JPH0252200U - - Google Patents

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JPH0252200U
JPH0252200U JP12999488U JP12999488U JPH0252200U JP H0252200 U JPH0252200 U JP H0252200U JP 12999488 U JP12999488 U JP 12999488U JP 12999488 U JP12999488 U JP 12999488U JP H0252200 U JPH0252200 U JP H0252200U
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Japan
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electron beam
processed
irradiation
thickness
workpiece
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  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の１実施例である電子線照射装
置の概略図、第２図は繋ぎ目のあるシート状又は
板状の被処理物に電子線を照射する場合の説明図
、第３図は従来の電子線照射装置の概略図である
。 １０……電子線発生部、１１……照射窓部、１
１ａ……チタン箔、２０……処理室、２１……照
射部、２２……搬送ローラ、２３……照射部ロー
ラ、３０……制御部、３１……厚検出部、３２…
…速度検出部、３３……駆動装置、Ａ，Ｂ……被
処理物。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 電子線発生源より発した電子線を、照射窓部を
    介して被処理物に照射する電子線照射装置におい
    て、 前記被処理物の厚さを検出する厚検出手段と、 前記照射窓部と前記被処理物との間隔を調整す
    るために前記被処理物を移動する移動手段と、 前記厚検出手段からの信号を受けて前記移動手
    段を制御し、前記被処理物に電子線を照射する際
    に該被処理物の処理面と前記照射窓部との間隔を
    予め定めた一定値とする制御手段とを設けたこと
    を特徴とする電子線照射装置。
JP12999488U 1988-10-05 1988-10-05 Pending JPH0252200U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003508760A (ja) * 1999-08-31 2003-03-04 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 低損失ビーム経路を有する電子ビーム装置
JP2020027078A (ja) * 2018-08-17 2020-02-20 日立造船株式会社 電子線照射装置およびこれを具備する接着設備並びに接着方法

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