JPH025506B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH025506B2 JPH025506B2 JP2917384A JP2917384A JPH025506B2 JP H025506 B2 JPH025506 B2 JP H025506B2 JP 2917384 A JP2917384 A JP 2917384A JP 2917384 A JP2917384 A JP 2917384A JP H025506 B2 JPH025506 B2 JP H025506B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- soldering
- unit
- water
- jet
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 35
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 26
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/08—Soldering by means of dipping in molten solder
- B23K1/085—Wave soldering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Molten Solder (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、洗浄に特徴を有するはんだ付け装置
に関するものである。
に関するものである。
一般的に、集積回路(以下ICと呼ぶ)のリー
ドフレームにはんだ被膜を付着させるためのはん
だ付けラインなどでは、はんだ付けにあたつて水
溶性の塩素系のフラツクスを用いることにより、
リードフレームの表面の金属酸化皮膜(サビ)を
除去してリードフレームにはんだが付着しやすい
ようにしている。
ドフレームにはんだ被膜を付着させるためのはん
だ付けラインなどでは、はんだ付けにあたつて水
溶性の塩素系のフラツクスを用いることにより、
リードフレームの表面の金属酸化皮膜(サビ)を
除去してリードフレームにはんだが付着しやすい
ようにしている。
しかし、上記塩素系のフラツクスがはんだ付け
後もリードフレームなどに残ると、塩素の作用に
よつてリードフレームなどが侵食されるおそれが
ある。
後もリードフレームなどに残ると、塩素の作用に
よつてリードフレームなどが侵食されるおそれが
ある。
そこで、はんだ付け工程においてリードフレー
ムにはんだ被膜を形成したICは、次の洗浄工程
に移送され、上方のシヤワーから温水または冷水
を浴びせられるとともに、下方のエアバブリング
水槽から噴出する気液混相上昇流を受け、IC等
に付着しているフラツクスを洗い落すようにして
いるが、十分な洗浄効果が得られないことがあ
る。
ムにはんだ被膜を形成したICは、次の洗浄工程
に移送され、上方のシヤワーから温水または冷水
を浴びせられるとともに、下方のエアバブリング
水槽から噴出する気液混相上昇流を受け、IC等
に付着しているフラツクスを洗い落すようにして
いるが、十分な洗浄効果が得られないことがあ
る。
従来はその原因がわからず、試行錯誤を繰返し
ていたが、最近になつてようやくその原因が解明
された。すなわち上記欠点は、はんだ槽に最も近
いシヤワーから放水されはんだ付けラインのコン
ベヤ等にたたきつけられた水が無数の微小な水滴
となつて空気中に反射飛散することが原因であ
り、前工程でのはんだ付け作業が終了して洗浄工
程に移送される途中のICまでこの微小水滴が飛
散してそのリードフレームにこの微小水滴が付着
することにより洗浄効果に好ましくない影響を及
ぼすことが、そのメカニズムとともに本発明の発
明者によつて解明された。
ていたが、最近になつてようやくその原因が解明
された。すなわち上記欠点は、はんだ槽に最も近
いシヤワーから放水されはんだ付けラインのコン
ベヤ等にたたきつけられた水が無数の微小な水滴
となつて空気中に反射飛散することが原因であ
り、前工程でのはんだ付け作業が終了して洗浄工
程に移送される途中のICまでこの微小水滴が飛
散してそのリードフレームにこの微小水滴が付着
することにより洗浄効果に好ましくない影響を及
ぼすことが、そのメカニズムとともに本発明の発
明者によつて解明された。
すなわち、リードフレームに上記飛散水滴が付
着すると、その部分が冷却され、はんだ付け後の
フラツクス残渣が急冷されて固着し、その後の洗
浄工程においてフラツクス分を十分に洗い落とす
ことができないことがわかつた。
着すると、その部分が冷却され、はんだ付け後の
フラツクス残渣が急冷されて固着し、その後の洗
浄工程においてフラツクス分を十分に洗い落とす
ことができないことがわかつた。
その結果、この水滴の付着した部分が汚濁点と
して残ることになり、この汚濁点は外観を損ねる
ばかりではなく、はんだのりが悪いためにプリン
ト基板への接続が困難となり、またフラツクス残
渣の腐食作用により製品寿命を縮めるなどの欠陥
を有する。
して残ることになり、この汚濁点は外観を損ねる
ばかりではなく、はんだのりが悪いためにプリン
ト基板への接続が困難となり、またフラツクス残
渣の腐食作用により製品寿命を縮めるなどの欠陥
を有する。
本発明は、このような長期にわたる原因究明に
よつてようやく解明された洗浄メカニズムに鑑み
なされたもので、はんだ付け直後の被はんだ付け
物にシヤワーによる反射飛散水滴が付着しないよ
うにすることを目的とする。
よつてようやく解明された洗浄メカニズムに鑑み
なされたもので、はんだ付け直後の被はんだ付け
物にシヤワーによる反射飛散水滴が付着しないよ
うにすることを目的とする。
本発明のはんだ付け装置は、被はんだ付け物を
搬送するコンベヤに沿つて、フラツクス付けユニ
ツトと、予加熱ユニツトと、はんだ付けユニツト
と、少なくともシヤワーを設けてなる洗浄ユニツ
トとを順次設けてなるはんだ付け装置において、
上記はんだ付けユニツトに最も近い洗浄ユニツト
の直前に噴流水槽を設け、この噴流水槽の上部開
口周縁から被はんだ付け物の搬送レベルより高い
レベルまで可撓性を有する噴流ノズルブラシを突
設し、この噴流ノズルブラシの先端から水を噴流
させることを特徴とする構成のものであり、上記
シヤワーによる微小な反射飛散水滴をブラシ上の
噴流面で吸収し、この水滴がはんだ付け直後の被
はんだ付け物まで飛散しないようにする。
搬送するコンベヤに沿つて、フラツクス付けユニ
ツトと、予加熱ユニツトと、はんだ付けユニツト
と、少なくともシヤワーを設けてなる洗浄ユニツ
トとを順次設けてなるはんだ付け装置において、
上記はんだ付けユニツトに最も近い洗浄ユニツト
の直前に噴流水槽を設け、この噴流水槽の上部開
口周縁から被はんだ付け物の搬送レベルより高い
レベルまで可撓性を有する噴流ノズルブラシを突
設し、この噴流ノズルブラシの先端から水を噴流
させることを特徴とする構成のものであり、上記
シヤワーによる微小な反射飛散水滴をブラシ上の
噴流面で吸収し、この水滴がはんだ付け直後の被
はんだ付け物まで飛散しないようにする。
以下、本発明を図に示す実施例を参照して説明
する。
する。
第1図に図示するように、被はんだ付け物を搬
送するコンベヤ1に沿つて、被はんだ付け物取入
れ部2、水溶性塩素系フラツクスを収容した噴流
式フラツクス槽からなるフラツクス付けユニツト
3、エア吹出しノズルからなり余分なフラツクス
を除去するエアナイフ4、ヒータからなる予加熱
ユニツト5、噴流式はんだ槽からなるはんだ付け
ユニツト6、60〜80℃の温水によつて被はんだ付
け物などの残留フラツクスを洗浄除去する温水洗
浄ユニツト7、15〜20℃の冷水による3個の冷水
洗浄ユニツト8,9,10、乾燥手段11、被は
んだ付け物取出し部12を順次配列する。
送するコンベヤ1に沿つて、被はんだ付け物取入
れ部2、水溶性塩素系フラツクスを収容した噴流
式フラツクス槽からなるフラツクス付けユニツト
3、エア吹出しノズルからなり余分なフラツクス
を除去するエアナイフ4、ヒータからなる予加熱
ユニツト5、噴流式はんだ槽からなるはんだ付け
ユニツト6、60〜80℃の温水によつて被はんだ付
け物などの残留フラツクスを洗浄除去する温水洗
浄ユニツト7、15〜20℃の冷水による3個の冷水
洗浄ユニツト8,9,10、乾燥手段11、被は
んだ付け物取出し部12を順次配列する。
上記乾燥手段11は、2組の回転式エアブロー
ユニツト13と、ヒータからなる2組の加熱ユニ
ツト14と、2組の冷却フアンユニツト15との
よつて形成する。
ユニツト13と、ヒータからなる2組の加熱ユニ
ツト14と、2組の冷却フアンユニツト15との
よつて形成する。
上記コンベヤ1は、被はんだ付け物取入れ部2
および取出し部12を除いて、ほぼ全周をフード
16で覆い、フラツクス、はんだから発生するガ
スが室内に発散されるのを防止し、ガスは、ダク
ト17から室外に排出する。
および取出し部12を除いて、ほぼ全周をフード
16で覆い、フラツクス、はんだから発生するガ
スが室内に発散されるのを防止し、ガスは、ダク
ト17から室外に排出する。
以上のコンベヤ1、各ユニツト、その他の部材
は、ステンレススチール等の耐蝕性部材で形成す
るか、あるいは耐酸塗料を塗布しておく。
は、ステンレススチール等の耐蝕性部材で形成す
るか、あるいは耐酸塗料を塗布しておく。
また第2図に図示するように、温水洗浄ユニツ
ト7および冷水洗浄ユニツト8,9,10は、コ
ンベヤ1の下側にエアバブリング水槽20を設け
るとともに、コンベヤ1の上側にシヤワー21を
設けることにより形成する。
ト7および冷水洗浄ユニツト8,9,10は、コ
ンベヤ1の下側にエアバブリング水槽20を設け
るとともに、コンベヤ1の上側にシヤワー21を
設けることにより形成する。
エアバブリング水槽20は、外槽22の内部に
設置し、底部の2箇所にエア吹込みノズル23を
設けてなり、このノズル23に吹込まれたエア
は、ノズル23の上面開口から無数の気泡となつ
て上昇し、水面に沿つて移動する枠状ホルダ29
によりIC整列保持用の治具を介して保持された
被はんだ付け物としてのICにぶつかる。このと
き水槽20内の温水24または冷水も気泡26と
ともに高速の上昇流となつてICに激しくぶつか
り、気泡26の攪乱作用などと相俟つて、ICの
リードフレームなどに付着している水溶性塩素系
のフラツクスを有効に洗落することができる。ま
たシヤワー21は、たとえば図示するように2列
のパイプの下側面の3箇所に噴水孔を設けてなる
ものである。
設置し、底部の2箇所にエア吹込みノズル23を
設けてなり、このノズル23に吹込まれたエア
は、ノズル23の上面開口から無数の気泡となつ
て上昇し、水面に沿つて移動する枠状ホルダ29
によりIC整列保持用の治具を介して保持された
被はんだ付け物としてのICにぶつかる。このと
き水槽20内の温水24または冷水も気泡26と
ともに高速の上昇流となつてICに激しくぶつか
り、気泡26の攪乱作用などと相俟つて、ICの
リードフレームなどに付着している水溶性塩素系
のフラツクスを有効に洗落することができる。ま
たシヤワー21は、たとえば図示するように2列
のパイプの下側面の3箇所に噴水孔を設けてなる
ものである。
さらにこの第2図に示すように、最初の洗浄ユ
ニツト7のエアバブリング水槽20によりはんだ
槽側において外槽22の内部に噴流水槽31を設
け、この水槽31の上部開口周縁から、樹脂繊維
等の可撓性を有する刷手を密に植設してなる噴流
ノズルブラシ32を、IC搬送レベルより高いレ
ベルまで突設し、ポンプによつて上記水槽31内
に供給した水をこのブラシ32の先端から噴流
さ、このブラシ先端から溢れる噴流面を搬送レベ
ルより上方に維持するようにする。
ニツト7のエアバブリング水槽20によりはんだ
槽側において外槽22の内部に噴流水槽31を設
け、この水槽31の上部開口周縁から、樹脂繊維
等の可撓性を有する刷手を密に植設してなる噴流
ノズルブラシ32を、IC搬送レベルより高いレ
ベルまで突設し、ポンプによつて上記水槽31内
に供給した水をこのブラシ32の先端から噴流
さ、このブラシ先端から溢れる噴流面を搬送レベ
ルより上方に維持するようにする。
そうして、最初の洗浄ユニツト7のシヤワー2
1から放水された水はコンベヤ1の先行ホルダ等
にたたきつけられて反射飛散し、無数の微小な水
滴となつて洗浄前のホルダ下側まで達し、そのホ
ルダ下側に保持されているICのリードフレーム
等に付着しようとするが、その水滴の飛散経路中
にIC搬送レベルより上方に突出したブラシ32
上の噴流面33があるので、上記飛散水滴はこの
噴流面33に吸収され、洗浄前のICまで到達し
ない。さらにホルダ29、治具およびICは可撓
性ブラシ32の上部を押開いて通過し、このとき
ICのリードフレームなどに付着しているフラツ
クス残渣はブラシ32との摺擦によつて強制的に
落とされる効果もある。
1から放水された水はコンベヤ1の先行ホルダ等
にたたきつけられて反射飛散し、無数の微小な水
滴となつて洗浄前のホルダ下側まで達し、そのホ
ルダ下側に保持されているICのリードフレーム
等に付着しようとするが、その水滴の飛散経路中
にIC搬送レベルより上方に突出したブラシ32
上の噴流面33があるので、上記飛散水滴はこの
噴流面33に吸収され、洗浄前のICまで到達し
ない。さらにホルダ29、治具およびICは可撓
性ブラシ32の上部を押開いて通過し、このとき
ICのリードフレームなどに付着しているフラツ
クス残渣はブラシ32との摺擦によつて強制的に
落とされる効果もある。
なお上記噴流水槽31の水は冷水、温水のいず
れでもよく、必要に応じ適宜選択して使い分ける
ようにする。
れでもよく、必要に応じ適宜選択して使い分ける
ようにする。
次に、第1図について全体的な作用を説明する
と、フラツクス付けユニツト3においてICのリ
ードフレームに水溶性塩素系のフラツクスを付着
させ、エアナイフ4において余分なフラツクスを
吹飛ばし、予加熱ユニツト5においてICのリー
ドフレームを温め、はんだ付けユニツト6におい
てリードフレームにはんだ被膜を付着させ、温水
洗浄ユニツト7および冷水洗浄ユニツト8,9,
10において上側のシヤワー21から温水24ま
たは冷水をホルダ29および治具に浴せるととも
に、下側のエアバブリング水槽20で気液混相上
昇流を治具およびICに噴射して、ホルダ29、
治具、ICに付着したフラツクスを洗落とし、回
転式エアブローユニツト13において上側および
下側から噴射されるエアによつてホルダ29、治
具、ICに付着した水滴を吹飛ばし、加熱ユニツ
ト14において熱乾燥し、冷却フアンユニツト1
5において冷却し、最後に、被はんだ付け物取出
し部12でホルダ29からIC整列保持用の治具
を取外して取出す。
と、フラツクス付けユニツト3においてICのリ
ードフレームに水溶性塩素系のフラツクスを付着
させ、エアナイフ4において余分なフラツクスを
吹飛ばし、予加熱ユニツト5においてICのリー
ドフレームを温め、はんだ付けユニツト6におい
てリードフレームにはんだ被膜を付着させ、温水
洗浄ユニツト7および冷水洗浄ユニツト8,9,
10において上側のシヤワー21から温水24ま
たは冷水をホルダ29および治具に浴せるととも
に、下側のエアバブリング水槽20で気液混相上
昇流を治具およびICに噴射して、ホルダ29、
治具、ICに付着したフラツクスを洗落とし、回
転式エアブローユニツト13において上側および
下側から噴射されるエアによつてホルダ29、治
具、ICに付着した水滴を吹飛ばし、加熱ユニツ
ト14において熱乾燥し、冷却フアンユニツト1
5において冷却し、最後に、被はんだ付け物取出
し部12でホルダ29からIC整列保持用の治具
を取外して取出す。
本発明によれば、はんだ付けユニツトに最も近
い洗浄ユニツトの直前に噴流水槽を設け、この噴
流水槽の上部開口周縁から被はんだ付け物の搬送
レベルより高いレベルまで可撓性を有する噴流ノ
ズルブラシを突設し、この噴流ノズルブラシの先
端から水を噴流させるようにしたから、シヤワー
から放水されはんだ付けラインのコンベヤ等にた
たきつけられた水が微小な水滴となつた洗浄前の
被はんだ付け物まで反射飛散してそれに付着しよ
うとしても、その前に飛散水滴はブラシ上の噴流
面で吸収されるため、この飛散水滴が洗浄工程に
入る前の被はんだ付け物に付着するおそれを防止
でき、したがつてはんだ付け直後の被はんだ付け
物にシヤワーによる飛散水滴が付着することによ
る冷却作用によつてはんだ付け後のフラツクス残
渣が急冷されて汚濁点として固着するおそれを防
止でき、その後の洗浄工程においてフラツクス残
渣を効果的に洗い落とすことができ、腐蝕作用等
を有するフラツクス残渣の汚濁点を残すことがな
い。また水が常時供給されるブラシによつて被は
んだ付け物を処理的にこすり、フラツクス残渣を
強制的に除去することによる効果もある。
い洗浄ユニツトの直前に噴流水槽を設け、この噴
流水槽の上部開口周縁から被はんだ付け物の搬送
レベルより高いレベルまで可撓性を有する噴流ノ
ズルブラシを突設し、この噴流ノズルブラシの先
端から水を噴流させるようにしたから、シヤワー
から放水されはんだ付けラインのコンベヤ等にた
たきつけられた水が微小な水滴となつた洗浄前の
被はんだ付け物まで反射飛散してそれに付着しよ
うとしても、その前に飛散水滴はブラシ上の噴流
面で吸収されるため、この飛散水滴が洗浄工程に
入る前の被はんだ付け物に付着するおそれを防止
でき、したがつてはんだ付け直後の被はんだ付け
物にシヤワーによる飛散水滴が付着することによ
る冷却作用によつてはんだ付け後のフラツクス残
渣が急冷されて汚濁点として固着するおそれを防
止でき、その後の洗浄工程においてフラツクス残
渣を効果的に洗い落とすことができ、腐蝕作用等
を有するフラツクス残渣の汚濁点を残すことがな
い。また水が常時供給されるブラシによつて被は
んだ付け物を処理的にこすり、フラツクス残渣を
強制的に除去することによる効果もある。
第1図は本発明のはんだ付け装置の一実施例を
示す平面図、第2図は第1図の−線断面図で
ある。 1……コンベヤ、3……フラツクス付けユニツ
ト、5……予加熱ユニツト、6……はんだ付けユ
ニツト、7……洗浄ユニツト、21……シヤワ
ー、31……噴流水槽、32……噴流ノズルブラ
シ。
示す平面図、第2図は第1図の−線断面図で
ある。 1……コンベヤ、3……フラツクス付けユニツ
ト、5……予加熱ユニツト、6……はんだ付けユ
ニツト、7……洗浄ユニツト、21……シヤワ
ー、31……噴流水槽、32……噴流ノズルブラ
シ。
Claims (1)
- 1 被はんだ付け物を搬送するコンベヤに沿つ
て、フラツクス付けユニツトと、予加熱ユニツト
と、はんだ付けユニツトと、少なくともシヤワー
を設けてなる洗浄ユニツトとを順次設けてなるは
んだ付け装置において、上記はんだ付けユニツト
に最も近い洗浄ユニツトの直前に噴流水槽を設
け、この噴流水槽の上部開口周縁から被はんだ付
け物の搬送レベルより高いレベルまで可撓性を有
する噴流ノズルブラシを突設し、この噴流ノズル
ブラシの先端から水を噴流させることを特徴とす
るはんだ付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2917384A JPS60174253A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | はんだ付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2917384A JPS60174253A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | はんだ付け装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60174253A JPS60174253A (ja) | 1985-09-07 |
| JPH025506B2 true JPH025506B2 (ja) | 1990-02-02 |
Family
ID=12268841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2917384A Granted JPS60174253A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | はんだ付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60174253A (ja) |
-
1984
- 1984-02-17 JP JP2917384A patent/JPS60174253A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60174253A (ja) | 1985-09-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01130771A (ja) | 基板洗浄法及び基板洗浄装置 | |
| CN210115294U (zh) | 清洗装置 | |
| JPS60174253A (ja) | はんだ付け装置 | |
| JPS61249581A (ja) | 洗浄装置 | |
| KR102864939B1 (ko) | 부품 세척장치 | |
| JPH0521936A (ja) | 回路基板洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JPS60174254A (ja) | はんだ付けにおける洗浄方法 | |
| JPS5997761A (ja) | 自動はんだ付け装置 | |
| JP2656980B2 (ja) | ガラス基板洗浄方法 | |
| JPH07206138A (ja) | 搬送チェン洗浄装置 | |
| JPH0634444B2 (ja) | プリント基板の洗浄方法およびその装置 | |
| JPH0592158A (ja) | 塗装機の自動洗浄装置 | |
| JPS58158992A (ja) | 半田処理方法 | |
| JP2582530Y2 (ja) | 多槽浸漬式洗壜機 | |
| JPH05161887A (ja) | 洗びん機 | |
| JP2606150B2 (ja) | ウエット処理装置 | |
| JP3215366B2 (ja) | 電子部品洗浄装置 | |
| JPH0393240A (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
| JPS6328563Y2 (ja) | ||
| JPH058604Y2 (ja) | ||
| JPS62289368A (ja) | 爪洗浄装置 | |
| JP2665343B2 (ja) | 印刷回路板の洗浄方法 | |
| JP2949725B2 (ja) | 被塗物搬送装置用洗浄装置 | |
| JP2007109841A (ja) | リフロー半田付け装置の洗浄方法及びリフロー半田付け装置 | |
| KR0132530B1 (ko) | 캐치 컵 |