JPS61267908A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「技術分野」 本発明は、特にＶＴＲ等に使用して好適な磁気ヘッドお
よびその製造方法に関する。

「従来技術およびその問題点」 高性能オーディオやＶＴＲに使用されている従来の磁気
ヘッドは、フェライト等の強磁性体からなる一対の直方
体状磁気コア同志間のギャップ形成空間に、例えば溶融
ガラスを毛細管現象で注入充填したり、又はコア同志間
にガラス箔をスペーサとして介在させて加熱圧着したり
、あるいはギャップ幅が狭いためコア上にスパッタリン
グ等でガラス薄膜を形成後、このガラス薄膜を挟んで加
熱圧着してコアブロック同志を接合し、しかる後、コア
ブロックをその長手方向に所定間隔で切断することによ
り作られている。特にギャップ幅を狭くした従来の磁気
ヘッドの一例を第４図に示す０図中、３１ａおよび３１
ｂは磁気コア、３２はギャップ、３３は巻線用溝、３４
は巻線用溝３３を通して巻回されたコイルである。

ところがフェライトをコアに用いた磁気ヘッドは、飽和
磁束密度が小さいために、近年開発された、抗磁力およ
び残留磁束密度が大きい、例えばメタルテープ、メタル
ディスクと呼ばれる高性能記録媒体に対しては、その性
能を十分活かすことが難しいことが分った。そこでフェ
ライトの特徴を活かし、かつフェライトの欠点をカバー
するために、磁気ギャップの近傍に飽和磁束密度の大き
い金属磁性材料を設けた磁気ヘッドが種々提案されてい
る。

しかし磁気ギャップの近傍にのみ金属磁性材料を設ける
ことは困難である。すなわち従来この種の磁気ヘッドを
作るには、金属磁性材料の薄膜の厚さだけ、一対のハー
フコアのギャップ部分の厚さに差を設けなければならず
、加工が複雑になり、生産性が非常に悪くなるばかりで
なく、ギャップ幅の精度の確保も困難になるという欠点
がある。

「発明の目的」 本発明は、このような従来の磁気ヘッドの問題を解決し
、ギャップ精度が良く、また加工工程が簡単でかつ高性
能記録媒体の性能を十分活かすことができる磁気ヘッド
およびその製造方法を得ることを目的とする。

「発明の概要」 本発明は、この目的を達するため、一対の磁性体からな
るハーフコアの突合せ面にトラック幅規制切欠溝を形成
し、このハーフコアの突合せ面に、磁気ギャップを構成
する非磁性膜を介在させた磁気ヘッドにおいて、一方の
ハーフコアのトラック幅規制切欠溝を含む突合せ面上に
、磁性金属薄膜と非磁性薄膜を積層形成し、この非磁性
薄膜上、または他方のハーフコアのトラック幅規制切欠
溝を含む突合せ面上に、磁性金属薄膜を形成したことを
特徴としている。

また本発明方法は、少なくとも、磁性金属薄膜、非磁性
薄膜、および磁性金属薄膜を積層形成する側のハーフコ
アブロックを鏡面加工し、両ハーフコアブロックに所定
間隔のトラック幅規制切欠溝を形成するとともに、少な
くとも一方のハーフコアブロックに連続した巻線溝を形
成し、次に上記鏡面加工を施したハーフコアブロックの
突合せ面に、磁性金属薄膜、非磁性金属薄膜、および磁
性金属薄膜を積層形成する一方、鏡面加工を施さない側
のハーフコアブロックのトラック幅規制切欠溝に低融点
ガラスを充填し、さらにこの両ハーフコアブロックを突
合せ、加熱処理して接合した後、所定間隔で切断するよ
うにしたことを特徴としている。この方法によると、上
記磁気ヘッドを簡単に製造することができる。

「発明の実施例」 以下図示実施例について本発明を説明する。第１図（ａ
）　、　（ｂ）は本発明の磁気ヘッドの実施例を示すも
ので゛、フェライト等の強磁性材料からなる一対のハー
フコア１１．１１は、その一方に巻線溝１２）他方に補
強溝１３が形成されている０巻線溝１２は、コイル１４
を巻くと同時に、ハーフコア１１．１１間に中空部１５
を形成して閉磁路を構成する働きがある。このハーフコ
ア１１．１１には、それぞれその対向面に、トラック幅
規制切欠溝１６．１６が形成されていて、このトラック
幅規制切欠溝１６．１６および補強溝１３に低融点ガラ
ス１７が充填され、この低融点ガラス１７によって一対
のハーフコア１１．１１が接合されている。

本発明の磁気ヘッドは、以上の磁気ヘッドにおいて、一
方のハーフコア１１のトラック幅規制切欠溝１６を含む
突合せ面に、磁性金属薄膜２１、非磁性薄膜２２）およ
び金属薄膜２３を順次積層形成し、非磁性薄膜２２を磁
気ギャップとしたことを特徴としている。

磁性金属薄膜２１および２３は、鉄−アルミ−ケイ素合
金（通称センダスト）、鉄−ニッケル合金（通称パーマ
ロイ）またはアモルファス合金を用いるとよい。

また非磁性薄膜２２は、ＳｉＯ□または高融点ガラスで
形成する。そしてこれらの薄膜２１．２２．２３は、ハ
ーフコア１１．１１を接合する前に、スパッタリング法
、蒸着法、あるいは化学メッキ法によって形成する。

巻線溝１２の壁面には、補強溝１３およびトラック幅規
制切欠溝１６に充填した低融点ガラス１７と同じガラス
からなるガラス薄Ｍ１８が均一に形成されており、この
ガラス薄膜１８の上に上記コイル１４が巻かれている。

このガラス薄膜１８は、コイル１４の被膜に傷が付くの
を防止することを主たる目的とするものであるが、必ず
しも必要ではない。

なおハーフコア１１．１１の接合強度を高めるため、両
コアの突合せ面に、擬似ギャップとならない程度の厚さ
く例えば１００〜２００人）で低融点ガラスをスパッタ
リング等によって付着させ、これを加熱処理して両コア
を接合するのが好ましい。

第２図は未発明の磁気ヘッドの別の実施例を示すもので
、一方のハーフコア１１には、トラック幅規制切欠溝１
６を含む突合せ面に、磁性金属薄膜２１および非磁性薄
膜２２を積層形成し、他方のハーフコア１１には、トラ
フ゛り幅規制切欠溝１６を含む突合せ面に、磁性金属薄
膜２３を形成している。この実施例においても、非磁性
薄膜２２が磁気ギャップを構成する。

このようにハーフコア１１．１１の突合せ面に、層状に
、磁性金属薄膜２１、非磁性薄膜２２および磁性金属薄
膜２３を形成すると、磁気ギャップを構成する非磁性薄
膜２２の近傍に飽和磁束密度の大きい磁性金属薄膜２１
および磁性金属薄膜２３が形成されるため、抗磁力およ
び残留磁束密度が大きい高性能記録媒体の性能を十分活
かすことができる。

次に第３図（ａ）ないしくｇ）について、本発明の磁気
ヘッドを製造するための好適な製造方法を説明する。同
図（ａ）において、ｌｌａ、ｌｌｂは、フェライト等の
強磁性材料を切断して所定の直方体形状にした一対のハ
ーフコアブロックである。

このハーフコアブロックｌｌａ、ｌｌｂは、少なくとも
その一方、例えばｌｌａの突合せ面に鏡面加工を施し、
次に両ブロックの長手方向に沿゛い所定間隔でトラック
幅規制切欠溝１６を所定間隔で形成する。またその一方
、例えばブロックｌｌａに巻線溝１２を、ブロックｔｔ
ｂに補強溝１３を、それぞれその長手方向に連続させて
形成する同図（ｂ）　）　、この巻線溝１２と補強溝１
３は１両ブロックに設けてもよい。

以上のハーフコアブロックｌｌａ、ｌｌｂに対し、次に
鏡面加工を施した側のブロック、すなわちこの実施例で
は巻線溝１２を形成した側のハーフコアブロックｌｌａ
に、同図（Ｃ）に示すように上記磁性金属薄膜２１、非
磁性薄膜２２）および磁性金属薄膜２３を積層形成する
。これらの薄膜は、いずれもスパッタリング法、蒸着法
、あるいは化学メッキ法から適当な手段を選んで形成す
る。非磁性薄膜２２の厚さはギャップ幅に等しく設定す
る。

補強溝１３を形成した側のハーフコアブロック１１ｂに
は、トラック幅規制切欠溝１６および補強溝１３の上に
１例えばＳｉＯ□−ＰｂＯ系の低融点ガラス棒２５を位
置させ、さらにこれを加熱溶融させて、トラック幅規制
切欠溝１６８よび補強溝１３に低融点ガラス１７を充填
する（同図（ｄ））。

そしてトラック幅規制切欠溝１６および補強溝１３から
はみ出した低融点ガラス１７を例えば研磨等で除去する
（同図（１り　）　。

以上の加工を施した一対のハーフコアブロック１１ａ、
ｌｌｂを、次に同図（ｆ）のように突合せ、低融点ガラ
ス１７の溶融温度にて加熱処理をする。するとハーフコ
アブロックｌｌａ、Ｌｌｂが低融点ガラス１７によって
接合される。この際、ハーフコアブロックｌｌａ側のト
ラック幅規制切欠溝１６に、必要に応じて低融点ガラス
を流入させ、体腔するトラック幅規制切欠溝１６内に低
融点ガラス１７を充填するこ゛とが望ましい、また両ブ
ロックｌｌａ、１１ｂの突合せ面の少なくとも一方に、
上述のように、擬似ギャップとならない程度の厚さく例
えば１００〜２００人）で低融点ガラスを付着させてお
き１両コアブロックの接合強度を高めることができる。

接合が完了したハーフコアブロック１１ａ、１１ｂは、
同図（ｆ）に示す切断線Ｃ１すなわちトラック幅規制切
欠溝１６．１６の中央部で所定幅に切断するとともに、
補強＠１３の下部の不要部分を切断線りで示すように切
断除去して同図（ｇ）に示すような磁気ヘッドを得る。

この磁気ヘッドは、その後テープ摺接面が円弧状に研磨
され、巻線溝１２にコイル１４が巻回される。

上記製造工程では、薄膜２１．２２．２３を積層形成す
る側のコアブロックｌｌａ側の溝には、他方のコアブロ
ック１１ｂとの接合前に低融点ガラスを充填していない
が、コアブロックｌｌｂ側と同様に、そのトラック幅規
制切欠溝１６および巻線溝１２に低融点ガラスを充填す
ることができる。この場合には、巻線溝ｌｚ内の低融点
ガラスを、線溝１２の表面にのみガラス薄膜を残して除
去し、さらに突合せ面を研磨してガラス材料を除去して
から、他方のコアブロッ゛りｌｌｂに接合すればよい。

また別の製造方法としては、ハーフコアブロックｌｌａ
側に、磁性金属薄膜２１、非磁性薄膜２２）および磁性
金属薄膜２３を積層形成した後、ハーフコアブロックｌ
ｌｂ側の溝に低融点ガラスを充填する前に、両ブロック
ｌｌａ、１１ｂを突合せ、その状態でトラック幅規制切
欠溝１６．１６に低融点ガラスを充填しても接合するこ
とができる。

以上は第１図の磁気ヘッドを製造するための工程例であ
るが、第２図の磁気ヘッドについても、同様の工程で製
造することができる。

「発明の効果」 以上のように本発明の磁気ヘッドは、一対のハーフコア
のトラック幅規制切欠溝を含む突合せ面に、磁性金属薄
膜、非磁性薄膜および磁性金属薄膜を層状に形成したの
で、磁気コアの磁気ギャップ近傍に、飽和磁束密度の大
きい磁性金属薄膜を設けることができ、かつ磁気ギャッ
プの幅を非磁性薄膜の厚さで制御することができる。し
たがって抗磁力および残留磁束密度が大きい高性能記録
媒体に適した磁気ヘッドを得ることができる。また本発
明方法によれば、この磁気ヘッドを簡単にかつ効率的に
製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）　、　（ｂ）は本発明の磁気ヘッドの実施
例を示す斜視図と平面図、第２図は他の実施例を示す第
１図（ｂ）と同様の平面図、第３図（ａ）ないしくｇ）
は１本発明の製造方法の例を示す工程図、第４図は従来
の磁気ヘッドの斜視図である。 ｉｔ…ハーフコア、１１ａ…八−フコアブロック、１２
・・・巻線溝、１３・・・補強溝、１４・・・コイル、
１６・・・トラック幅規制切欠溝、１７′−・・低融点
ガラス、２１・・・磁性金属薄膜、２２・・・非磁性薄
膜、２３・・・磁性金属薄膜。 第２図 第３図 第３図 第３図 第４図

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対の磁性体からなるハーフコアの突合せ面にト
   ラック幅規制切欠溝を形成し、このハーフコアの突合せ
   面に、磁気ギャップを構成する非磁性膜を介在させた磁
   気ヘッドにおいて、一方のハーフコアのトラック幅規制
   切欠溝を含む突合せ面上に、磁性金属薄膜と非磁性薄膜
   を積層形成し、この非磁性薄膜上、または他方のハーフ
   コアのトラック幅規制切欠溝を含む突合せ面上に、磁性
   金属薄膜を形成したことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）特許請求の範囲第１項において、磁性金属薄膜は
   、鉄−アルミ−ケイ素合金、鉄−ニッケル合金またはア
   モルファス合金から形成されている磁気ヘッド。
3. （３）特許請求の範囲第１項において、非磁性薄膜は、
   ＳｉＯ＿２またほ高融点ガラスで形成されている磁気ヘ
   ッド。
4. （４）磁性体からなる一対のハーフコアブロックの突合
   せ面の少なくとも一方を鏡面加工した後、両ハーフコア
   ブロックに所定間隔のトラック幅規制切欠溝を形成する
   とともに、少なくとも一方のハーフコアブロックに連続
   した巻線溝を形成し、次に上記鏡面加工を施したハーフ
   コアブロックの突合せ面に、磁性金属薄膜、非磁性金属
   薄膜、および磁性金属薄膜を積層形成し、その後ハーフ
   コアブロックのトラック幅規制切欠溝に低融点ガラスを
   充填して両ハーフコアブロックを突合せ、加熱処理して
   接合した後、所定間隔で切断することを特徴とする磁気
   ヘッドの製造方法。
5. （５）特許請求の範囲第４項において、磁性金属薄膜は
   、鉄−アルミ−ケイ素合金、鉄−ニッケル合金またはア
   モルファス合金からなり、これがスパッタリング法、蒸
   着法、または化学メッキ法によりコアブロックに付着さ
   れる磁気ヘッドの製造方法。
6. （６）特許請求の範囲第４項において、非磁性薄膜は、
   ＳｉＯ＿２または高融点ガラスからなり、これがスパッ
   タリング法、蒸着法、または化学メッキ法によりコアブ
   ロックに付着される磁気ヘッドの製造方法。