピリデン酢酸・ジフェニルメチルェステル（６：Ｒ＝Ｐ
ｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１１．５夕（０．
０２ｈｏｌｅ）をエタノール２００の‘にとかし、これ
に過ヨウ素酸ナトリウム５．１４夕（０．０２４ｍｏｌ
ｅ）とＩＮ−硫酸２１０の‘からなる溶液を加え、室温
で３粉ご間鷹拝する。
反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出、抽出液を水
および食塩水で洗浄し、乾燥後溶媒を減圧下留去すると
、目的のホルミル謙導体（７：Ｒ＝ＰｈＣ＆ＯＣＯ：Ｒ
′＝Ｃ肝ｈ２）ｌｏ．８タカミ得られる。ＩＲ：レ鴇舞
ム仇１：３４４ふ１７７８１７２ふ１６３２、１５０＆
‘２） ２一（２８−メトキシカルボニルメトキシー３
８ーベンジルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼ
チジン−１ーイル）一２−イソプロピリデン酢酸・ジフ
ヱニルメチルェステル（８：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ
′＝−ＣＨＰｈ２；Ｒ″＝Ｃ比）上記ホルミル誘導体（
７：Ｒ＝ ＰｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝一ＣＨＰｈ２）１０．８夕をア
セトン１００肌にとかし、氷冷蝿投下にジョーンズ試薬
１４Ｍを１５ｑｏ以下の温度で加える。
および食塩水で洗浄し、乾燥後溶媒を減圧下留去すると
、目的のホルミル謙導体（７：Ｒ＝ＰｈＣ＆ＯＣＯ：Ｒ
′＝Ｃ肝ｈ２）ｌｏ．８タカミ得られる。ＩＲ：レ鴇舞
ム仇１：３４４ふ１７７８１７２ふ１６３２、１５０＆
‘２） ２一（２８−メトキシカルボニルメトキシー３
８ーベンジルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼ
チジン−１ーイル）一２−イソプロピリデン酢酸・ジフ
ヱニルメチルェステル（８：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ
′＝−ＣＨＰｈ２；Ｒ″＝Ｃ比）上記ホルミル誘導体（
７：Ｒ＝ ＰｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝一ＣＨＰｈ２）１０．８夕をア
セトン１００肌にとかし、氷冷蝿投下にジョーンズ試薬
１４Ｍを１５ｑｏ以下の温度で加える。
３０分経過後、反応液にｉープロパノールを加えて過剰
の試薬を殺し、不溶物を炉去する。
の試薬を殺し、不溶物を炉去する。
炉液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水
、．食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去すると、粗製のカ
ルボン酸（８：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰ〜
；Ｒ″＝Ｈ）１１．１夕が得られる。これを塩化メチレ
ン１５０泌にとかし、ジアゾメタン−エーテル溶液を加
えてヱステル化する。溶媒を留去し、得られる残溝１１
夕をシリカゲル２００夕のカラムに通し、ベンゼン一酢
酸エチル（５：１）で溶出すると、目的のカルボン酸メ
チル（８：Ｒ＝ＰｈＣ止ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｒ
″＝Ｃ馬）９．２夕（８０．３％収率）が得られる。Ｉ
Ｒ：し鴇塩そ肌‐１：３４４ぅ１７８０、１７２ふ１６
３５・１５１００ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）胸：２．０
０および２．２５（各ｓ、汎ｘ２）、 ３．５８（ｓ、
祖）、３．９７（ｓ、餌）、５．０〜５．４０（ｍ、が
）、５．１３（ｓ、汎）、５．５７（ｄ、Ｊ＝８ＨＺ、
ＩＨ）、６．９３（ｓ、ＩＨ）。｛３’１ージフエニル
メトキサリル−２８−メトキシカルボニルメトキシー３
８−ペンジルオキシカルボニルアミノー４ーオキソアゼ
チジン（９：Ｒ＝ＰｈＣＱＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；
Ｒ″＝Ｃは）−上記カルボン酸メチル（８：Ｒ：ＰｈＣ
比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｒ″＝ＣＨ３）９．２夕
（０．０１６ｈｏｌｅ）を塩化メチレン２３０の‘にと
かし、−７８ｑ Ｃに冷却して、これにオゾンを導適す
る。
、．食塩水で洗浄後、溶媒を減圧留去すると、粗製のカ
ルボン酸（８：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰ〜
；Ｒ″＝Ｈ）１１．１夕が得られる。これを塩化メチレ
ン１５０泌にとかし、ジアゾメタン−エーテル溶液を加
えてヱステル化する。溶媒を留去し、得られる残溝１１
夕をシリカゲル２００夕のカラムに通し、ベンゼン一酢
酸エチル（５：１）で溶出すると、目的のカルボン酸メ
チル（８：Ｒ＝ＰｈＣ止ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｒ
″＝Ｃ馬）９．２夕（８０．３％収率）が得られる。Ｉ
Ｒ：し鴇塩そ肌‐１：３４４ぅ１７８０、１７２ふ１６
３５・１５１００ＮＭＲ：６（ＣＤＣ１３）胸：２．０
０および２．２５（各ｓ、汎ｘ２）、 ３．５８（ｓ、
祖）、３．９７（ｓ、餌）、５．０〜５．４０（ｍ、が
）、５．１３（ｓ、汎）、５．５７（ｄ、Ｊ＝８ＨＺ、
ＩＨ）、６．９３（ｓ、ＩＨ）。｛３’１ージフエニル
メトキサリル−２８−メトキシカルボニルメトキシー３
８−ペンジルオキシカルボニルアミノー４ーオキソアゼ
チジン（９：Ｒ＝ＰｈＣＱＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；
Ｒ″＝Ｃは）−上記カルボン酸メチル（８：Ｒ：ＰｈＣ
比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｒ″＝ＣＨ３）９．２夕
（０．０１６ｈｏｌｅ）を塩化メチレン２３０の‘にと
かし、−７８ｑ Ｃに冷却して、これにオゾンを導適す
る。
約３び分後、反応液が青色を呈したところで反応を止め
、窒素ガスを導通して過剰のオゾンを追い出す。次いで
一７８『０に冷却してジメチルスルフィド１０の‘を加
え、同温度で１時間、更に室温で１時間蝿拝する。反応
液に塩化メチレンおよび酢酸２〜３滴を加え、水、食塩
水で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去すると目的のメト
キサリル誘導体（９：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝Ｃ
ＨＰｈ２；Ｒ″＝ＣＨ３）８．９９が油状物として得ら
れる。ＩＲ：レ錦隊３伽‐１：３４５０、１８３０・１
７５６・１７２０、１５０９。（４｝ ２−（２８ーメ
トキシカルボニルメトキシ−３８ーベンジルオキシカル
ボニルアミノー４ーオキソアゼチジンー１ーイル）一２
−ヒドロキシ酢酸・ジフェニルメチルェステル（１０：
Ｒ＝ＰｈＣ均ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３
）−上記〆トキサリル誘導体（９：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０Ｃ
Ｏ：Ｒ′ｉＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３）８．９夕を塩化
メチレン９０のとおよび酢酸９０羽の混液にとかし、こ
れに活性亜鉛末９夕を氷冷鷹梓下に加える。
、窒素ガスを導通して過剰のオゾンを追い出す。次いで
一７８『０に冷却してジメチルスルフィド１０の‘を加
え、同温度で１時間、更に室温で１時間蝿拝する。反応
液に塩化メチレンおよび酢酸２〜３滴を加え、水、食塩
水で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去すると目的のメト
キサリル誘導体（９：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝Ｃ
ＨＰｈ２；Ｒ″＝ＣＨ３）８．９９が油状物として得ら
れる。ＩＲ：レ錦隊３伽‐１：３４５０、１８３０・１
７５６・１７２０、１５０９。（４｝ ２−（２８ーメ
トキシカルボニルメトキシ−３８ーベンジルオキシカル
ボニルアミノー４ーオキソアゼチジンー１ーイル）一２
−ヒドロキシ酢酸・ジフェニルメチルェステル（１０：
Ｒ＝ＰｈＣ均ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３
）−上記〆トキサリル誘導体（９：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０Ｃ
Ｏ：Ｒ′ｉＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３）８．９夕を塩化
メチレン９０のとおよび酢酸９０羽の混液にとかし、こ
れに活性亜鉛末９夕を氷冷鷹梓下に加える。
約１５〜３０分経過後、亜鉛末を炉去し、炉液に塩化メ
チレンを追加して、水、食塩水で順次洗浄する。乾燥後
、溶媒を減圧留去すると、目的のヒドロキシ酢酸誘導体
（１０：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″
＝ＣＨ３）８．４夕（９５．２％収率）が得られる。Ｉ
Ｒ：レ錦髪３肌‐１：３５００〜３６０以３４４５・１
７９０ １７４７、１５１２。【５’２−（２０ーメト
キシカルポニルメトキシ−３８−ペンジルオキシカルポ
ニルアミノー４ーオキソアゼチジンー１ーィル）−２ー
クロル酢酸・ジフェニルメチルェステル（ｉｌ：Ｒ＝Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｒ″＝ＣＨ３；Ｘ′
′＝ＣＩ）−上記ヒドロキシ酢酸譲導体（ｉｏ：Ｒ＝Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３）８．
４夕（０．０１５ｍｏｌｅ）を無水塩化メチレン１００
の‘にとかし、これに塩化チオニル３．３４汎‘（０．
０４６ｍｏｌｅ）およびピリジン１．４６机【（０．０
１８ｍｏｌｅ）を氷冷縄洋下に滴下する。
チレンを追加して、水、食塩水で順次洗浄する。乾燥後
、溶媒を減圧留去すると、目的のヒドロキシ酢酸誘導体
（１０：Ｒ＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″
＝ＣＨ３）８．４夕（９５．２％収率）が得られる。Ｉ
Ｒ：レ錦髪３肌‐１：３５００〜３６０以３４４５・１
７９０ １７４７、１５１２。【５’２−（２０ーメト
キシカルポニルメトキシ−３８−ペンジルオキシカルポ
ニルアミノー４ーオキソアゼチジンー１ーィル）−２ー
クロル酢酸・ジフェニルメチルェステル（ｉｌ：Ｒ＝Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ：Ｒ′＝ＣＨＰｈ２；Ｒ″＝ＣＨ３；Ｘ′
′＝ＣＩ）−上記ヒドロキシ酢酸譲導体（ｉｏ：Ｒ＝Ｐ
ｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３）８．
４夕（０．０１５ｍｏｌｅ）を無水塩化メチレン１００
の‘にとかし、これに塩化チオニル３．３４汎‘（０．
０４６ｍｏｌｅ）およびピリジン１．４６机【（０．０
１８ｍｏｌｅ）を氷冷縄洋下に滴下する。
氷冷下に３び分間燭拝した後、反応液に適量の塩化メチ
レンを加え、水、食塩水で洗浄する。乾燥後、溶媒を減
圧留去すると、目的のモノクロル酢酸譲導体（１１：Ｒ
＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３；
〕″−ＣＩ）８．９夕が得られる。ｒｗ鶏皮３肌‐１：
３４３５、１７９０、１７４８、１７２５ １５０２。
｛６’２−（２８−力ルポキシメトキシ−３０−ペンジ
ルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼチジン−１
ーイル）−２−トリフエニルホスホラニリデン酢酸・ジ
フェニルメチルェステル（１２：Ｒ＝ＰｈＣ＆ＯＣＯ；
Ｒ＝ＣＨＰｈ２）−上記モノクロル酢酸譲導体（１１：
Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝Ｃ比：
Ｘ′′＝ＣＩ）８９夕（０．０１５ｍｏｌｅ）を塩化メ
チレン１００Ｍにとかし〜これにトリフエニルホスフイ
ン８．０夕（０．０３ｈｏｌｅ）を加え、１．期時間加
熱還流する。
レンを加え、水、食塩水で洗浄する。乾燥後、溶媒を減
圧留去すると、目的のモノクロル酢酸譲導体（１１：Ｒ
＝ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝ＣＨ３；
〕″−ＣＩ）８．９夕が得られる。ｒｗ鶏皮３肌‐１：
３４３５、１７９０、１７４８、１７２５ １５０２。
｛６’２−（２８−力ルポキシメトキシ−３０−ペンジ
ルオキシカルボニルアミノー４−オキソアゼチジン−１
ーイル）−２−トリフエニルホスホラニリデン酢酸・ジ
フェニルメチルェステル（１２：Ｒ＝ＰｈＣ＆ＯＣＯ；
Ｒ＝ＣＨＰｈ２）−上記モノクロル酢酸譲導体（１１：
Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ＝ＣＨＰｈ２：Ｒ″＝Ｃ比：
Ｘ′′＝ＣＩ）８９夕（０．０１５ｍｏｌｅ）を塩化メ
チレン１００Ｍにとかし〜これにトリフエニルホスフイ
ン８．０夕（０．０３ｈｏｌｅ）を加え、１．期時間加
熱還流する。
次いで、これにトリフエニルホスフイン２．０夕（７．
５ｍｍｏｌｅ）を追加し、更に１時間加熱還流する。反
応液を５％炭酸水素ナトリウム水に注ぎ、中和して、塩
化メチレンで抽出する。抽出液を水、食塩水で順次洗浄
後、乾燥、溶媒を減圧留去して得られる残澄をシリカゲ
ル３００夕のカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（
４：１〜１：１）で熔出すると、目的のトリフェニルホ
スホラン・メチルエステル、即ち、２−（２０−メトキ
シカルボニルメトキシ−３８ーベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−４‐−オキソアゼチジン−１−イル）一２ー
トリフエニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメテル
ェステル１０．２夕（８４．１％収率）が得られる。Ｉ
Ｒ：〃錦髪３仇‐１：３４４５・Ｉ７９０・Ｉ７２５・
Ｉ６３０・Ｉ５Ｉ２０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：３
．５８（ｓ、細）、３，６〜５．２（ｍ、４Ｈ）、５．
０７（ｓ、が）。上記トリフェニルホスホラン１メチル
ェステル１６．２３夕（２０．５ｍｍｏｌｅ）をテトラ
ヒドロフラン２４０叫にとかし、氷冷下、これに水酸化
ナトリウム水（０．１９ｍｍｏｌｅ／似）１１８叫（２
２．５ｍｍｏｌｅ）を２〜５℃の温度で３０分を要して
滴下する。反応液を１粉ン間櫨押した後、２％塩酸４４
の【（２３ｍｍｏｌｅ）を加えて中和し、酢酸エチルに
て抽出する。抽出液を水「食塩水で洗浄し、乾燥後、溶
媒を減圧留去すると、目的のトリフェニルホスホラン誘
導体（１２：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）
１５．８夕が得られる。
５ｍｍｏｌｅ）を追加し、更に１時間加熱還流する。反
応液を５％炭酸水素ナトリウム水に注ぎ、中和して、塩
化メチレンで抽出する。抽出液を水、食塩水で順次洗浄
後、乾燥、溶媒を減圧留去して得られる残澄をシリカゲ
ル３００夕のカラムに通して、ベンゼン−酢酸エチル（
４：１〜１：１）で熔出すると、目的のトリフェニルホ
スホラン・メチルエステル、即ち、２−（２０−メトキ
シカルボニルメトキシ−３８ーベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−４‐−オキソアゼチジン−１−イル）一２ー
トリフエニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメテル
ェステル１０．２夕（８４．１％収率）が得られる。Ｉ
Ｒ：〃錦髪３仇‐１：３４４５・Ｉ７９０・Ｉ７２５・
Ｉ６３０・Ｉ５Ｉ２０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：３
．５８（ｓ、細）、３，６〜５．２（ｍ、４Ｈ）、５．
０７（ｓ、が）。上記トリフェニルホスホラン１メチル
ェステル１６．２３夕（２０．５ｍｍｏｌｅ）をテトラ
ヒドロフラン２４０叫にとかし、氷冷下、これに水酸化
ナトリウム水（０．１９ｍｍｏｌｅ／似）１１８叫（２
２．５ｍｍｏｌｅ）を２〜５℃の温度で３０分を要して
滴下する。反応液を１粉ン間櫨押した後、２％塩酸４４
の【（２３ｍｍｏｌｅ）を加えて中和し、酢酸エチルに
て抽出する。抽出液を水「食塩水で洗浄し、乾燥後、溶
媒を減圧留去すると、目的のトリフェニルホスホラン誘
導体（１２：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ：Ｒ＝ＣＨＰｈ２）
１５．８夕が得られる。
ＩＲ：レ鴇髪３弧‐１：３４４０、１７７ｉ１７２５１
６２５・１５１０。【７） ７０−ペンジルオキシカル
ボニルアミノ−３−ヒドロキシ−１ーオキサ−１−デチ
ア−３−セフェムー４−カルボン酸・ジフェニルメチル
エステル（ロ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ
２）−上記トリフェニルホスホラン謙導体（１２：Ｒ：
ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１５．８夕（２
０．３ｍｍｏｌｅ）を無水トルェン３００Ｍにとかし、
これに無水酢酸４１．４夕（４０６ｍｍｏｌｅ）および
ＮＯＮ−ジメチルアセトアミド８．８７夕（１０２肌ｍ
ｏｌｅ）を加えて、１００〜１０５０○（俗温）に１６
時間加熱する。
６２５・１５１０。【７） ７０−ペンジルオキシカル
ボニルアミノ−３−ヒドロキシ−１ーオキサ−１−デチ
ア−３−セフェムー４−カルボン酸・ジフェニルメチル
エステル（ロ：Ｒ＝ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ
２）−上記トリフェニルホスホラン謙導体（１２：Ｒ：
ＰｈＣＨ２０ＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）１５．８夕（２
０．３ｍｍｏｌｅ）を無水トルェン３００Ｍにとかし、
これに無水酢酸４１．４夕（４０６ｍｍｏｌｅ）および
ＮＯＮ−ジメチルアセトアミド８．８７夕（１０２肌ｍ
ｏｌｅ）を加えて、１００〜１０５０○（俗温）に１６
時間加熱する。
袷後、反応液にベンゼンを加え、水、食塩水で順次洗浄
後、乾燥し、溶媒を減圧留去すると、約２０夕の残澄が
得られる。これをシリカゲル６００夕のカラムに通して
、ベンゼン−酢酸エチル−酢酸（９：１：０．００１）
鷹液で溶出すると、３ーアセトキシ−７８ーベンジルオ
キシカルボニルアミノ−１−オキサ−１−デチア−３−
セフェム−４−カルボン酸・ジフェニルメチルヱステル
５．０８夕（４８％収率）（以下３−アセトキシ体と云
う）および副生物としての２−（２−ペンジルオキシカ
ルポニル−３・８ージオキソー５−オキサｍ２・７ージ
アザビシクロ〔４・２・０〕オクタン−７ーイル）−２
−トリフェニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメチ
ルヱステル３．２５夕（２１．５％収率）が得られる。
３−ァセトキシ体の物理恒教職：レ銭暖３肌‐１：３４
４５、１８００、１７８５ １７２ふ １６５６、１５
０８。
後、乾燥し、溶媒を減圧留去すると、約２０夕の残澄が
得られる。これをシリカゲル６００夕のカラムに通して
、ベンゼン−酢酸エチル−酢酸（９：１：０．００１）
鷹液で溶出すると、３ーアセトキシ−７８ーベンジルオ
キシカルボニルアミノ−１−オキサ−１−デチア−３−
セフェム−４−カルボン酸・ジフェニルメチルヱステル
５．０８夕（４８％収率）（以下３−アセトキシ体と云
う）および副生物としての２−（２−ペンジルオキシカ
ルポニル−３・８ージオキソー５−オキサｍ２・７ージ
アザビシクロ〔４・２・０〕オクタン−７ーイル）−２
−トリフェニルホスホラニリデン酢酸・ジフェニルメチ
ルヱステル３．２５夕（２１．５％収率）が得られる。
３−ァセトキシ体の物理恒教職：レ銭暖３肌‐１：３４
４５、１８００、１７８５ １７２ふ １６５６、１５
０８。
ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）柳：２．００（ｓ、知日）、
４，３２（ｓ、が）、５．０５（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ
）、５．１３（ｓ、が）、５．３８（ｑ、Ｊ＝４および
１０ＨＺ、ＩＨ）、５．６８（ｄ、Ｊ＝１０ＨＺ、ＩＨ
）、６．９５（ｓ、ＩＨ）。副生物の物理恒数ＩＲ：レ
錦鞍３の‐１：１７９ｏ、１７７＆ １７４０、１６２
８０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）胸：３〜４（ｍ、２Ｈ）
、４〜５（ｍ、汎）、５．２７（ｓ、が）。
４，３２（ｓ、が）、５．０５（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ
）、５．１３（ｓ、が）、５．３８（ｑ、Ｊ＝４および
１０ＨＺ、ＩＨ）、５．６８（ｄ、Ｊ＝１０ＨＺ、ＩＨ
）、６．９５（ｓ、ＩＨ）。副生物の物理恒数ＩＲ：レ
錦鞍３の‐１：１７９ｏ、１７７＆ １７４０、１６２
８０ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）胸：３〜４（ｍ、２Ｈ）
、４〜５（ｍ、汎）、５．２７（ｓ、が）。
上記３ーアセトキシ体３．２夕（５．９ｍｍｏｌｅ）を
ピリジン６０の‘および水１２叫の混液に袷時とかし、
室温にて１．７虫時間嬢幹する。
ピリジン６０の‘および水１２叫の混液に袷時とかし、
室温にて１．７虫時間嬢幹する。
反応液を氷中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル抽出液を水、１０％リン酸、水、食塩水で順次洗浄し
、乾燥後、溶媒を減圧蟹去すると、目的の３ーヒドロキ
シ体（Ｄ：Ｒ：ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）３
．０５夕が白色泡状物質として得られる。ＩＲ：レ誌髭
〆３伽１：３４４０・１７９５・１７２５・１６７５、
１６２５、１５１００ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：４
．３７（ｓ、が）、５．０５（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）
、５．１８（ｓ、２Ｈ）、５．４５（ｑ、Ｊ＝ｌｏＨＺ
、ＩＨ）、５．７２（ｄ、Ｊ＝１０ＨＺ、ＩＨ）、７．
００（ｓ、ＩＨ）、１０．８３（ｓ、ＩＨ）。本品は実
施例１における原料化合物として使用し得る。
ル抽出液を水、１０％リン酸、水、食塩水で順次洗浄し
、乾燥後、溶媒を減圧蟹去すると、目的の３ーヒドロキ
シ体（Ｄ：Ｒ：ＰｈＣ比ＯＣＯ；Ｒ′＝ＣＨＰｈ２）３
．０５夕が白色泡状物質として得られる。ＩＲ：レ誌髭
〆３伽１：３４４０・１７９５・１７２５・１６７５、
１６２５、１５１００ＮＭＲ：６（ＣＤＣｌ３）肌：４
．３７（ｓ、が）、５．０５（ｄ、Ｊ＝４ＨＺ、ＩＨ）
、５．１８（ｓ、２Ｈ）、５．４５（ｑ、Ｊ＝ｌｏＨＺ
、ＩＨ）、５．７２（ｄ、Ｊ＝１０ＨＺ、ＩＨ）、７．
００（ｓ、ＩＨ）、１０．８３（ｓ、ＩＨ）。本品は実
施例１における原料化合物として使用し得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる７−アミノ−３′−ノル−１−オキサ−１
−デチアセフアロスポラン酸化合物（式中、 Ｒ＾１は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基
、低級アルキルスルホニルオキシ基、アリールチオ基ま
たはメチルテトラゾリルチオ基； Ｒ＾２はＣＯＯＨま
たは（ニトロまたはフエニル）ベンジルオキシカルボニ
ル基； Ｒ＾３は水素原子またはメトキシ基； をそれぞれ表わす）。
Priority Applications (10)
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|---|---|---|---|
| JP51093809A JPS609514B2 (ja) | 1976-08-05 | 1976-08-05 | ７−アミノ−３′−ノルセファロスポラン酸類 |
| CA283,808A CA1090336A (en) | 1976-08-05 | 1977-07-29 | Cephalosporin analogues |
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP51093809A JPS609514B2 (ja) | 1976-08-05 | 1976-08-05 | ７−アミノ−３′−ノルセファロスポラン酸類 |
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Family Applications (1)
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