JPH0252984A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置Info
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- JPH0252984A JPH0252984A JP63203358A JP20335888A JPH0252984A JP H0252984 A JPH0252984 A JP H0252984A JP 63203358 A JP63203358 A JP 63203358A JP 20335888 A JP20335888 A JP 20335888A JP H0252984 A JPH0252984 A JP H0252984A
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- heating chamber
- heating
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
- F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path
- F27B9/201—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path walking beam furnace
- F27B9/202—Conveyor mechanisms therefor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any of groups F27B1/00 - F27B15/00
- F27B17/0016—Chamber type furnaces
- F27B17/0025—Chamber type furnaces specially adapted for treating semiconductor wafers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ージをN2零囲気下にて加熱処理する際に使用される加
熱装置に関する。
零囲気下で加熱処理する従来の加熱装置の一例を第5図
に示す。該加熱装置は、いわゆるハツチ式であり、熱源
室71内の熱源にて内部が所定温度に加熱された加熱室
内に、被加熱物60を収容して加熱処理される。被加熱
物60は、加熱室72の出入口に設けられた開閉扉73
を開閉操作することにより、加熱室72に出し入れされ
る。
熱物60を新に加熱すべき被加熱物と交換する際には、
−旦、加熱室72内の加熱された被加熱物60を取り出
した後に、加熱すべき被加熱物60を加熱室72内へ挿
入しなければならず9作業性が悪い。また、加熱室72
内では多数の被加熱物60が収容されるが、加熱室72
内の温度分布を均一にすることは困難であり、被加熱物
60の加熱室72における位置により被加熱物60の加
熱状態に差が生じるおそれがある。このため、加熱室7
2内の加熱効率の悪い位置に収容された被加熱物60を
、所定の加熱状態となるように加熱すれば、加熱効率の
良好な位置に収容された被加熱物60が過加熱されてし
まうおそれがある。
熱装置も知られている。該加熱装置は。
加熱室82が設けられており、該ベルト搬送装置81に
より、被加熱物60が加熱室82内を通過される。
ルド搬送装置81は、該ベルt−81aが周回移動され
るが、該ベルト81aは周回移動する際に振動しやすく
、該ベル)81a上に載置される被加熱物60が振動す
るおそれがある。このため、加熱中ば静止状態が要求さ
れる半導体素子等の被加熱物60では、ベルト搬送装置
81にて被加熱物60を搬送しつつ加熱することができ
ない。また、ベルト搬送装置81は、プーリ81bとの
摩擦伝導によりベルトが周回移動されるため、プーリ8
1bとベルl−81aとの摩擦により粉塵が発生しやす
い。特に、ベルト81aは加熱室82内で、加熱される
ため1通常、耐熱性に優れた金属網が使用されるが、該
金属網は。
82の周囲が汚染される。ヘルド搬送装置81を用いた
加熱装置では1通常、加熱室82内の被加熱物60導入
部および導出部が開放されているため。
、耐熱性に優れた金属網等のベルト旧aを周回移動させ
るためには駆動装置が大型化するという問題もある。
は、簡潔な構成で、被加熱物を加熱室内へ振動させるこ
となく搬送することができ、また。
ある。
、該加熱室内を被加熱物が通過するように、被加熱物の
導入口および導出口を有する加熱室と、該加熱室内を通
過する被加熱物が載置されるように該加熱室の内部およ
び外部に配設された被加熱物載置台と、該被加熱物載置
台上面からの出没および被加熱の搬送方向への往復搬送
可能であり、該被加熱物!!置台上の所定位置に載置さ
れた被加熱物を該被加熱載置台上の所定距離離れた位置
に移載するべく駆動される移送台と、 前記加熱室の導
入口および導出口を、該移送台の駆動に同期してそれぞ
れ開閉する導入扉および導出扉期してそれぞれ開閉する
導入扉および導出層と。
。
装置は、第1図に示すように、加熱室1゜を有する。該
加熱室10は、第1加熱部11と第2加熱部12の2室
に分割されており、それぞれの加熱部11および12は
断熱材10aで覆われている。各加熱部11および12
は下部にヒーター等の加熱源が配設されており、該加熱
源にて加熱されたN2零囲気が、ファンにより各加熱部
11および12内に循環されるようになっている。加熱
室10の各加熱部11および12内は、該加熱室10外
部の大気圧よりも常時高圧に維持されている。
いる。一方の加熱部11には9例えばキャリアに搭載さ
れたLSIパンケージを収容したラック等の被加熱物6
0が該加熱部11内に導入するための導入口11aが設
けられており、他方の加熱部I2には該加熱物を導出す
るための導出口12aが設けられている。これら導入口
11a、導出口12aおよび連通口13は、−直線上に
位置している。
おり該導入扉14の下方には、該導入扉14を昇降駆動
する開閉用エアーシリンダ15が配設されている。該開
閉用エアーシリンダ■5のピストンロッドには、第3図
(イ)に示すように上部が二俣状になった連結杆16の
下端部が連結されており、上部の二俣状に別れた各上端
部には導入扉14の各側部が取付られている。そして、
該開閉用エアーシリンダ15により、導入扉14が昇降
されて導入口11aが開閉される。
り、該導出扉17も、第1図に示すように、その下方に
設けられた開閉用エアーシリンダ18の駆動により、連
結杆19を介して昇降されて、該導出口12が開閉され
る。
1aと、連通口13との間にわたって架設された3本の
平行な角形パイプ21aでなる被加熱物載置台21が配
設されている。各角形パイプ21aの上面は等しい高さ
となっている。また、他方の加熱室12内には、連通口
13と導出口21aとの間にわたって、架設された3本
の角形パイプ22aでなる被加熱物載置台22が配設さ
れている。該載置台22の各角形パイプ22aは前記載
置台21の各角形パイプ21aとはそれぞれ直線状にな
っている。該載置台22の各角形パイプ22a上面は前
記角形パイプ21aの上面と等しい高さになっている。
の被加熱物R置台23が配設されている。該載置台23
は、該加熱部11内の載置台21における幅方向の外側
に位置する各角形パイプ21aおよび21aとはそれぞ
れ直線状に並列された2本の角形パイプ23aおよび2
3aでなる。また、加熱部12の外部には、導出口12
aを挟んで搬出側の被加熱物載置台24が配設されてい
る。該載置台24は、該加熱部12内の載置台22にお
ける幅方向の外側に位置ず角形パイプ22aおよび22
aとそれぞれ直線状に並設された2本の各形パイプ24
aおよび24aでなる。
よび24aの上面も、前記各載置台21および22の各
角形パイプ21aおよび22aの上面と同一のと高さと
なっている。各載置台23.21 、22.24には、
被加熱部60が順次載置される。
一対の角形パイプ31aおよび31aでなる加熱室用移
送台31が配設されている。該加熱室用移送台31の各
角形パイプ31aは、各加熱部11および12内に配設
された載置台21および22の角形パイプ21a問およ
び22a間に各角形パイプ21aおよび22aとは平行
に配設されており、それぞれの各端部は。
昇降し得ると共に、同期して被加熱物60の搬送方向に
移動し得る。該移送台31の各角形パイプ31aの上面
は、各端部を除いて、最も下降した状態で、載置台21
および22の角形パイプ21aおよび22aの上面より
下方へ没入した状態となる。該移送台31の角形パイプ
31aにおける各端部の上面は。
して、この各端部を除く中央部が被加熱物の載置部とな
っている。
台31の各角形パイプ31aにおけるそれぞれの端部は
、第3図(ロ)に示すように、水平状の連結板32に連
結されており、該連結板32が昇降用エアシリンダ33
のピストンロッドに連結されている。
が昇降されて、各角形パイプ31aの端部が一体的に昇
降される。該移送台31における角形パイプ31aの導
出口12aから延出する端部も、第1図に示すように、
水平状の連結板32にて連結されており、該連結板32
が昇降用エアーシリンダ33により昇降される。
用エアーシリンダ33および33は、同期して駆動され
るが、各角形バイブ31a端部の昇降の同期を一層確実
にするために、一方の角形パイプ31aの各端部にピニ
オンギヤ36がそれぞれ設けられ各角形パイプ31aの
端部を昇降させるエアーシリンダ33および33がそれ
ぞれ取付られた支持台34上に、各ピニオンギヤ36と
噛合するラック37が鉛直上にそれぞれ配設されている
。そして、各エアーシリンダ33および33による各角
形パイプ31aの昇降時には、各ピニオンギヤ36がラ
ック37上を転接することにより、各角形パイプ31a
のそれぞれの端部が同期して昇降される。
aを昇降させる昇降エアーシリンダ33および33は角
形パイプ31aの長手方向、すなわち被加熱物60の搬
送方向に沿って搬送し得るように配設されている。
aの端部を昇降させる昇降用エアーシリンダ33は支持
台34に取付られており、該支持台34は、−対の摺動
ブロック41および41に支持されている。
に架設された一対のガイド杆42にそれぞれ摺動可能に
外嵌されている。各角形パイプ31aの他方の端部を昇
降させる昇降用エアーシリンダ33の支持台34も、同
様に、第1図に示すように、一対の摺動ブロック41に
支持されており、各摺動ブロック41が一対のガイド杆
にそれぞれ摺動可能に外嵌されている。
1は、その下方に配設されたロッドレスタイプの搬送用
エアーシリンダ45により被加熱物60の搬送方向に往
復移動される。該ロッドレスタイプの搬送用エアーシリ
ンダ45は2本体部45aが被加熱物の搬送方向と平行
に架設されたシリンダチューブ45bに沿って移動され
る。該本体部45aは各摺動ブロック41に取付けられ
ており、該本体部45aがシリンダーチューブ45bに
沿って往復移動することにより、各摺動ブロック41が
被加熱物の搬送方向へ平行に往復移動する。これにより
、角形パイプ31aの端部昇降用エアーシリンダ33が
被加熱物搬送方向とは平行に往復移動され、角形パイプ
31aが被加熱搬送方向に往復移動される。そして。
されることにより、角形パイプ31aは、その被加熱部
載置部の各端部が加熱室10外に位置される。
被加熱物載置台23内には、s大検送台51が配設され
ている。該搬入移送台51は、一対の平板51aおよび
51aを有し、各平板51aが、載置台23の各角形パ
イプ23aと移送台31の各角形パイプ31aとの間に
、それぞれの角形パイプ23aおよび31aに沿って鉛
直状に配設されている。該搬入移送台51は、前記加熱
室用移送台31と同様に、昇降および被加熱物搬送方向
への往復移動可能である。
た状態で被加熱物載置台23の各角形パイプ23a上面
より下方へ没入した状態となる。
昇降用エアーシリンダ33および搬送用エアーシリンダ
45の各側方を通って、該搬送用エアーシリンダ45の
下方にまで達している。そして、該搬送用エアーシリン
ダ45の下方に配設された昇降用エアーシリンダ52に
より各平板51aが昇降される。
プの搬送用エアーシリンダ53が配設されており、該搬
送用エアーシリンダ53にて、平板51aが被加熱物搬
送方向に往復移動される。該搬送用エアーシリンダ53
の移動ストロークは、前記移送台31の搬送用エアーシ
リンダ45のストロークよりも十分に小さくなっている
。この昇降用エアーシリンダ52および搬送用エアーシ
リンダ53の取付は構造は、前記移送台31の昇降用エ
アーシリンダ33および搬送用エアーシリンダ45と略
同様であるので詳細な説明は省略する。
出側被加熱物載置台24には、搬出移送台55が配設さ
れている。該搬出移送台55は前記搬入移送台51と同
様に、一対の平板55aを有し、各平板55aを昇降用
エアーシリンダ56にて昇降させると共に、該昇降用エ
アーシリンダ56を搬送用エアーシリンダ57にて被加
熱物搬送方向に往復移動させる。
ンダ57の取付構造は前記搬入移送台51の昇降用エア
ーシリンダ52および搬送用エアーシリンダ53の取付
構造と同様である。
にわたって被加熱物60が載置される(第4図(イ)参
照)。このような状態で、R大検送台51を上昇させる
べく、昇降用エアーシリンダ52が駆動される。これに
より、搬入移送台51の各平板51aが搬入側載置台2
3上面より進出し1wi入側載置台23の始端部上の被
加熱物60は、搬入移送台51の各平板51a始端部上
面にて持ち上げられる(第4図(ロ)参照)、被加熱物
60が搬入移送台51により搬入側載置台23から持ち
上げられると、昇降用エアーシリンダ52は停止状態と
なり、搬入移送台51は被加熱物60を持ち上げた状態
を維持する。
の搬送用エアーシリンダ53を動作させて該昇降用エア
ーシリンダシ52を、加熱室10側へ所定距離だけ移動
させる。これにより、WI人移送台51上の被加熱物6
0は、第4図(ハ)に示すよう仝こ。
される。そして、搬送用エアーシリンダ53の駆動が停
止されると、昇降用エアーシリンダ52が。
台51は、搬入側載置台23上面から没入した状態にな
り、第4図(ハ)に示すように、該搬入移送台51上の
被加熱物60は、搬入側載置台23上に移載される。
、搬入移送台51にて所定距離ずつ、順次加熱室10側
へ移送される。このとき、搬入側載置台23の始端部上
には、被加熱物60が順次載置され、該搬入側載置台2
3上に載置された全ての被加熱物60が一体的に搬入移
送台51により所定距離だけ加熱室10側に移送される
。
端部に被加熱物60が載置されると、前記搬入移送台5
1の上昇に同期して、加熱室用移送台31を上昇させる
べく昇降用エアーシリンダ33および33が駆動され、
該加熱室用移送台31が水平状に上昇される。このとき
、同時に加熱室IOの導入口11aおよび導入口12a
をそれぞれ閉塞する導入扉14および導出層17を上昇
させるべく、開閉用エアーシリンダ15および18が駆
動され、該導入扉14および導出層17が上昇されて導
入口11aおよび導出口12aが開放される。このとき
加熱室10内は、常時、該加熱室10の外部より高圧に
なっているため、導入扉14の上昇による導入口11a
および導出口12dの開放により、該加熱室10内に外
部の空気が流入するおそれがない。そして、昇降用エア
ーシリンダ33および33により、該加熱室用移送台3
1が上昇されると、第4図(ロ)に示すように、該加熱
室用移送台31における載置部の端部上面にて、搬入側
載置台23の端部上の被加熱物60が持ち上げられる。
搬送用エアーシリンダ45が駆動され、該昇降用エアー
シリンダ33は加熱室10側へ所定距離にわたって移動
される。これにより、加熱室用移送台31は、所定距離
にわたって水平移動し、その載置部の端部に載置された
被加熱物60は、第4図(ハ)に示すように、導入口1
3を通って加熱室10内の第1加熱部ll内に位置され
る。その後、昇降用エアーシリンダ33および33が同
期して駆動され、移送台31は下降される。該加熱室用
移送台31は第1加熱部11内の載置台21上面より没
入した状態になり。
載される。
4および導出層17に連結された開閉用エアーシリンダ
15および18が駆動され、導入扉14および導出層1
7は下降される。これにより、導入口11aおよび導出
口12aが閉塞される。
上に載置された被加熱物60が加熱される。そして、該
第1加熱部11における所要の加熱時間の172が経過
した時点で、加熱室用移送台31と、導入扉14および
導出層17を前述の動作と同様に動作させる。これによ
り、第1加熱部11内に位置して加熱された被加熱物6
0は、連通口13を通って第2加熱部12内へ搬送され
ると共に、第1加熱部ll内へ新たに被加熱物60が導
入される。そして、第1加熱部11における所要の加熱
時間の172が経過すると。
2加熱部12側の被加熱物60は連通口13を通って第
2加熱部12内へ導入される。該第2加熱部12内にお
いても、所要の加熱時間の172が経過すると、同様の
動作が繰り返され、第2加熱部12内の被加熱物60が
導出口12a側の所定位置に達し、この位置にて所要の
加熱時間の172に相当する時間にわたって加熱される
。その後に、加熱室用移送台31.導入層14および導
出扉17とが前述の動作と同様の動作を繰り返すと、第
2加熱部12内にて所要時間にわたって加熱された被加
熱物60は、導出口12aを通って加熱室10外へ搬出
され、搬出側蔵置台55上に移載される。
にして、第1加熱部11にて所定時間にわたって加熱さ
れた後に、第1加熱部11から第2加熱部12に順次移
動され、そして、第2加熱部にて所定時間にわたって加
熱されて、該加熱室10から導出される。
は、*出移送台55にて順次搬送方向の下流側に搬送さ
れる。該搬出移送台55の動作は、前記搬入移送台5I
と同様であるので説明を省略する。
熱物の載置台を分割して配設する構成としたが、加熱室
の内部と外部とに配設される被加熱物載置台が一体であ
ってもよい。また、搬入移送台51.加熱室用移送台3
1.および搬出移送台55も一体に構成して、1つの駆
動源にて駆動させる構成としてもよい。このようにすれ
ば全体の構成が著しく簡略化され、しかも駆動源が1つ
でよいために、制御が容易である。
加熱室10の導入口11aおよび導出口12aを通過さ
せるための移送台と、加熱室ll内を搬送させる移送台
とを別体に構成して1両移送台を1つの駆動源にて駆動
させる構成としてもよい。このような構成であれば、加
熱室の導入口および導出口の開閉回数を減少させること
ができ、加熱室内の温度の低下を防止できると共に、加
熱室内の温度分布が不均一になることも防止し得る。
て順次加熱室へ導入されて、該加熱室を通過した後に該
加熱室から順次導出されるため。
加熱される。加熱室は、被加熱物が導入および導出され
る際にのみ導入口および導出口が導入層および導出扉に
てそれぞれ開放されるだけであるため、該加熱室内を所
定温度に維持することができると共に、加熱室内に汚染
した空気が入り込むおそれがなく、該加熱室内を清浄に
保つことができる。さらに、被加熱物は振動することな
く搬送されるため、半導体素子等の加熱には好適である
。
要部の平面図、第3図(イ)は第1図の■−■線におけ
る断面図、第3図(ロ)は第1図のIV−IV線におけ
る断面図、第4図(イ)〜(ニ)は動作説明のための本
発明の加熱装置の模式図第5図および第6図はそれぞれ
従来の加熱装置の概略図である。
・・・導入口。
・・・開閉用エアーシリンダ、17・・・導出扉、 2
1.22.23.24・・・被加熱物載置台、 31・
・・加熱室用移送台、33・・・昇降用エアーシリンダ
、45・・・搬送用エアーシリンダ、51・・・搬入用
移送台、 52.56・・・昇降用エアーシリンダ。
般出用移送台。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、内部が所定温度に加熱されており、該加熱室内を被
加熱物が通過するように、被加熱物の導入口および導出
口を有する加熱室と、 該加熱室内を通過する被加熱物が載置されるように該加
熱室の内部および外部に配設された被加熱物載置台と、 該被加熱物載置台上面からの出没および被加熱の搬送方
向への往復搬送可能であり、該被加熱物載置台上の所定
位置に載置された被加熱物を該被加熱載置台上の所定距
離離れた位置に移載するべく駆動される移送台と、 前記加熱室の導入口および導出口を、該移送台の駆動に
同期してそれぞれ開閉する導入扉および導出扉と、 を具備する加熱装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63203358A JPH0762589B2 (ja) | 1988-08-16 | 1988-08-16 | 加熱装置 |
| US07/387,702 US4975048A (en) | 1988-08-16 | 1989-07-31 | Heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63203358A JPH0762589B2 (ja) | 1988-08-16 | 1988-08-16 | 加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0252984A true JPH0252984A (ja) | 1990-02-22 |
| JPH0762589B2 JPH0762589B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=16472709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63203358A Expired - Fee Related JPH0762589B2 (ja) | 1988-08-16 | 1988-08-16 | 加熱装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4975048A (ja) |
| JP (1) | JPH0762589B2 (ja) |
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| JPH0762589B2 (ja) | 1995-07-05 |
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