JPS5997761A - 自動はんだ付け装置 - Google Patents
自動はんだ付け装置Info
- Publication number
- JPS5997761A JPS5997761A JP20897682A JP20897682A JPS5997761A JP S5997761 A JPS5997761 A JP S5997761A JP 20897682 A JP20897682 A JP 20897682A JP 20897682 A JP20897682 A JP 20897682A JP S5997761 A JPS5997761 A JP S5997761A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- objects
- unit
- hot water
- flux
- soldering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K3/00—Tools, devices or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
- B23K3/06—Solder feeding devices; Solder melting pans
- B23K3/0646—Solder baths
- B23K3/0669—Solder baths with dipping means
- B23K3/0676—Conveyors therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Molten Solder (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、自動はんだ付は装置に関する。
一般的に、集積回路（ＩＣ）のリードフレームなどは、
銅を主成分とするが、鉄、ニッケルなどの成分を多く含
んでいて、はんだがのりにくい。
銅を主成分とするが、鉄、ニッケルなどの成分を多く含
んでいて、はんだがのりにくい。
そこでこのリードフレームにはんだ被膜を付着させるた
めの予備はんだ付はラインなどでは、はんだ付けにあた
って水溶性の塩素系のフラックスな用いることにより、
リードフレームの表面の金属酸化皮膜（サビ）を除去し
てリードフレームにはんだが付着しやすいようにしてい
る。ところが上記塩素系のフラックスがはんだ付は後も
リードフレームやＩＣチップなどに残ると、塩素の作用
によってリードフレームやＩＣチップなどが侵食される
おそれがある。
めの予備はんだ付はラインなどでは、はんだ付けにあた
って水溶性の塩素系のフラックスな用いることにより、
リードフレームの表面の金属酸化皮膜（サビ）を除去し
てリードフレームにはんだが付着しやすいようにしてい
る。ところが上記塩素系のフラックスがはんだ付は後も
リードフレームやＩＣチップなどに残ると、塩素の作用
によってリードフレームやＩＣチップなどが侵食される
おそれがある。
これに討し従来の自動はんだ付は装イ１公では、はんだ
付は後にＩＣなどに残留したフラックスを完全に除去し
ようとするものがな（、自動はんだ付はラインの改良が
望まれている。
付は後にＩＣなどに残留したフラックスを完全に除去し
ようとするものがな（、自動はんだ付はラインの改良が
望まれている。
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、自動は
んだ付はライン（でおいて被狂んだ付は物などに付着し
た水溶性のフラックスを完全に除去することのできろラ
イン構成を提供しようとするものである。
んだ付はライン（でおいて被狂んだ付は物などに付着し
た水溶性のフラックスを完全に除去することのできろラ
イン構成を提供しようとするものである。
本発明の自動はんだ付は装蓚の構成は、被はんだ付は物
を搬送するコンベヤに沿って、フラックス付はユニット
、予加熱ユニット、はんだ付はユニット、複数の温水洗
浄ユニット、乾燥手段を順次設けたことを特徴とするも
のである。
を搬送するコンベヤに沿って、フラックス付はユニット
、予加熱ユニット、はんだ付はユニット、複数の温水洗
浄ユニット、乾燥手段を順次設けたことを特徴とするも
のである。
以下、本発明を図示する実施例を参照して説明するＯ
才１図に図示するように、被はんだ付は物を搬送するコ
ンベヤ（１）に泊って、被はんだ付は物取入れ部（２）
、水溶性塩素系フラックスを収容した噴流式フラックス
槽からなるフラックス付はユニット（３）、エア吹出し
ノズルからなり余分なフラックスを除去するエアナイフ
（４）、ヒータからなる予加熱ユ♀ット（５）、噴流式
はんだ槽からなるはんだ付はユニット（６）、はぼ５０
°〜８０°の温水によって被はんだ付は物などの残留フ
ラックスを洗浄除去する複数の温水洗浄ユニット（７）
（８） （９） （ＩＱ＋、乾燥手段Ｕυ、被はんだ
付は物取出し部０ｚを屓次配列する。
ンベヤ（１）に泊って、被はんだ付は物取入れ部（２）
、水溶性塩素系フラックスを収容した噴流式フラックス
槽からなるフラックス付はユニット（３）、エア吹出し
ノズルからなり余分なフラックスを除去するエアナイフ
（４）、ヒータからなる予加熱ユ♀ット（５）、噴流式
はんだ槽からなるはんだ付はユニット（６）、はぼ５０
°〜８０°の温水によって被はんだ付は物などの残留フ
ラックスを洗浄除去する複数の温水洗浄ユニット（７）
（８） （９） （ＩＱ＋、乾燥手段Ｕυ、被はんだ
付は物取出し部０ｚを屓次配列する。
上記乾燥手段側は、２組の回転式エアブロ−ユニット０
３）と、ヒータからなる２組の加熱ユニットＩと、２組
の冷却ファンユニット（１５１とによって形成する。
３）と、ヒータからなる２組の加熱ユニットＩと、２組
の冷却ファンユニット（１５１とによって形成する。
上記コンベヤ（１）は、被はんだ付は物取入れ部伐）お
よび取出し部（１２を除いて、はぼ全周を７−ド叫で覆
い、フラックス、はんだから発生するガスが室内に発散
されるのを防止し、ガスは、ダクトαηから室外に排出
する。
よび取出し部（１２を除いて、はぼ全周を７−ド叫で覆
い、フラックス、はんだから発生するガスが室内に発散
されるのを防止し、ガスは、ダクトαηから室外に排出
する。
以上のコンベヤ（１） 、各ユニット、その他の部材は
、ステンレススチールで形成するか、あるいは耐酸塗料
を塗布しておく。
、ステンレススチールで形成するか、あるいは耐酸塗料
を塗布しておく。
また矛２図および矛３図に図示するように、温水洗浄ユ
ニット（７） （８） （９） Ｑｌ）は、コンベヤ（
１）の下側にエアバブリング温水水槽（イ）を投げると
ともに、コンベヤ（１）の上側に温水シャワーＣυを設
けることにより形成する。
ニット（７） （８） （９） Ｑｌ）は、コンベヤ（
１）の下側にエアバブリング温水水槽（イ）を投げると
ともに、コンベヤ（１）の上側に温水シャワーＣυを設
けることにより形成する。
エフバブリング温水水槽（４）は、外槽（２２１の内部
に設置し、底部にエア吹込みノズル（ハ）およびヒータ
（２５１（矛３図に示す）を設けてなり、上記ノズル（
ハ）に吹込□まれたエアは、ノズル（ハ）の上面開口か
ら無数の気泡となつ七上昇し、水面下の被はんだ付は物
などにぶつかる。このとき水槽（イ）内のヒータ（イ）
によって温められた温水（財）も気泡（支）とともに高
速の上昇流とたりて被はんだ付は物などに激しくぶつか
り、気泡（ハ）の撹乱作用などと相俟つ【、被はんだ付
は物な□どに付着している水溶性塩素系のフラックスを
有躬に洗い落すことができる。また温水シャワーＱ１１
は、たとえば図示するように２列のパイプの下側面の３
箇所に噴水孔を設けてなるものである。また温水は、エ
アバブリング温水水槽（２０からオーバーフローして外
槽（２′ＩＪに至り、さらにポンプ（５）およびパイプ
（ハ）などの手段により温水シャワーＩ２ｖの噴水孔か
ら噴出するようにしておく。
に設置し、底部にエア吹込みノズル（ハ）およびヒータ
（２５１（矛３図に示す）を設けてなり、上記ノズル（
ハ）に吹込□まれたエアは、ノズル（ハ）の上面開口か
ら無数の気泡となつ七上昇し、水面下の被はんだ付は物
などにぶつかる。このとき水槽（イ）内のヒータ（イ）
によって温められた温水（財）も気泡（支）とともに高
速の上昇流とたりて被はんだ付は物などに激しくぶつか
り、気泡（ハ）の撹乱作用などと相俟つ【、被はんだ付
は物な□どに付着している水溶性塩素系のフラックスを
有躬に洗い落すことができる。また温水シャワーＱ１１
は、たとえば図示するように２列のパイプの下側面の３
箇所に噴水孔を設けてなるものである。また温水は、エ
アバブリング温水水槽（２０からオーバーフローして外
槽（２′ＩＪに至り、さらにポンプ（５）およびパイプ
（ハ）などの手段により温水シャワーＩ２ｖの噴水孔か
ら噴出するようにしておく。
また矛３図に図示するように、コンベヤ（１）は、枠状
の搬送ホルダ頓と、この搬送ホルダ四の転輪（３０１を
支持する内周側エンドレスレール０υおよび外周側エン
ドレスレール０２１と、内周側エンドレスレールｃ１１
）に治って配設した搬送用エンドレスレール關とによっ
て形成し、搬送用エンドレスレール缶は、一対のガイド
レール（財）の間で移動するとともに、所定間隔ごとに
上方に搬送用ピンＣ（５１を突設してなり、このビン田
に嵌合したベアリング（至）でビンＣ３５１の移動を円
滑にし、またピン回は搬送ホルダ（２９の一側部から突
設した係合板（３力に上下動自在に挿入する。両側のエ
ンドレスレール０υｃ３３は、両側の取外し可能の防水
カバー（至）および防水シート０１によって覆う。
の搬送ホルダ頓と、この搬送ホルダ四の転輪（３０１を
支持する内周側エンドレスレール０υおよび外周側エン
ドレスレール０２１と、内周側エンドレスレールｃ１１
）に治って配設した搬送用エンドレスレール關とによっ
て形成し、搬送用エンドレスレール缶は、一対のガイド
レール（財）の間で移動するとともに、所定間隔ごとに
上方に搬送用ピンＣ（５１を突設してなり、このビン田
に嵌合したベアリング（至）でビンＣ３５１の移動を円
滑にし、またピン回は搬送ホルダ（２９の一側部から突
設した係合板（３力に上下動自在に挿入する。両側のエ
ンドレスレール０υｃ３３は、両側の取外し可能の防水
カバー（至）および防水シート０１によって覆う。
また、３１Ｆ４図に図示するように、回転式エアブロ−
ユニット住くは、槽にの内部において、中段部から上方
と下方とにそれぞれ４本ずつ支持棒０３を突設し、この
上下の支持棒（４３によって支持板（４４を介し上下の
回転ジヨイント（ハ）を支持し、この上下の回転ジヨイ
ント（ハ）によって、コンベヤ（１）を挾んで回転自在
に対向する上下の旋回パイプ（至）の回転中空軸（４７
）と上下のエフ供給パイプ（４８とを接続し、上下の旋
回パイプ（イ）Ｋ回転方向に対しやや斜め後方に向け【
エフノズル（４俤を突設したものである。この上下のエ
アノズル（４！Ｊは、エアを噴出しながらそのエアジェ
ツトの反作用によって旋回バイブ帥を回転させ、回転し
ながらエアジェツトによって搬送ホルダ翰や被はんだ付
は物などに付着している水滴を吹飛ばす。その回転方向
は上下で逆圧なるように設定する。槽（４２は、底部の
排水口（至）を除いて透明塩化ビニール板ｌ５１）など
で密閉する。８５２１は防水シートである。なおエア供
給パイプ（４８）と旋回パイプ（４６）の回転中空軸Ｃ
４ηとを一体化し、エア供給パ □イブ囮を強制回転さ
せるようにしてもよい。
ユニット住くは、槽にの内部において、中段部から上方
と下方とにそれぞれ４本ずつ支持棒０３を突設し、この
上下の支持棒（４３によって支持板（４４を介し上下の
回転ジヨイント（ハ）を支持し、この上下の回転ジヨイ
ント（ハ）によって、コンベヤ（１）を挾んで回転自在
に対向する上下の旋回パイプ（至）の回転中空軸（４７
）と上下のエフ供給パイプ（４８とを接続し、上下の旋
回パイプ（イ）Ｋ回転方向に対しやや斜め後方に向け【
エフノズル（４俤を突設したものである。この上下のエ
アノズル（４！Ｊは、エアを噴出しながらそのエアジェ
ツトの反作用によって旋回バイブ帥を回転させ、回転し
ながらエアジェツトによって搬送ホルダ翰や被はんだ付
は物などに付着している水滴を吹飛ばす。その回転方向
は上下で逆圧なるように設定する。槽（４２は、底部の
排水口（至）を除いて透明塩化ビニール板ｌ５１）など
で密閉する。８５２１は防水シートである。なおエア供
給パイプ（４８）と旋回パイプ（４６）の回転中空軸Ｃ
４ηとを一体化し、エア供給パ □イブ囮を強制回転さ
せるようにしてもよい。
そしてホルダ（２９によって支持された治具６ωにより
被はんだ付は物としてのＩＣを保持し、との■ Ｃのリ
ードフレームにフラックス盲ケユニット（３）□におい
て水溶性塩素系のフラックスを付着させ、エアナイフ（
４）において余分なフラックスを吹飛ばし、予加熱ユニ
ット（５）Ｋおい″ＣＩＣのり−ドフレームを温め、は
んだ付はユニット（６）姥おいてリードフレームにはん
だ被膜を付着させ、温水洗浄ユニット（７） （８）
（９） （１０において上側の温水シャワー（２刀か、
ら温水（財）をホルダ＠および治具６りに浴せるととも
に、下側のエアバブリング温水水槽−で気液混相上昇流
を治具６９およびＩＣに噴射して、ホルダ翰、治具５５
１．ＩＣに付着したフラックスを洗い落し、回転式エア
ブロ−ユニットａ３において上−および下側から噴射さ
れるエアによってホルダ囚、治具６５１、ＩＣに付着し
た水滴を吹飛ばし、加熱ユニットａでおいて熱乾燥し、
冷却ファンユニット（１５１において冷却し、最後に、
被はんだ付は物取出し部ａ２でホルダ（イ）から治具１
５５１を取外して取出す。
被はんだ付は物としてのＩＣを保持し、との■ Ｃのリ
ードフレームにフラックス盲ケユニット（３）□におい
て水溶性塩素系のフラックスを付着させ、エアナイフ（
４）において余分なフラックスを吹飛ばし、予加熱ユニ
ット（５）Ｋおい″ＣＩＣのり−ドフレームを温め、は
んだ付はユニット（６）姥おいてリードフレームにはん
だ被膜を付着させ、温水洗浄ユニット（７） （８）
（９） （１０において上側の温水シャワー（２刀か、
ら温水（財）をホルダ＠および治具６りに浴せるととも
に、下側のエアバブリング温水水槽−で気液混相上昇流
を治具６９およびＩＣに噴射して、ホルダ翰、治具５５
１．ＩＣに付着したフラックスを洗い落し、回転式エア
ブロ−ユニットａ３において上−および下側から噴射さ
れるエアによってホルダ囚、治具６５１、ＩＣに付着し
た水滴を吹飛ばし、加熱ユニットａでおいて熱乾燥し、
冷却ファンユニット（１５１において冷却し、最後に、
被はんだ付は物取出し部ａ２でホルダ（イ）から治具１
５５１を取外して取出す。
なお温水洗浄ユニット（７） （８） （９） （１１
には、超音波洗浄装置を組込むようにしてもよい。
には、超音波洗浄装置を組込むようにしてもよい。
本発明によれば、複数の温水洗浄ユニットをはんだ付は
ライン中に設けたから、被はんだ付は物などに付着して
いる水溶性のフラックスを温水によって完全に洗浄除去
できる。特に、水溶性のフラックスの種類によっては、
冷水に溶解しない物質に変化してしまうことがあるが、
このような物質も複数回の温水洗浄によって完全に除去
できる。
ライン中に設けたから、被はんだ付は物などに付着して
いる水溶性のフラックスを温水によって完全に洗浄除去
できる。特に、水溶性のフラックスの種類によっては、
冷水に溶解しない物質に変化してしまうことがあるが、
このような物質も複数回の温水洗浄によって完全に除去
できる。
また上記各温水洗浄ユニットを下側のエアバブリング温
水水槽と上側の温水シャワーとによって形成することに
より、気泡とともに上昇する液すなわち気液混相上昇流
を被はんだ付は物に衝突させて残留フラックスを効果的
に温水洗浄できるとともに、温水シャワーによってコン
ベヤなどに付着しているフラックスも同時に温水洗浄で
きる。
水水槽と上側の温水シャワーとによって形成することに
より、気泡とともに上昇する液すなわち気液混相上昇流
を被はんだ付は物に衝突させて残留フラックスを効果的
に温水洗浄できるとともに、温水シャワーによってコン
ベヤなどに付着しているフラックスも同時に温水洗浄で
きる。
図は本発明の一実施例に係るものであり、牙１図は自動
はんだ付は装置全体の平面図、牙２図は矛１図のＩ−Ｉ
線断面図、才３図は矛１図の１−１線断面図、矛４図は
才１図のＷ−４線断面図である。 （１）−＠コンベヤ、（３）・・フラックス付はユニッ
ト、（５）・・予加熱ユニット、（６）・・はんだ付は
ユニット、（７）（８） （９）（１１・・温水洗浄ユ
ニット、ａυ・・乾燥手段、■・畢エアバブリング温水
水槽、（２１）・・温水シャワー。
はんだ付は装置全体の平面図、牙２図は矛１図のＩ−Ｉ
線断面図、才３図は矛１図の１−１線断面図、矛４図は
才１図のＷ−４線断面図である。 （１）−＠コンベヤ、（３）・・フラックス付はユニッ
ト、（５）・・予加熱ユニット、（６）・・はんだ付は
ユニット、（７）（８） （９）（１１・・温水洗浄ユ
ニット、ａυ・・乾燥手段、■・畢エアバブリング温水
水槽、（２１）・・温水シャワー。
Claims (2)
- （１）被はんだ付は物を搬送するコンベヤに沿って、フ
ラックス付はユニット、予加熱ユニット、はんだ付はユ
ニット、複数の温水洗浄ユニット、乾燥手段を順次膜げ
たことを特徴とする自動はんだ付は装置。 - （２） 温水洗浄ユニットは、コンベヤの下側にエフ
バブリング温水水槽を設けるとともに、コンベヤの上側
に温水シャワーを設けることにより形成したことを特徴
とする特許請求の範囲、ｔ１項記載の自動はんだ付は装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20897682A JPS5997761A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 自動はんだ付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20897682A JPS5997761A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 自動はんだ付け装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5997761A true JPS5997761A (ja) | 1984-06-05 |
Family
ID=16565272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20897682A Pending JPS5997761A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 自動はんだ付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5997761A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6160356A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-28 | Nippon Denso Co Ltd | 車両用曇り除去装置 |
| JPS6188531A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Nec Corp | 集積回路装置の洗浄装置 |
| JPS6197362U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-23 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5077256A (ja) * | 1973-11-13 | 1975-06-24 | ||
| JPS5881555A (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-16 | Tamura Seisakusho Co Ltd | 自動はんだ付け装置 |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP20897682A patent/JPS5997761A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5077256A (ja) * | 1973-11-13 | 1975-06-24 | ||
| JPS5881555A (ja) * | 1981-11-06 | 1983-05-16 | Tamura Seisakusho Co Ltd | 自動はんだ付け装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6160356A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-28 | Nippon Denso Co Ltd | 車両用曇り除去装置 |
| JPS6188531A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Nec Corp | 集積回路装置の洗浄装置 |
| JPS6197362U (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-23 |
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