JPH0254407A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ヘッド製造方法に関し、詳しくは磁気ヘ
ッドの製造において一対のコアブロックを突合わせて接
合一体化する方法に関するものである。

〔従来の技術〕

例えばＦＤＤや８　ｔｍ　Ｖ　Ｔ　Ｒに使用される磁気
ヘッドとしては、記録媒体である磁気ディスクでの情報
の書込み及び読み出しを高密度で行うＭ　Ｉ　Ｇ　（Ｍ
ｅｔａｌ　ｉｎ　Ｇａｐ）　ヘｙドなるものがある。

このＭＩＧヘッド（１）は、第９図乃至第１１図に示す
ように、強磁性体であるフェライトからなる一対の磁気
コア（２）（２）を、高飽和磁束密度金属強磁性体であ
るセンダストからなる金属薄膜（３）（３）を介して低
融点ガラス（４）（４）で接合一体化してコアチップ（
５）をなし、上記金属薄膜（３）（３）間に所定のトラ
ック幅Ｔを有する磁気ギャップｇを形成する。この磁気
ギャップｇはその両側方から上記低融点ガラス（４）（
４）で保護される。上記コアチップ（５）の各磁気コア
（２）（２）にＣｕ等の線材（６）（６）を巻回してコ
イルを形成すると共に、上記磁気コア（２）（２）の下
部に強磁性体であるフェライトからなるバックコア（７
）を磁気コア（２）（２）に跨がるように貼着固定して
閉磁路を形成する。

上記ＭＴＧヘッド（１）は、第１４図乃至第１７図に示
す各工程を経て製造される。

まず、第１４図に示すように強磁性体であるフェライト
からなる略直方体形状の一対のコアブロック（８）（８
）を用意する。次に第１５図に示すように上記コアブロ
ック（８）（８）の内側面に所定のトラック幅Ｔを残し
て複数トラック溝（９）（９）・・・（９）（９）・・
・を定ピツチで切削加工する。そしてコアブロック（８
）（８）の内側面に高飽和磁束密度金属強磁性体である
センダストをスパッタリング等して金属薄膜（１０）　
　（１０）を被着形成する。その後、第１１図に示すよ
うに上記コアブロック（８）（８）をガラスモールドし
て各トラック溝（９）（９）・・・（９）（９）・・・
に低融点ガラス（１１）　　（１１）・・・（１１）　
　（１１）・・・を充填し、そしてコアブロック（８）
（８）の内側面を研磨した上で、図示しないがギャップ
スペーサとなるＳｉｎｇ等の非磁性体薄膜を被着形成す
る。次に、第１７図に示すように巻線溝（１７）の切削
加工し、その後第１７図に示すようにコアブロック（８
）（８）を突合わせて加熱し、上記低融点ガラス（１１
）　　（１１）・・・で接合一体化する。また上記コア
ブロック（８）（８）の下部中央を切削除去した上でコ
アブロック（８）（８）を定ピツチで一点鎖線Ｐ、Ｐ、
・・・に沿ってスライスし、第９図に示すコアチップ（
５）を得る。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、上述した磁気ヘッドの製造方法ではコアチッ
プ（５）を製造するにあたり、コアブロック（８）（８
）のトラック溝（９）（９）に金属薄膜（１０）　　（
１０）を被着形成した後、低融点ガラス（１１）　　（
１１）・・・を充填する際、及びコアブロック（８）（
８）を突合わせて加熱・溶着する際においてそれぞれ熱
処理しているため、加熱回数が多くてコアブロック（８
）（８）が熱的ダメージを受は易い。特に、金属薄膜（
１０）は薄いため剥れ易く、それによって磁気特性の劣
化を招いていた。

〔課題を解決するための手段］ 本発明は、強磁性体からなる一対のコアブロックの磁気
ギャップ形成予定部位に、トラック溝を切削加工してそ
の内面に高飽和磁束密度金属強磁性体からなる金属薄膜
を被着形成する工程と、上記金属薄膜上に第１Ｖａ−Ｖ
ｉａ族中の金属からなるガラス親和材を被着形成して鏡
面加工し、磁気ギャップ形成予定面のガラス親和材を除
去する工程と、各コアブロックを磁気ギャップ形成予定
面と対向させて突合わせると共に、巻線溝にガラス棒を
介挿して加熱し、各コアブロックをガラス溶着にて接合
一体化して磁気ギャップを形成する工程とを含むことを
特徴とする。

〔作用〕

上記技術的手段によれば、一対のコアブロックに形成し
たトラック溝に金属薄膜を被着形成してその上に第１Ｖ
　ａ　ｘＶＩ　ａ族中の金属からなるガラス親和材を被
着し、磁気ギャップ形成予定面のガラス親和材を除去し
た後、各コアブロックを突合わせてガラス溶着し、１回
の熱処理にてコアチップを製造する。

〔実施例〕

本発明方法をＦＤＤ装置に使用されるＭＩＧヘッドに適
用した一実施例を第１図乃至第８図を参照して以下説明
する。

まず第４図に示すように、強磁性体であるフェライトか
らなる略直方体形状の一対のコアブロック（１２）　　
（１２）を用意する。次に、第５図及び第１図に示すよ
うに、上記コアブロック（１２）　　（１２）の内側面
に、断面Ｖ形状を有する複数のトラック溝（１３）　　
（１３）・・・（１３）　　（１３）・・・をその長手
方向に沿って定ピツチで切削加工し、又巻線溝（１７）
を切削加工する。そして上記コアブロック（１２）　　
（１２）の内側面に高飽和磁束密度金属強磁性体である
センダストをスパッタリング等して金属１１１！Ｊ（１
４）　　（１４）を被着形成する０次に、第６図及び第
２図に示すように、金属薄膜（１４）　　（１４）上の
全面に第１Ｖａ〜Ｖｉａ族に含まれる金属からなるガラ
ス親和材（１５）　　（１５）　、例えばＣｒ、Ｔｉ、
Ｔａ等を選択して被着形成した後、その被着面を研磨し
て鏡面加工し、第７図及び第３図に示すように、磁気ギ
ャップ形成予定面（Ｇ）のガラス親和材（１５）（１５
）を除去する。この時、従来はトラック溝（９）に低融
点ガラス（１１）を充填してそのガラス表面を研磨して
いたため、ガラス（１１）が硬く、研磨が困難であった
が、本発明方法によれば、トラック溝（１３）の金属薄
膜（１４）上にガラス親和材（１５）を薄く被着すれば
よく、簡単に研磨できる。そして、一方のコアブロック
（１２）における磁気ギャップ形成予定面（Ｇ）にＳｉ
ｎ、等のギャップスペーサ（図示せず）をスパッタリン
グ等して被着する。その後、第８図に示すように、各コ
アブロック（１２）　　（１２）を磁気ギャップ形成予
定面（Ｇ）を対向させて突合わせると共に、巻線溝に低
融点ガラス棒（１６）（１６）・・・を介挿して加熱し
、各コアブロック（１２）　　（１２）をガラス溶着に
て接合一体化して磁気ギヤズブを形成する。又、上記コ
アブロック（１２）　　（１２）の下部中央を切削除去
した上でコアブロック（１２）　　（１２）を定ピツチ
でスライスし、第１１図に示すコアチップ（５ａ）を得
る。

尚、上記実施例では台形型のＭＩＧヘッドについて説明
したが、第１２図に示すＴＳＳ型や第１３図に示すＸ型
のＭＩＧヘッドについても通用できる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、一対のコアブロックに形成したトラッ
ク溝の金属薄膜を被着形成してその上にガラス親和材を
被着し、磁気ギャップ形成予定面のガラス親和材を除去
した後、各コアブロックを突合わせてガラス溶着しコア
チップを形成するようにしたから、熱処理が１回ですむ
ため、工程が簡便となって作業性が向上し、更にコアブ
ロックの熱的ダメージが減ると共に、強磁性体金属薄膜
が剥離しなくなって磁気特性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第８図は本発明方法をＦＤＤ用のＭＩＧヘッ
ドに適用した一実施例を説明するためのもので、第１図
乃至第３図はコアブロックを示す各要部拡大断面図、第
４図乃至第８図はコアブロックを示す各斜視図、第９図
はＭＩＧヘッドの具体的構造を示す斜視図、第１０図は
第９図の正面図、第１１図は本発明の第１の実施例であ
る台形型ＭＩＧヘッドの平面図、第１２図は本発明の第
２の実施例であるＴＳＳ型ＭＩＧヘッドの平面図、第１
３図は本発明の第３の実施例であるＸ型ＭＩＧヘッドの
平面図、第１４図乃至第１８図は従来の磁気ヘッドの製
造方法を説明するためのものである。 （１２）・−・コアブロック、 （１４）−−−−一金属薄膜、 （１６）・−・ガラス棒、

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）強磁性体からなる一対のコアブロックの磁気ギャ
   ップ形成予定部位に、トラック溝を切削加工してその内
   面に高飽和磁束密度金属強磁性体からなる金属薄膜を被
   着形成する工程と、上記金属薄膜上に第IVａ〜VIａ族中
   の金属からなるガラス親和材を被着形成して鏡面加工し
   、磁気ギャップ形成予定面のガラス親和材を除去する工
   程と、各コアブロックを磁気ギャップ形成予定面と対向
   させて突合わせると共に、巻線溝にガラス棒を介挿して
   加熱し、各コアブロックをガラス溶着にて接合一体化し
   て磁気ギャップを形成する工程とを含むことを特徴とす
   る磁気ヘッドの製造方法。