JPS595414A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPS595414A JPS595414A JP11388082A JP11388082A JPS595414A JP S595414 A JPS595414 A JP S595414A JP 11388082 A JP11388082 A JP 11388082A JP 11388082 A JP11388082 A JP 11388082A JP S595414 A JPS595414 A JP S595414A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- groove
- magnetic head
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高密度磁気記録に適した磁気ヘッドに係り、特
に高保磁力記録媒体に対して好適な性能を有するビデオ
用磁気ヘッドに関する。
に高保磁力記録媒体に対して好適な性能を有するビデオ
用磁気ヘッドに関する。
高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁力I(Cを大きくすれば有利であることが知られてい
るが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するために
は、強い磁界が必要となる。
磁力I(Cを大きくすれば有利であることが知られてい
るが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するために
は、強い磁界が必要となる。
ところが、現在用いられているフェライト材はその飽和
磁束密度Bsが4000〜5000ガウス程度であるた
め、得られる記録磁界の強さに限界があり、磁気記録媒
体の保磁力1(、が1000エルステツドを越える・A
合には、記録が不十分になるとbう欠点がある。゛ 一方、金属磁性材料で総称されるpe−ht−si合金
(センダストと称されている)、N1−re金合金パー
マロイ]等の結晶質磁性合金、あるいは非晶質磁性合金
を用−た磁気ヘッドは、一般にフェライト材よジ飽和磁
束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイズが低いという
優れた特性を有する。
磁束密度Bsが4000〜5000ガウス程度であるた
め、得られる記録磁界の強さに限界があり、磁気記録媒
体の保磁力1(、が1000エルステツドを越える・A
合には、記録が不十分になるとbう欠点がある。゛ 一方、金属磁性材料で総称されるpe−ht−si合金
(センダストと称されている)、N1−re金合金パー
マロイ]等の結晶質磁性合金、あるいは非晶質磁性合金
を用−た磁気ヘッドは、一般にフェライト材よジ飽和磁
束密度の高いものがあり、かつ摺動ノイズが低いという
優れた特性を有する。
しかし、一般に使用されるトラック幅(10μm以上)
の厚みでは渦電流損失によりビデオ周波数領域での実効
透磁率がフェライトより低下し、再生能率が低くなる欠
点を有する。また、耐摩耗性に関してはフェライトより
数段劣る。
の厚みでは渦電流損失によりビデオ周波数領域での実効
透磁率がフェライトより低下し、再生能率が低くなる欠
点を有する。また、耐摩耗性に関してはフェライトより
数段劣る。
そこで、上記のような問題を解決するために、フェライ
トと金属磁性材を組み合せて両者の良い点を利用した磁
気ヘッドが提案されている。
トと金属磁性材を組み合せて両者の良い点を利用した磁
気ヘッドが提案されている。
例えば、第1図(イ)に示すように、コア主体部となる
高透磁率フェライト1に切り溝を設け、これに金属磁性
薄板2を挿入して、ガラスなどの非磁性材で固定する。
高透磁率フェライト1に切り溝を設け、これに金属磁性
薄板2を挿入して、ガラスなどの非磁性材で固定する。
この場合、作動ギャップ部は金属磁性薄板で形成される
ように作動ギャップ近傍のフェライト部に切り欠きが設
けられ、そこに補強材としてガラス等の非磁性材3.3
′が充填される。4はコイル巻線用窓である。らのよう
な磁気ヘッドは第1図(ロ)にその磁気テープ摺動面を
示すようフェライトブロックに設けられた切り溝に密着
性よく金属磁性薄板を挿入固定するのが困難であシ、数
ミクロン以上のすき間5,5′を生じ、フェライト材 欠ける。また、フェライトブロックの切り溝を金属磁性
薄板の厚みより数ミクロン以上広くしておくと多数の金
属磁性薄板を一つの大型のフェライトブロックに挿入し
た場合、金属磁性薄板の間隔のピッチ寸法誤差を生じる
ためこのフェライトブロックを切断して多数開のコアと
する時に加工誤差を生じ歩留りが低下し量産性に欠ける
。さらに、切り溝が閉じられた溝であるため、非磁性材
が十分充填されないなどの欠点があり、磁気テープ摺動
面に穴や、気泡を生じ磁気テープとの慴動においてごみ
が詰ったり、欠けを生じる原因となる。
ように作動ギャップ近傍のフェライト部に切り欠きが設
けられ、そこに補強材としてガラス等の非磁性材3.3
′が充填される。4はコイル巻線用窓である。らのよう
な磁気ヘッドは第1図(ロ)にその磁気テープ摺動面を
示すようフェライトブロックに設けられた切り溝に密着
性よく金属磁性薄板を挿入固定するのが困難であシ、数
ミクロン以上のすき間5,5′を生じ、フェライト材 欠ける。また、フェライトブロックの切り溝を金属磁性
薄板の厚みより数ミクロン以上広くしておくと多数の金
属磁性薄板を一つの大型のフェライトブロックに挿入し
た場合、金属磁性薄板の間隔のピッチ寸法誤差を生じる
ためこのフェライトブロックを切断して多数開のコアと
する時に加工誤差を生じ歩留りが低下し量産性に欠ける
。さらに、切り溝が閉じられた溝であるため、非磁性材
が十分充填されないなどの欠点があり、磁気テープ摺動
面に穴や、気泡を生じ磁気テープとの慴動においてごみ
が詰ったり、欠けを生じる原因となる。
池の従来例としては第2図(ロ)に示すような構造の磁
気ヘッドが知られている。この磁気ヘッドは第2図(イ
)に示すように、非磁性基板6の上に、高飽和磁束密度
を有する金属磁性材のスパッタリングや真空蒸着等によ
ってトラック幅の厚みに等しい金属磁性体膜7全形成し
、その上に非磁性材6′を接着して後、分割してギャッ
プ突き合せ面の研摩、コイル巻線窓の形成等の一連の工
程を行なった後、ギャップ突き合せ面に所定の非磁性膜
を介して接合することによって第2図(ロ)の磁気ヘッ
ドを得る。この構造の磁気ヘッドは量産性が悪い点に大
きな欠点を有する。
気ヘッドが知られている。この磁気ヘッドは第2図(イ
)に示すように、非磁性基板6の上に、高飽和磁束密度
を有する金属磁性材のスパッタリングや真空蒸着等によ
ってトラック幅の厚みに等しい金属磁性体膜7全形成し
、その上に非磁性材6′を接着して後、分割してギャッ
プ突き合せ面の研摩、コイル巻線窓の形成等の一連の工
程を行なった後、ギャップ突き合せ面に所定の非磁性膜
を介して接合することによって第2図(ロ)の磁気ヘッ
ドを得る。この構造の磁気ヘッドは量産性が悪い点に大
きな欠点を有する。
また、ギャップ近傍部にのみ金属磁性体膜を形成し、他
の構成部をフェライトとした磁気ヘッドも提案されてい
るが、テープ摺動雑音の面からみると十分に満足するも
のが得られず、トラック幅を有する金属磁性体膜がコ′
ア幅(磁気ヘッドの記録媒体走行方向における一端から
他端までの距離)全体に伸びた磁気ヘッドが有利である
。
の構成部をフェライトとした磁気ヘッドも提案されてい
るが、テープ摺動雑音の面からみると十分に満足するも
のが得られず、トラック幅を有する金属磁性体膜がコ′
ア幅(磁気ヘッドの記録媒体走行方向における一端から
他端までの距離)全体に伸びた磁気ヘッドが有利である
。
本発明は、上記従来技術の欠点f:s消し、高保磁力の
磁気記録媒体を用いた場合にも優れた記録再生特性を示
し且つ製造容易な磁気ヘッドの提供ならびにその製造方
法の提供を目的とするものである。
磁気記録媒体を用いた場合にも優れた記録再生特性を示
し且つ製造容易な磁気ヘッドの提供ならびにその製造方
法の提供を目的とするものである。
上記目的を達成するため、本発明の磁気ヘッドはトラッ
ク幅に対応する厚さを有して且つ飽和磁束密度の高い一
対の金属磁性体膜の各一端が互に対向して作動ギャップ
を形成し、該金属磁性体膜の該作動ギャップ側の一端に
対する他端は磁気ヘッドの磁気記録媒体走行方向におけ
る端部にまで達し、該金属磁性体膜の磁気記録媒体対向
面側の一端は該磁気ヘッドの記録媒体対向面に露出し、
且つ該金属磁性体膜の該記録媒体対向面の一端に対する
他端は少なくともコイル巻線窓に達するとともに、その
近傍においてコア本体である高透磁率フェライトと接合
してこれと磁気的に連続し、さらに該磁気ヘッドの磁気
記録媒体対向面における該金属磁性体膜露出部以外の該
媒体対向面部分は該金属磁性体膜の両側面に接する非磁
性材料で構成されてなるものである。
ク幅に対応する厚さを有して且つ飽和磁束密度の高い一
対の金属磁性体膜の各一端が互に対向して作動ギャップ
を形成し、該金属磁性体膜の該作動ギャップ側の一端に
対する他端は磁気ヘッドの磁気記録媒体走行方向におけ
る端部にまで達し、該金属磁性体膜の磁気記録媒体対向
面側の一端は該磁気ヘッドの記録媒体対向面に露出し、
且つ該金属磁性体膜の該記録媒体対向面の一端に対する
他端は少なくともコイル巻線窓に達するとともに、その
近傍においてコア本体である高透磁率フェライトと接合
してこれと磁気的に連続し、さらに該磁気ヘッドの磁気
記録媒体対向面における該金属磁性体膜露出部以外の該
媒体対向面部分は該金属磁性体膜の両側面に接する非磁
性材料で構成されてなるものである。
上6己本発明の磁気ヘッドにおいて、良好な特性を得る
には、上記金属磁性体膜と高透磁率フェライトとの前記
接合面の少なくとも前記記録媒体対向面側と反対側の部
分が該記録媒体対向面に対して非垂直であシ且つ該接合
面の面積は前記金属磁性体膜露出部の面積より大なるこ
とが望ましい。
には、上記金属磁性体膜と高透磁率フェライトとの前記
接合面の少なくとも前記記録媒体対向面側と反対側の部
分が該記録媒体対向面に対して非垂直であシ且つ該接合
面の面積は前記金属磁性体膜露出部の面積より大なるこ
とが望ましい。
この場合、金属磁性体膜と高透磁率フェライトとの前記
接合面が、前記記録媒体対向面側においては該対向面に
ほぼ垂直な平面であり、該対向面側に対する他端側にお
−ては該対向面に対して非垂IKな面であるように構成
するのが普通である。この非垂直な面は、通常、前記記
録媒体対向面に斜交する平面であるか、あるいけ平行な
平面、または両者の混在する面とするが、これに限定す
る必要はない。
接合面が、前記記録媒体対向面側においては該対向面に
ほぼ垂直な平面であり、該対向面側に対する他端側にお
−ては該対向面に対して非垂IKな面であるように構成
するのが普通である。この非垂直な面は、通常、前記記
録媒体対向面に斜交する平面であるか、あるいけ平行な
平面、または両者の混在する面とするが、これに限定す
る必要はない。
また、前記金属磁性体膜の前記記録媒体対向面側と反対
側の一端が、前記磁気ヘッドのコア側面に露出している
と、前記接合面積が広くなり且つ製造も容易であり、好
ましい。
側の一端が、前記磁気ヘッドのコア側面に露出している
と、前記接合面積が広くなり且つ製造も容易であり、好
ましい。
前記金属磁性体膜はF’e−8i合金、pe−ht−s
t金合金FC−Ni合金および非晶質磁性合金の少なく
とも1種とするのが普通であるが、渦電流損による実効
透磁率の低下を防ぐため磁性層と非磁性層とを交互に積
層した積層体とすることもある。この後者の場合、磁性
層は前述と同様にFe−8i合金、Fe−Al−B1合
金、Fe−Ni合金および非晶質磁性合金の少なくとも
1種とし、非磁性層はSiGあるいはAt20.等の非
磁性体絶縁層とすることが多い。
t金合金FC−Ni合金および非晶質磁性合金の少なく
とも1種とするのが普通であるが、渦電流損による実効
透磁率の低下を防ぐため磁性層と非磁性層とを交互に積
層した積層体とすることもある。この後者の場合、磁性
層は前述と同様にFe−8i合金、Fe−Al−B1合
金、Fe−Ni合金および非晶質磁性合金の少なくとも
1種とし、非磁性層はSiGあるいはAt20.等の非
磁性体絶縁層とすることが多い。
上述のように、本発明の磁気ヘッドにおいては、磁気記
録媒体対向面は金属磁性体膜露出部以外が非磁性材料で
構成され、この非磁性材料は金属磁性体膜の両側面に接
して存在している。この非磁性材料は製造上の都合で、
前記両側面のそれぞれで互に異なる材料、特に軟化点の
異なる材料にすることが多すが、磁気記録媒体に摺動さ
れる面であるから、摩耗特性は両側面でそれぞれ互に同
程度であることが望ましい。
録媒体対向面は金属磁性体膜露出部以外が非磁性材料で
構成され、この非磁性材料は金属磁性体膜の両側面に接
して存在している。この非磁性材料は製造上の都合で、
前記両側面のそれぞれで互に異なる材料、特に軟化点の
異なる材料にすることが多すが、磁気記録媒体に摺動さ
れる面であるから、摩耗特性は両側面でそれぞれ互に同
程度であることが望ましい。
上記のように、本発明の磁気ヘッドはコアの占める大部
分は高透磁率のM n −7,nフェライトあるいはH
l−2nフエライトのバルク材からなり、作動ギヤツブ
部ヲ構成する部分およびトラック幅部が金属磁性体膜で
形成される。金属磁性体膜は、Mえば、pe−,9i合
金、Fe−Al−,9i合金、N i −p e合金等
の結晶質磁性体あるいは高透磁率の非晶質合金磁性体か
らなるが、これらの材料に限定する必要はなく、高透磁
率フェライトよシ飽和磁束密度の高い高透磁率磁性材料
であればよく、スパッタリング、真空蒸着等の物理蒸着
によって得られる。場合によっては化学蒸着、メッキ等
によっても可能である。
分は高透磁率のM n −7,nフェライトあるいはH
l−2nフエライトのバルク材からなり、作動ギヤツブ
部ヲ構成する部分およびトラック幅部が金属磁性体膜で
形成される。金属磁性体膜は、Mえば、pe−,9i合
金、Fe−Al−,9i合金、N i −p e合金等
の結晶質磁性体あるいは高透磁率の非晶質合金磁性体か
らなるが、これらの材料に限定する必要はなく、高透磁
率フェライトよシ飽和磁束密度の高い高透磁率磁性材料
であればよく、スパッタリング、真空蒸着等の物理蒸着
によって得られる。場合によっては化学蒸着、メッキ等
によっても可能である。
上記pe−8i合金は2.5%(以下、%は重量%を示
す)〜7.5%のSiを含むFe−si合金であって、
さらに若干量の他元素を加えてもよく、Fe−ht−s
i金合金センダストと呼ばれており通常3%〜10のA
Aと5%〜12%のsiを含むAt合金であって、この
場合もさらに若干量の他元素を加えることもあり、上記
のように添加元素を加える場合はSs量あるいはAt槍
、st着は上記と若干ずれることもある。N1=pe合
金はパーマロイと呼ばれでおり、Ntitst%とする
のが普通である。これらの合金はいずれも周知の結晶質
合金であるが、最近脚光を浴びている周知の高透磁率非
晶質磁性合金を用いてもよ−。
す)〜7.5%のSiを含むFe−si合金であって、
さらに若干量の他元素を加えてもよく、Fe−ht−s
i金合金センダストと呼ばれており通常3%〜10のA
Aと5%〜12%のsiを含むAt合金であって、この
場合もさらに若干量の他元素を加えることもあり、上記
のように添加元素を加える場合はSs量あるいはAt槍
、st着は上記と若干ずれることもある。N1=pe合
金はパーマロイと呼ばれでおり、Ntitst%とする
のが普通である。これらの合金はいずれも周知の結晶質
合金であるが、最近脚光を浴びている周知の高透磁率非
晶質磁性合金を用いてもよ−。
金属磁性体膜は記録媒体対向面より、Iすぼ垂直に少な
くともコイル巻線窓まで到り、前記金属磁性体膜とフェ
ライトとの接続部が段差もしくは傾斜面を有するフェラ
イト面と密着するように被着され、該被着面が金属磁性
体1漠の形成するトラック幅より広い面で形成されてい
るのが望ましい。
くともコイル巻線窓まで到り、前記金属磁性体膜とフェ
ライトとの接続部が段差もしくは傾斜面を有するフェラ
イト面と密着するように被着され、該被着面が金属磁性
体1漠の形成するトラック幅より広い面で形成されてい
るのが望ましい。
上記本発明の磁気ヘッドは、1)高透磁率フェライトよ
りなる大ブロックの記録媒体対向面となる面に、互に平
行な複数の第1の溝を形成する工程、11)該第1の溝
に非磁性材を充填する工程、111)該第1の溝に隣接
し且つ該第1の溝に充填された非磁性材の側壁部をも除
去するように、該第1の溝より深い第2の溝を設ける工
程、1■)該第2の溝の少なくとも側壁面に、所定のト
ラック幅となる厚みの金属磁性体膜を被着する工程、■
)工程1v)を終了した該第2の溝に非磁性材を充填す
る工程、Vi)工程V)を終了した該大ブロックの記録
媒体対向面となる面を加工して平坦化して該面上の接面
に平行な金属磁性体膜および該面上に突出している該非
磁性材を除去し、トラック幅に対応する該金属磁性体膜
を露出させる工程、Vtl ) B大ブロックから一対
の小ブロックを切り出し、ギャップ突合せ面となる面を
研摩し、さらに該小ブロックの少なくとも一方にコイル
巻線用溝を設ける工程、v110ギャップ長に対応した
厚さの非磁性体層を介して該金属磁性体膜の端rMが一
致するように、一対の該小ブロックを突合せ、これを一
体化する工程、IX)工程v+1+ 3にて一体化され
た小ブロックを、該金属磁性体膜間にて、該金属磁性体
膜に平行に且つ所定のコア厚さになるように切断して、
複数の磁気へラドコアを得る工程、およびX)コイルを
該磁気ヘッドコアに装着する工程、を有する製造方法に
より容易#F:、製造することができる。
りなる大ブロックの記録媒体対向面となる面に、互に平
行な複数の第1の溝を形成する工程、11)該第1の溝
に非磁性材を充填する工程、111)該第1の溝に隣接
し且つ該第1の溝に充填された非磁性材の側壁部をも除
去するように、該第1の溝より深い第2の溝を設ける工
程、1■)該第2の溝の少なくとも側壁面に、所定のト
ラック幅となる厚みの金属磁性体膜を被着する工程、■
)工程1v)を終了した該第2の溝に非磁性材を充填す
る工程、Vi)工程V)を終了した該大ブロックの記録
媒体対向面となる面を加工して平坦化して該面上の接面
に平行な金属磁性体膜および該面上に突出している該非
磁性材を除去し、トラック幅に対応する該金属磁性体膜
を露出させる工程、Vtl ) B大ブロックから一対
の小ブロックを切り出し、ギャップ突合せ面となる面を
研摩し、さらに該小ブロックの少なくとも一方にコイル
巻線用溝を設ける工程、v110ギャップ長に対応した
厚さの非磁性体層を介して該金属磁性体膜の端rMが一
致するように、一対の該小ブロックを突合せ、これを一
体化する工程、IX)工程v+1+ 3にて一体化され
た小ブロックを、該金属磁性体膜間にて、該金属磁性体
膜に平行に且つ所定のコア厚さになるように切断して、
複数の磁気へラドコアを得る工程、およびX)コイルを
該磁気ヘッドコアに装着する工程、を有する製造方法に
より容易#F:、製造することができる。
また、前記工程:)〜111)の工程を、■)高透磁率
フェライトブロックに非磁性材層を接合した複合体から
なる大ブロックの該非磁性材層面に、互に平行で且つ該
非磁性材層の厚さより大なる深さを有する第2の溝を設
ける工程に代えてもよい。
フェライトブロックに非磁性材層を接合した複合体から
なる大ブロックの該非磁性材層面に、互に平行で且つ該
非磁性材層の厚さより大なる深さを有する第2の溝を設
ける工程に代えてもよい。
前記工程l)およびil+ ) 、または前記工程I)
において、前記第1の溝および第2の溝(工程■)の場
合は第2の溝のみ)を前記大ブロックの端面(ギャップ
突合せ面となる面および記録媒体対向面に直交する面)
に対して所定のアジマス角θをなすように形成すること
によシ、工81×)で前記一体化された小ブロックを金
属磁性体膜に平行に切断し、工程X)でコイル全巻装す
ると、所定のアジマス角θを有する磁気ヘッドが得られ
る。
において、前記第1の溝および第2の溝(工程■)の場
合は第2の溝のみ)を前記大ブロックの端面(ギャップ
突合せ面となる面および記録媒体対向面に直交する面)
に対して所定のアジマス角θをなすように形成すること
によシ、工81×)で前記一体化された小ブロックを金
属磁性体膜に平行に切断し、工程X)でコイル全巻装す
ると、所定のアジマス角θを有する磁気ヘッドが得られ
る。
前記工程11)ニおいて非磁性材としてガラスを用い、
前記工程V)において非磁性材として該工程11)にお
いて用いた該ガラスよりも軟化温度の低いガラスを用い
ることによシ、■程11)にお込て被着したガラスを損
なうことなく工程V)・でさらにガラスを被着すること
ができる。
前記工程V)において非磁性材として該工程11)にお
いて用いた該ガラスよりも軟化温度の低いガラスを用い
ることによシ、■程11)にお込て被着したガラスを損
なうことなく工程V)・でさらにガラスを被着すること
ができる。
前述のように、工程IV )で被着する金属磁性体膜を
非晶質磁性合金で構成する場合は、前記工程■〕にお込
て、該非晶質磁性合金の結晶化温度より低層温度−で前
記非磁性材を充填することが必要である。さもないと、
非晶質合金が結晶化し、所定の特性が得られなくなる。
非晶質磁性合金で構成する場合は、前記工程■〕にお込
て、該非晶質磁性合金の結晶化温度より低層温度−で前
記非磁性材を充填することが必要である。さもないと、
非晶質合金が結晶化し、所定の特性が得られなくなる。
なお、前記工程vii ) Kおける小ブロックの切出
しは前記第1もしくけ第2の溝に直角に前記大ブロック
を切断して行なわれるが、アジマス角を有するヘッドの
場合には、直角からアジマス角θだけ頑けて切断する。
しは前記第1もしくけ第2の溝に直角に前記大ブロック
を切断して行なわれるが、アジマス角を有するヘッドの
場合には、直角からアジマス角θだけ頑けて切断する。
また、コイル巻線用溝を設ける面も、普通は、前記第1
もしくは第2の溝に直交する側面であるが、アジマス角
を有するヘッドの場合には、直交面よりアジマス角θだ
け傾いた側面である。
もしくは第2の溝に直交する側面であるが、アジマス角
を有するヘッドの場合には、直交面よりアジマス角θだ
け傾いた側面である。
さらに、前記第1の溝の深さは作動ギャップ深さ50〜
200/1m程度以上、すなわちコイル巻線窓に達する
深さ程度以上にする。この深さは製造された磁気ヘッド
の記録媒体対向面に設けられた非磁性材料のうちの、金
属磁性体膜の湾曲する方向と反対側の非磁性材料22の
厚さにカ日工代を加えた値に対応する。前記第1および
第2の溝の幅は、通常、コア厚さからトラック幅を差引
いた頭の半分程度とする。
200/1m程度以上、すなわちコイル巻線窓に達する
深さ程度以上にする。この深さは製造された磁気ヘッド
の記録媒体対向面に設けられた非磁性材料のうちの、金
属磁性体膜の湾曲する方向と反対側の非磁性材料22の
厚さにカ日工代を加えた値に対応する。前記第1および
第2の溝の幅は、通常、コア厚さからトラック幅を差引
いた頭の半分程度とする。
前記第2の溝の深さは少なくとも、前記第1の溝よりも
深いものとし、第1の溝よりも50μm程度以上深くす
ることが望ましい。この深さは製造された磁気ヘッドの
記録媒体対向面に設けられた非磁性材料のうちの、金属
磁性体膜の湾曲する方向の側の非磁性材料25の厚さに
金属磁性体膜の厚さおよび加工代を加えた値に対応する
。この深さが深い程、金属磁性体膜と高透磁率フェライ
トとの接合面の面積が増し、磁気的連続性が良好VCな
り、その接合面における磁気抵抗が低下するが、反面、
フェライトにより構成されるコア主体部の割合が減少し
、非磁性材料で構成される部分が増すみので、コア全体
としての磁気抵抗は、ある深さ以上にすると逆に増加す
る。したがって、この深さは500μm以下にするのが
好ましい。
深いものとし、第1の溝よりも50μm程度以上深くす
ることが望ましい。この深さは製造された磁気ヘッドの
記録媒体対向面に設けられた非磁性材料のうちの、金属
磁性体膜の湾曲する方向の側の非磁性材料25の厚さに
金属磁性体膜の厚さおよび加工代を加えた値に対応する
。この深さが深い程、金属磁性体膜と高透磁率フェライ
トとの接合面の面積が増し、磁気的連続性が良好VCな
り、その接合面における磁気抵抗が低下するが、反面、
フェライトにより構成されるコア主体部の割合が減少し
、非磁性材料で構成される部分が増すみので、コア全体
としての磁気抵抗は、ある深さ以上にすると逆に増加す
る。したがって、この深さは500μm以下にするのが
好ましい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
第3図は本発明による磁気ヘッドの構造の代表例を示す
。図において10.10’は、厚さがtw(トラック幅
)のトラック幅部を形成し高飽和磁束密度を有する金属
磁性体膜であり、センダストや非晶質磁性合金のスパッ
タリング膜等により構成されている。また、これら左右
一対の磁性体膜の突き合せ部には非磁性ギャップ11が
形成され、突き合せ部の端部に対する他端部はコア幅(
コアのトラック方向の幅)tの端部にまで延びている。
。図において10.10’は、厚さがtw(トラック幅
)のトラック幅部を形成し高飽和磁束密度を有する金属
磁性体膜であり、センダストや非晶質磁性合金のスパッ
タリング膜等により構成されている。また、これら左右
一対の磁性体膜の突き合せ部には非磁性ギャップ11が
形成され、突き合せ部の端部に対する他端部はコア幅(
コアのトラック方向の幅)tの端部にまで延びている。
また、この磁性体膜は記録媒体対向面から少なくともギ
ャップ深さd(ギャップ深さdはコイル巻線用窓先端ま
でをいう)まで達しており、コア主体部である高透磁率
フェライト12.12’と磁気的に連続するよう接続し
ている。13゜14は前記磁性体膜の側面を支持あるい
は保護し、かつ磁気ヘッドの記録媒体対向面の耐摩耗強
度を確保するために設けられたガラスあるいは樹脂等の
非磁性体である。15はコイル巻線用窓である。
ャップ深さd(ギャップ深さdはコイル巻線用窓先端ま
でをいう)まで達しており、コア主体部である高透磁率
フェライト12.12’と磁気的に連続するよう接続し
ている。13゜14は前記磁性体膜の側面を支持あるい
は保護し、かつ磁気ヘッドの記録媒体対向面の耐摩耗強
度を確保するために設けられたガラスあるいは樹脂等の
非磁性体である。15はコイル巻線用窓である。
なお、磁性体膜10.10’は高透磁率フェライトのバ
ルク材よシなるコア主体部12.12’ との接続部で
、例えば、L字形にしてあり、たがいの接触面積を大き
くし磁気的接続を良くして磁気抵抗を小さくする構造と
なっている。また、磁性体膜と高透磁率フェライト部と
の磁気的接続をさらに完全なものとするために、第3図
に示すように、接続部の高透磁率フェライト部を段違い
にして一方の磁性体膜側面に接するような構造とすれば
更に良好な結果を得られる。
ルク材よシなるコア主体部12.12’ との接続部で
、例えば、L字形にしてあり、たがいの接触面積を大き
くし磁気的接続を良くして磁気抵抗を小さくする構造と
なっている。また、磁性体膜と高透磁率フェライト部と
の磁気的接続をさらに完全なものとするために、第3図
に示すように、接続部の高透磁率フェライト部を段違い
にして一方の磁性体膜側面に接するような構造とすれば
更に良好な結果を得られる。
次に本発明による磁気ヘッドの代表的な製造方法を以下
にのべる。第4図(イ)〜(10にその製造工程の一列
を示す。以下、例えば、工程(イ)とは第4図(イ)に
示される工程をいう。第4図(ホ)は得られた磁気へラ
ドコアの斜視図、第4図(ワ)はギャップ近傍における
磁性体膜および高透磁率フェライト部の接続部の関係を
明瞭にするために磁性体膜側部の非磁性補強材を除去し
た斜視図である。第4図(イ)に示すように、コア主体
部を形成するだめの高透磁率フェライト大ブロック20
としてM n −Z nフェライトのブロックを用意す
る。このフェライト大ブロックから後の工程で複数組の
小ブロックが切り出され、さらにこれから多数の磁気へ
ラドコアが得られるものである。ここで、寸法aはコア
高さに相当し2〜2.5m、Elは、コア幅の1/2の
寸法に相当する1、2〜1.5+++mの小ブロックを
切り出す切断面に直角な方向で、複数個の小ブロックの
コア幅を得られるように、15〜20+++m、Cはコ
ア厚0.12〜0.18 rrvnの多数のヘッドコア
を切り出す切断面に直角な方向で、複数個のヘッドコア
のコアノiが得られるように10〜20mmの寸法形状
を有する。このような寸法形状を有するフェライト大ブ
ロック20の記録媒体対向面となる1)c面(寸法す、
cに対応する辺を含む而〕のbの長さ方向に平行VC複
数の互いに平行な第1の非磁性材充填用の溝21を形成
する。溝の深さhは磁気へラドコアのギャップ深さ以上
とし、加工代体 含めて0.2−0.4 mmとした。溝幅へ0.3〜0
.5 trysとし溝中心線間の距離は0.6〜1−と
した。次に工程(0) K示すようにこの第1の溝21
に非磁性材22を充填する。以下工程(ロ)〜(ト)は
ac側面(寸法a、Cに対応する辺を含む面)図を示す
。なお非磁性材22は後述する第2の溝の非磁性充填材
の充填処理温度の関係から比較的高融点ガラス等が適し
ている。例えば、その作業温度が600〜750Cのガ
ラスが好ましい。このようなガラスは周知のものである
。次に工程(ハ)のようにフェライト大ブロック20の
fJ421のある面上における余分の非磁性材を研削、
研摩除去した平坦面を得る。次に工程に)に示すように
非磁性材充填部22の間のフェライト部に第2の溝23
を設ける。この第2の溝23は非磁性材充填部の一部を
除去するようにその幅を第1の溝21の間隔より大にし
て設けられる。第2の溝の深さは第1の溝の深さより若
干深くしておくことが好ましい。溝幅は0.3〜0.5
vanとした。なお、溝幅は次の工程で行なわれる磁
性体膜の被着がスパッタリングによって十分溝の中に入
る範囲なら特に規定するものではないが、コア厚さから
トラック幅を差引いた値の半分程度とすることが多い。
にのべる。第4図(イ)〜(10にその製造工程の一列
を示す。以下、例えば、工程(イ)とは第4図(イ)に
示される工程をいう。第4図(ホ)は得られた磁気へラ
ドコアの斜視図、第4図(ワ)はギャップ近傍における
磁性体膜および高透磁率フェライト部の接続部の関係を
明瞭にするために磁性体膜側部の非磁性補強材を除去し
た斜視図である。第4図(イ)に示すように、コア主体
部を形成するだめの高透磁率フェライト大ブロック20
としてM n −Z nフェライトのブロックを用意す
る。このフェライト大ブロックから後の工程で複数組の
小ブロックが切り出され、さらにこれから多数の磁気へ
ラドコアが得られるものである。ここで、寸法aはコア
高さに相当し2〜2.5m、Elは、コア幅の1/2の
寸法に相当する1、2〜1.5+++mの小ブロックを
切り出す切断面に直角な方向で、複数個の小ブロックの
コア幅を得られるように、15〜20+++m、Cはコ
ア厚0.12〜0.18 rrvnの多数のヘッドコア
を切り出す切断面に直角な方向で、複数個のヘッドコア
のコアノiが得られるように10〜20mmの寸法形状
を有する。このような寸法形状を有するフェライト大ブ
ロック20の記録媒体対向面となる1)c面(寸法す、
cに対応する辺を含む而〕のbの長さ方向に平行VC複
数の互いに平行な第1の非磁性材充填用の溝21を形成
する。溝の深さhは磁気へラドコアのギャップ深さ以上
とし、加工代体 含めて0.2−0.4 mmとした。溝幅へ0.3〜0
.5 trysとし溝中心線間の距離は0.6〜1−と
した。次に工程(0) K示すようにこの第1の溝21
に非磁性材22を充填する。以下工程(ロ)〜(ト)は
ac側面(寸法a、Cに対応する辺を含む面)図を示す
。なお非磁性材22は後述する第2の溝の非磁性充填材
の充填処理温度の関係から比較的高融点ガラス等が適し
ている。例えば、その作業温度が600〜750Cのガ
ラスが好ましい。このようなガラスは周知のものである
。次に工程(ハ)のようにフェライト大ブロック20の
fJ421のある面上における余分の非磁性材を研削、
研摩除去した平坦面を得る。次に工程に)に示すように
非磁性材充填部22の間のフェライト部に第2の溝23
を設ける。この第2の溝23は非磁性材充填部の一部を
除去するようにその幅を第1の溝21の間隔より大にし
て設けられる。第2の溝の深さは第1の溝の深さより若
干深くしておくことが好ましい。溝幅は0.3〜0.5
vanとした。なお、溝幅は次の工程で行なわれる磁
性体膜の被着がスパッタリングによって十分溝の中に入
る範囲なら特に規定するものではないが、コア厚さから
トラック幅を差引いた値の半分程度とすることが多い。
次に工程(ホ)に示すように各第2の溝23に向けて飽
和磁束密度が高い磁性体膜24を被着する。この時第2
の溝の側壁面に被着された磁性体膜24の膜厚が所要の
トラック幅と等しくなるように形成される。磁性体膜の
形成は溝の側壁に十分回り込み可能な周知のスパッタリ
ング法を用いるのが適している。一般のR,Fスパッタ
リング装置によれば、平坦部と側壁面の膜厚比率は約2
=1である。本実施例では磁性体膜として高透磁率の非
晶質磁性合金を用いた。その組成はCoAl MOg
Z r16のものを用いたが、高透磁率フェライトより
飽和磁束密度の高い磁気ヘッドコア用制料であれば何で
もよい。なお、被着された磁性体膜と後部磁気回路を構
成するフェライトとの接続は第2の溝の底部ならびに側
壁面一の一部で行なわれ、磁気的に十分連続する構造を
形成して因る。ここで、溝の両側壁の磁性体膜はそれぞ
れ個々の磁気ヘッドのトラック幅となる。
和磁束密度が高い磁性体膜24を被着する。この時第2
の溝の側壁面に被着された磁性体膜24の膜厚が所要の
トラック幅と等しくなるように形成される。磁性体膜の
形成は溝の側壁に十分回り込み可能な周知のスパッタリ
ング法を用いるのが適している。一般のR,Fスパッタ
リング装置によれば、平坦部と側壁面の膜厚比率は約2
=1である。本実施例では磁性体膜として高透磁率の非
晶質磁性合金を用いた。その組成はCoAl MOg
Z r16のものを用いたが、高透磁率フェライトより
飽和磁束密度の高い磁気ヘッドコア用制料であれば何で
もよい。なお、被着された磁性体膜と後部磁気回路を構
成するフェライトとの接続は第2の溝の底部ならびに側
壁面一の一部で行なわれ、磁気的に十分連続する構造を
形成して因る。ここで、溝の両側壁の磁性体膜はそれぞ
れ個々の磁気ヘッドのトラック幅となる。
次に工程(へ)に示すよりに前記工程(ホ)で内面に磁
性体膜が形成された第2の溝に非磁性材25を充填する
。第2の溝に充填する非磁性材は充填時に加熱される温
度によって第1の溝の非磁性材22が軟化し変形しない
条件で処理する必要がある。ここでは、作業温度が45
0〜500C低融点ガラスが適当であった。特に、磁性
体膜として非晶質合金を用いる場合には少なくとも結晶
化温度以下で充填処理する必要があり、好ましくは結晶
化温度より10C低い温度以下で行なわねばならないた
め500C以下の処理温度で充填可能なガラスに限定さ
れる。なお、このようなガラスは周知のものである。ま
た、第1の溝の非磁性材と第2の溝の非磁性材はほぼ同
等のテープ摩耗を有するものが好ましい。−例として、
本実施列において用いたガラスを示すと、第1の溝には
Zn0(26,8)。
性体膜が形成された第2の溝に非磁性材25を充填する
。第2の溝に充填する非磁性材は充填時に加熱される温
度によって第1の溝の非磁性材22が軟化し変形しない
条件で処理する必要がある。ここでは、作業温度が45
0〜500C低融点ガラスが適当であった。特に、磁性
体膜として非晶質合金を用いる場合には少なくとも結晶
化温度以下で充填処理する必要があり、好ましくは結晶
化温度より10C低い温度以下で行なわねばならないた
め500C以下の処理温度で充填可能なガラスに限定さ
れる。なお、このようなガラスは周知のものである。ま
た、第1の溝の非磁性材と第2の溝の非磁性材はほぼ同
等のテープ摩耗を有するものが好ましい。−例として、
本実施列において用いたガラスを示すと、第1の溝には
Zn0(26,8)。
Pb0(0,5)−NazO(11,4)、I’QO(
0,5)、S’02(21)、 A40s (4,4)
、 820! (27,3)、 Ba0r8.1)の組
成C括弧内は重量%)のガラス、第2の溝にけPb0(
84)、 Btus (3)、 5jOt (1,5)
、 A40g(1,5)の組成(括弧内は重量%)のガ
ラスを用いたが、満亀すべき結果が得られた。次に工程
(ト)のように記録媒体対向面(フェライト大ブロック
20の溝21.23のある面)上における不用の非磁性
充填材および磁性体膜を研削および研摩除去し平坦面を
得る。この刀ロエはトラック幅となる磁性体膜の膜厚を
有する断面を明瞭にし、後述する一対の小ブロックを突
き合せた時に種度よくトラック部が突き合せ可能にする
ためである。このようにして得られた大ブロックは第4
図(イ)に斜視図で示す構造となる。これを点線40の
ごとく、複数個の小ブロック26.26’等を得るよう
に切断し、ギャップ突き合せ面となる面27を鏡面研摩
する。このように少なくとも一対の小プロツり26,2
6’を得、工程(1カ′、□□□)において少なく。
0,5)、S’02(21)、 A40s (4,4)
、 820! (27,3)、 Ba0r8.1)の組
成C括弧内は重量%)のガラス、第2の溝にけPb0(
84)、 Btus (3)、 5jOt (1,5)
、 A40g(1,5)の組成(括弧内は重量%)のガ
ラスを用いたが、満亀すべき結果が得られた。次に工程
(ト)のように記録媒体対向面(フェライト大ブロック
20の溝21.23のある面)上における不用の非磁性
充填材および磁性体膜を研削および研摩除去し平坦面を
得る。この刀ロエはトラック幅となる磁性体膜の膜厚を
有する断面を明瞭にし、後述する一対の小ブロックを突
き合せた時に種度よくトラック部が突き合せ可能にする
ためである。このようにして得られた大ブロックは第4
図(イ)に斜視図で示す構造となる。これを点線40の
ごとく、複数個の小ブロック26.26’等を得るよう
に切断し、ギャップ突き合せ面となる面27を鏡面研摩
する。このように少なくとも一対の小プロツり26,2
6’を得、工程(1カ′、□□□)において少なく。
とも一方の小ブロック26′にはコイル巻線用の溝28
を設ける。また、必要に応じて後部フェライト部に接合
補強材充填用の溝29,29’l設は鎌の工程で補強材
30を充填すると機械的強度を高めるのに有効である。
を設ける。また、必要に応じて後部フェライト部に接合
補強材充填用の溝29,29’l設は鎌の工程で補強材
30を充填すると機械的強度を高めるのに有効である。
さらにギャップ形成用の非磁性材30を被着するなどの
磁気ヘッド作表に一般的に行なわれる加工を施こす。な
お、ギャップ形成部以外の接合面に低融点ガラス膜をス
パッタリング等によって形成し熱処理によって接合すれ
ば補強溝29.29’は不用となる。次に上記工程で得
られた一対の小ブロック26.26’のギヤツブ形成面
全互いにトラック対応部が一致するように突き合せ周知
のように加圧下で熱処理し接合して一体化し第4図Qり
に示すような接合ブロックを得る。次にトラック幅tw
を有する磁性体膜を中心にして破+i!i!i!41に
沿ってコア厚T、を有するように切断することにより第
2図(3)に示す磁気へラドコアが複数蘭得られ、これ
らにコイルを巻装することにより本発明の磁気ヘッドが
得られる。なお第4図(ワ)はギャップ近傍における磁
性体/13(24,24’およびフェライトバルク材か
らなるコア主体部26.26’の関係を明瞭にするため
に非磁性材22.25を仮に除去した場合の斜視図であ
る。本発明においては磁性体膜24゜24′の厚みは所
定のトラック幅(十数ミクロン)に等しい。TWはフェ
ライトで構成されるコア厚全示し例えば、トラック幅の
約10倍程度厚い。
磁気ヘッド作表に一般的に行なわれる加工を施こす。な
お、ギャップ形成部以外の接合面に低融点ガラス膜をス
パッタリング等によって形成し熱処理によって接合すれ
ば補強溝29.29’は不用となる。次に上記工程で得
られた一対の小ブロック26.26’のギヤツブ形成面
全互いにトラック対応部が一致するように突き合せ周知
のように加圧下で熱処理し接合して一体化し第4図Qり
に示すような接合ブロックを得る。次にトラック幅tw
を有する磁性体膜を中心にして破+i!i!i!41に
沿ってコア厚T、を有するように切断することにより第
2図(3)に示す磁気へラドコアが複数蘭得られ、これ
らにコイルを巻装することにより本発明の磁気ヘッドが
得られる。なお第4図(ワ)はギャップ近傍における磁
性体/13(24,24’およびフェライトバルク材か
らなるコア主体部26.26’の関係を明瞭にするため
に非磁性材22.25を仮に除去した場合の斜視図であ
る。本発明においては磁性体膜24゜24′の厚みは所
定のトラック幅(十数ミクロン)に等しい。TWはフェ
ライトで構成されるコア厚全示し例えば、トラック幅の
約10倍程度厚い。
なお、磁性体膜とフェライトの接合部は磁気的な接続を
完全にするためにフェライト部に段を設け、少なくとも
ギャップ深さdは磁性体膜で形成され、フェライトとの
接続部までの深さh=4h〉dとし、磁性体膜底部の接
続部はそれよりも深くしてL字形の底面と一方の側面で
接続するようにしである。
完全にするためにフェライト部に段を設け、少なくとも
ギャップ深さdは磁性体膜で形成され、フェライトとの
接続部までの深さh=4h〉dとし、磁性体膜底部の接
続部はそれよりも深くしてL字形の底面と一方の側面で
接続するようにしである。
本発明の他の実施列を第5図(イ)、(口NC示す。前
記第1の溝および第2の溝の形状はモデル的に表現した
もので第4図に示すような形状の溝に限定されるもので
はなく実際には第5図(イ)にブロックの側面図を示す
ように溝底面の角を取った形状になる。このようなブロ
ックから得られた磁気ヘッドコアは第5図(ロ)K示す
ように磁性体膜とフェライトの凄続部31が傾斜し、接
続部の磁性体膜の密着強度が高められる。また、底面を
曲面にしてもよく、加工砥石の底面形状によって適当に
選べる。
記第1の溝および第2の溝の形状はモデル的に表現した
もので第4図に示すような形状の溝に限定されるもので
はなく実際には第5図(イ)にブロックの側面図を示す
ように溝底面の角を取った形状になる。このようなブロ
ックから得られた磁気ヘッドコアは第5図(ロ)K示す
ように磁性体膜とフェライトの凄続部31が傾斜し、接
続部の磁性体膜の密着強度が高められる。また、底面を
曲面にしてもよく、加工砥石の底面形状によって適当に
選べる。
本発明の他の実施列を第6図に示す。磁気ヘッドの記録
媒体対向面から見た図である。この場合、トラック幅1
wは磁性体層32とSi Q、 、 A 40a等の非
磁性絶縁体層33とを交互に積層した多層磁性体で構成
されている。このようにすれば金属磁性体膜における渦
電流損失が低減され、高周波領域までの磁気特性を確保
できる。
媒体対向面から見た図である。この場合、トラック幅1
wは磁性体層32とSi Q、 、 A 40a等の非
磁性絶縁体層33とを交互に積層した多層磁性体で構成
されている。このようにすれば金属磁性体膜における渦
電流損失が低減され、高周波領域までの磁気特性を確保
できる。
本発明の他の実ufM ’fIJを第7図(イ)、(ロ
)に示す。(イ)は本発明の大ブロック20の上面の平
面図を示す。
)に示す。(イ)は本発明の大ブロック20の上面の平
面図を示す。
ここでは所定のアジマス角θを有する磁気ヘッドにおい
て磁性体膜24.24’がコア幅全体にわたってコアの
中央部に位置するように構成した磁気ヘッドを提供する
。それは第7図(イ)に示す直方体のフェライト大ブロ
ックに対して、寸法aVc対応する一辺に対して所定の
アジマス角θだけ傾向いた第1の溝、第2の溝を平行に
複数形成し前述の工程い)まで行ない、さらに工程QO
でこれらの溝に平行にコアを切断して取り出しコイルを
巻装することによって得られる。第7図(ロ)にこの磁
気へラドコアの記録媒体対向面の平ゝ面図を示すように
、磁性体膜で形成されたトラック部(幅t w )がコ
ア厚T−に対して中央に位置し、ギャップ部はアジマス
角θだけ傾いた磁気ヘッドが得られる。
て磁性体膜24.24’がコア幅全体にわたってコアの
中央部に位置するように構成した磁気ヘッドを提供する
。それは第7図(イ)に示す直方体のフェライト大ブロ
ックに対して、寸法aVc対応する一辺に対して所定の
アジマス角θだけ傾向いた第1の溝、第2の溝を平行に
複数形成し前述の工程い)まで行ない、さらに工程QO
でこれらの溝に平行にコアを切断して取り出しコイルを
巻装することによって得られる。第7図(ロ)にこの磁
気へラドコアの記録媒体対向面の平ゝ面図を示すように
、磁性体膜で形成されたトラック部(幅t w )がコ
ア厚T−に対して中央に位置し、ギャップ部はアジマス
角θだけ傾いた磁気ヘッドが得られる。
本発明の他の実施例を第8図、第9図に示す。
第8図にその製造方法を示し、第9図に得られた磁気へ
ラドコアの形状を斜視図で示す。第8図における工程(
イ)はフェライト大ブロック20と非磁性材34を接合
した大ブロックを用意する。この非磁性材の厚さは完成
磁気ヘッドのギャップ深さ程度必要で加工代を含めて0
.3 rtrmとした。このような大ブロックを用いれ
ば本発明の他の製造方法(例えば、第4図(イ))にお
ける第1の溝加工が不用となる。次に工程←)は第4図
の工程に)に相当し、第2の溝加工を行なう。次に工程
(ハ)は前記第2の溝23に向けて高飽和磁束密度を有
する磁性体を ゛スパッタリングし、少なくとも溝の1
則壁にトラック幅の厚みを有する磁性体膜24被着する
。次に工程に)においてガラス等の非磁性材25を充填
後、表面の不用の非磁性充填材および磁性体膜を研削お
よび研摩除去し平坦部を得る。このようにしてずqられ
た大ブロックは第4図の工程(ト)以下と同様の工程に
従って、第9図に示す磁気ヘッドが得られる。
ラドコアの形状を斜視図で示す。第8図における工程(
イ)はフェライト大ブロック20と非磁性材34を接合
した大ブロックを用意する。この非磁性材の厚さは完成
磁気ヘッドのギャップ深さ程度必要で加工代を含めて0
.3 rtrmとした。このような大ブロックを用いれ
ば本発明の他の製造方法(例えば、第4図(イ))にお
ける第1の溝加工が不用となる。次に工程←)は第4図
の工程に)に相当し、第2の溝加工を行なう。次に工程
(ハ)は前記第2の溝23に向けて高飽和磁束密度を有
する磁性体を ゛スパッタリングし、少なくとも溝の1
則壁にトラック幅の厚みを有する磁性体膜24被着する
。次に工程に)においてガラス等の非磁性材25を充填
後、表面の不用の非磁性充填材および磁性体膜を研削お
よび研摩除去し平坦部を得る。このようにしてずqられ
た大ブロックは第4図の工程(ト)以下と同様の工程に
従って、第9図に示す磁気ヘッドが得られる。
上記せる各磁気ヘッドの図面において、コイルの図示は
いずれも省略されてhる。
いずれも省略されてhる。
以上に説明したごとぐ本発明による磁気ヘッドはギャッ
プ近傍に高飽和磁束密度を有する金属磁性体膜を配設し
、さらに該金属磁性体膜がトラック幅の厚みでコア幅の
長さを有し、記録媒体対向面の110の部分は非磁性材
料からなり、それ以外の。
プ近傍に高飽和磁束密度を有する金属磁性体膜を配設し
、さらに該金属磁性体膜がトラック幅の厚みでコア幅の
長さを有し、記録媒体対向面の110の部分は非磁性材
料からなり、それ以外の。
部分を高透磁率フェライトのバルク材で構成しているの
で、記録特性および再生特性の極めて優れた磁気ヘッド
となっている。また、テープ摺動雑音が低く、劇摩耗性
に優れた狭トラツク幅の磁気ヘッドが得られる。
で、記録特性および再生特性の極めて優れた磁気ヘッド
となっている。また、テープ摺動雑音が低く、劇摩耗性
に優れた狭トラツク幅の磁気ヘッドが得られる。
そして、本発明による製造方法は例えば第1図(イ)、
(ロ)、第2図(イ)、(ロ)に示す従来の磁気ヘッド
の製造方法に比べ能率的な量産が可能で、ギャップ長精
度、トラック合せ精度、金属磁性体膜とフェライトとの
密着性等の改善ができヘッド性能が良好で歩留りの高い
ものとなる。
(ロ)、第2図(イ)、(ロ)に示す従来の磁気ヘッド
の製造方法に比べ能率的な量産が可能で、ギャップ長精
度、トラック合せ精度、金属磁性体膜とフェライトとの
密着性等の改善ができヘッド性能が良好で歩留りの高い
ものとなる。
なお、本発明の磁気−、ラドおよびその製造方法におい
て、上記せざることについては、従来技術を踏襲してよ
い。
て、上記せざることについては、従来技術を踏襲してよ
い。
第1図(イ)および(ロ)は従来の磁気ヘッドの構造を
示す斜視図および上面図、第2図(イ)は他の従来の磁
気ヘッドの製造工程の一部を示す斜視図、第2図(ロ)
は第2図(イ)に示される工程経て得られた従来の磁気
ヘッドの構造を示す斜視図、第3図は本発明の一実施汐
りにおける磁気ヘッドを示す斜視図、第4図(イ)〜(
ホ)は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造工8
を示す斜視図もしくは断面図、第4図(ワ)は本発明の
一実施例における磁気ヘッドの金属磁性体膜と高透磁率
フェライトとの相対的関係を明確にするための説明図、
第5図(イ)および(ロ)は本発明の他の一実施例にお
ける磁気ヘッドを示す断面図および斜視図、$6図は本
発明の他の一実施例における磁気ヘッドの上面図、第7
図(イ)および(ロ)は本発明の他の一実施例でアジマ
ス角を有する磁気ヘッドの製造工程の一部を示す平面図
と得られた磁気ヘッドの上面図、第8図(イ)〜に)は
本発明の他の一実施例における磁気ヘッドの製造工程の
一部を示す斜視図もしくは断面図、第9図は第8図(イ
)〜に)に示す工程を経て得られた本発明の他の一実施
例における磁気ヘッドを示す斜視図である。 20・・・高透磁率フェライト大ブロック、21・・・
第1の溝、22・・・非磁性材、23・・・第2の溝、
24゜24′・・・金属磁性体膜、25・・・非磁性材
、26゜第 Z 図 す 第3図 tl、。 第4 図 第 4r″?−1 第6 図 第′7 図 第1頁の続き 0発 明 者 工藤實弘 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
示す斜視図および上面図、第2図(イ)は他の従来の磁
気ヘッドの製造工程の一部を示す斜視図、第2図(ロ)
は第2図(イ)に示される工程経て得られた従来の磁気
ヘッドの構造を示す斜視図、第3図は本発明の一実施汐
りにおける磁気ヘッドを示す斜視図、第4図(イ)〜(
ホ)は本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造工8
を示す斜視図もしくは断面図、第4図(ワ)は本発明の
一実施例における磁気ヘッドの金属磁性体膜と高透磁率
フェライトとの相対的関係を明確にするための説明図、
第5図(イ)および(ロ)は本発明の他の一実施例にお
ける磁気ヘッドを示す断面図および斜視図、$6図は本
発明の他の一実施例における磁気ヘッドの上面図、第7
図(イ)および(ロ)は本発明の他の一実施例でアジマ
ス角を有する磁気ヘッドの製造工程の一部を示す平面図
と得られた磁気ヘッドの上面図、第8図(イ)〜に)は
本発明の他の一実施例における磁気ヘッドの製造工程の
一部を示す斜視図もしくは断面図、第9図は第8図(イ
)〜に)に示す工程を経て得られた本発明の他の一実施
例における磁気ヘッドを示す斜視図である。 20・・・高透磁率フェライト大ブロック、21・・・
第1の溝、22・・・非磁性材、23・・・第2の溝、
24゜24′・・・金属磁性体膜、25・・・非磁性材
、26゜第 Z 図 す 第3図 tl、。 第4 図 第 4r″?−1 第6 図 第′7 図 第1頁の続き 0発 明 者 工藤實弘 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、トラック幅に対応する厚さを有して且つ飽和磁束密
度の高い1対の金属磁性体膜の各一端が互に対向して作
動ギャップを形成し、該金属磁性体膜の該作動ギャップ
側の一端に対する他端は磁気ヘッドの磁気記録媒体走行
方向における端部にまで達し、該金属磁1生体膜の磁気
記録媒体対向面側の一端は該磁気ヘッドの記録媒体対向
面に露出し且つ該金属磁性体膜の該記録媒体対向面の一
端に対する他端は少なくともコイル巻線窓に達するとと
もに、その近傍においてコア本体である高透磁率フェラ
イトと接合してこれと磁気的に連続し、さらに該磁気ヘ
ッドの磁気記録媒体対向面における該金属磁性体膜露出
部以外の該媒体対向面部分は該金属磁性体膜の両側面に
接する非磁性材料で構成されてなることを特徴とする磁
気ヘッド。 2、金属磁性体膜と高透磁率フェライトとの前記接合面
の少なくとも前記記録媒体対向面側と反対側の部分が該
記録媒体対向iに対して非垂直であり且つ該接合面の面
積は前記金属磁性体膜露出部の面積より大なることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッド。 3、前記金属磁性体膜と前記高透磁率フェライトとの前
記接合面が、前記記録媒体対向面側においては該対向面
にほぼ垂直な平面であり、該対向面側に対する他端側に
おいては該対向面に対して非垂直な面であることを特徴
とする特許請求の範囲第2項記載の磁気ヘッド。 4、前記非垂直な面の少なくとも一部が、前記記録媒体
対向面に斜交する平面であることを特徴とする特許請求
の範囲第2項もしくは第3項記載の磁気ヘッド。 5、前記非垂直な面の少なくとも一部が、前記記録媒体
対向面に平行な平面であることr特徴とする特許請求の
範囲第2項もしくは第3項記載の磁気ヘッド。 6、前記金属磁性体膜の前記記録媒体対向面側と反対側
の一端が、前記磁気ヘッドのコア側面に露出しているこ
と(f−特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第5項の
いずれかの項に記載の磁気ヘッド。 7、前記金属磁性体膜が磁性層と非磁性層との積層体か
らなることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至f、
6項のいずれかの項に記載の磁気ヘッド。 8、前記金属磁性体膜がFe−B1合金、Fe−At−
8l合金、l;”e−Ni合金および非晶質磁性合金よ
りなる群より選択された少なくとも1合金からなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれ
かの項に記載の磁気ヘッド。 9、前記磁性層がpe−,9l合金、Fe−ht−st
金合金li”e−Ni合金および非晶質磁性合金よりな
る群より選択された少なくとも1合金からなることを特
徴とする特許請求の範囲第7項記載の磁気ヘッド。 10、前記金属磁性体膜の両側面に接する前記非磁性材
料が互に異なる材料であり且つ互にほぼ同程度の摩耗特
性を有するものであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項乃至第9項のいずれかの項に記載の磁気ヘッド。 11、N高透磁率フェライトよりなる大ブロックの記録
媒体対向面となる面に、互に平行な複数の第1の溝を形
成する工程、11)該第1の溝に非磁性材を充填する工
程、111)該第1の溝に隣接し且つ該第1の溝に充填
された非磁性材の側壁部をも除去するように、該第1の
溝より深い第2の溝を設ける工程、+V >該第2の溝
の少なくとも側壁面に、所定のトラック幅となる厚みの
金属磁性体膜を被着する工程、V)工程+V )を終了
した該第2の溝に非磁性材を充填する工程、V+ )工
程V)を終了した該大ブロックの記録媒体対向面となる
面を加工して平坦化して該面上の接面に平行な金属磁性
体膜および該面上に突出している該非磁性材を除去し、
トラック幅に対応する該金属磁性体膜を露出させる工程
、vll)該大ブロックから1対の小ブロックを切り出
し、ギャップ突合せ面となる面を研摩し、さらに該小ブ
ロックの少なくとも一方にコイル巻線用溝を設ける工程
、vm )ギャップ長に対応した厚さの非磁性体層を介
して該金属磁性体膜の端面が一致するように、一対の該
小ブロックを突合せ、これを一体化する工程、1×)工
程vii+ )にて一体化された小ブロックを、該金属
磁性体膜間にて、該金属磁性体膜に平行に且つ所定のコ
ア厚さになるように切断して、複数の磁気へラドコアを
得る工程、およびX)コイルk M 磁気へラドコアに
装着する工程、を有することを特徴とする磁気ヘッドの
創造方法。 12、前記工程l)および111)において、前記第1
の溝および第2の溝を前記大ブロックの端面に対して所
定のアジマス角θをなすように形成すること全特徴とす
る特許請求の範囲第11項記載の磁気ヘッドの製造方法
。 13.1)高透磁率フェライトブロックに非磁性材層全
接合した複合体からなる大ブロックの該非磁性材層面に
、互に平行で且つ該非磁性材層の厚さより大なる深さを
有する第2の溝を設ける工程、■)該第2の溝の少なく
とも側壁面に、所定のトラック幅となる厚みの金属磁性
体膜を被着する工程、l1l)工程■)を終了した該第
2の溝に非磁性材を充填する工程、■)工程■)を終了
した該大ブロックの記録媒体対向面となる面を加工して
平坦化して該面上の接面に平行な金属磁性体膜および該
面上に突出している該非磁性材を除去し、トラック幅に
対応する該金属磁性体膜を露出させる工程、■)該大ブ
ロックから一対の小ブロックを切り出し、ギャップ突合
せ面となる面を研摩し、さらに該小ブロックの少なくと
も一方にコイル巻線用溝を設ける工程、■)ギャップ長
に対応した厚さの非磁性体層を介して該金属磁性体膜の
端面が一致するように、一対の該小ブロックを突合せ、
これを一体化する工程、■)工程VI)にて一体化され
た小ブロックを、該金属磁性体膜間にて、該金属磁性体
膜に平行に且つ所定のコア厚さになるように切断して、
複数の磁気へラドコアを得る工程、および■)コイルを
該磁気ヘッドコ°アに装着する工程、を有することを特
徴とする磁気ヘッドの製造方法。 14、前記工程11)において非磁性材としてガラスを
用い、前記工程V)において非磁性材として該工程11
)において用いた該ガラスよりも軟化温度の低いガラス
を用いることを特徴とする特許請求の範囲第11項もし
くは第12項記載の磁気ヘッドの製造方法。 15、前記工程+V )または工程H)において被着す
る金属磁性体膜が非晶質磁性合金からなり、前記工程■
)または工程■)において該非晶質磁性合金の結晶化温
度より低い温度で前記非磁性材を充填することを特徴と
する特許請求の範囲第11項乃至第14項記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。 16、前記工程I)において、前記第2の溝を前記大ブ
ロックの端面に対して所足のアジマス角θをなすように
形成することを特徴とする特許請求の範囲第13項記載
の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11388082A JPS595414A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11388082A JPS595414A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS595414A true JPS595414A (ja) | 1984-01-12 |
Family
ID=14623429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11388082A Pending JPS595414A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS595414A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63217509A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-09 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツド |
| JPS63312123A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-20 | Hirano Kogyo Kk | 発泡プラスチック成形品の製造方法 |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP11388082A patent/JPS595414A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63217509A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-09 | Pioneer Electronic Corp | 磁気ヘツド |
| JPS63312123A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-20 | Hirano Kogyo Kk | 発泡プラスチック成形品の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS58155513A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPS59207415A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| KR920006124B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| US5267392A (en) | Method of manufacturing a laminated high frequency magnetic transducer | |
| JPS60231903A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH0475564B2 (ja) | ||
| US4731299A (en) | Composite magnetic material | |
| JPH0235609A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH0548244Y2 (ja) | ||
| JPS61280009A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS62102408A (ja) | 磁気ヘツドコア | |
| JPS62246112A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0467246B2 (ja) | ||
| JPS60234209A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS62145520A (ja) | 磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPS6251009A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPS59203210A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH0561681B2 (ja) | ||
| JPS6247810A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH05234029A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS6257112A (ja) | 磁気ヘツドチツプの製造方法 | |
| JPS62295205A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS61250806A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH07282415A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH03225607A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 |