JPH0255486B2 - - Google Patents
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- JPH0255486B2 JPH0255486B2 JP33576787A JP33576787A JPH0255486B2 JP H0255486 B2 JPH0255486 B2 JP H0255486B2 JP 33576787 A JP33576787 A JP 33576787A JP 33576787 A JP33576787 A JP 33576787A JP H0255486 B2 JPH0255486 B2 JP H0255486B2
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- Furnace Details (AREA)
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、一室式の真空熱処理炉に関し、詳
しくは、鋼材等の被処理物を真空加熱した後、ガ
ス冷却を利用して熱処理する真空熱処理炉に関す
る。
しくは、鋼材等の被処理物を真空加熱した後、ガ
ス冷却を利用して熱処理する真空熱処理炉に関す
る。
〈従来の技術〉
従来のこの種の一室式のガス冷却を利用する真
空熱処理炉では、真空容器に減圧装置と冷却ガス
供給装置とが接続され、真空容器内に加熱室が配
設され、真空容器内の加熱室周囲に、供給された
冷却ガスを循環させる循環装置が配設されてい
る。
空熱処理炉では、真空容器に減圧装置と冷却ガス
供給装置とが接続され、真空容器内に加熱室が配
設され、真空容器内の加熱室周囲に、供給された
冷却ガスを循環させる循環装置が配設されてい
る。
そして、従来のこの種の真空熱処理炉では、ガ
ス冷却の方式の差により、つぎの2種類のタイプ
のものがある。
ス冷却の方式の差により、つぎの2種類のタイプ
のものがある。
(1) 1番目のタイプは、加熱室を略直方体形状と
し、前部に設けられた被処理物を出し入れする
内部扉の他に、加熱室の上壁と底壁とに冷却用
扉を設け、さらに、加熱室上方の真空容器内に
循環装置としての冷却フアンを設けるタイプで
ある。そしてこのタイプの被処理物の冷却時に
は、上下の冷却用扉を共に開放させるとともに
冷却フアンを作動させ、被処理物を冷却ガスの
上方から下方へ、あるいは下方から上方への一
方向だけの流れを利用して、被処理物を冷却し
ていた。
し、前部に設けられた被処理物を出し入れする
内部扉の他に、加熱室の上壁と底壁とに冷却用
扉を設け、さらに、加熱室上方の真空容器内に
循環装置としての冷却フアンを設けるタイプで
ある。そしてこのタイプの被処理物の冷却時に
は、上下の冷却用扉を共に開放させるとともに
冷却フアンを作動させ、被処理物を冷却ガスの
上方から下方へ、あるいは下方から上方への一
方向だけの流れを利用して、被処理物を冷却し
ていた。
(2) 2番目のタイプは、加熱室を前後に横置きと
した円筒形状とし、加熱室の前後壁に冷却用扉
(前壁の冷却用扉は被処理物の出し入れ用も兼
ねる)を設け、さらに、加熱室の内周面に周方
向に沿つて複数の冷却ガスを吹き出す吹き出し
ノズルを設け、これらの各吹出ノズルに冷却ガ
スの循環装置としてのブロアから延びるダクト
を接続するタイプである。そしてこのタイプの
被処理物の冷却時には、前後の冷却用扉を共に
開放させるとともにブロアを作動させ、全てあ
るいは所定の吹出ノズルから被処理物に冷却ガ
スを吹き付け、加熱室半径方向内方へ向かつた
後に加熱室前後方向へ向かう冷却ガスの流れを
利用し、被処理物を冷却していた。
した円筒形状とし、加熱室の前後壁に冷却用扉
(前壁の冷却用扉は被処理物の出し入れ用も兼
ねる)を設け、さらに、加熱室の内周面に周方
向に沿つて複数の冷却ガスを吹き出す吹き出し
ノズルを設け、これらの各吹出ノズルに冷却ガ
スの循環装置としてのブロアから延びるダクト
を接続するタイプである。そしてこのタイプの
被処理物の冷却時には、前後の冷却用扉を共に
開放させるとともにブロアを作動させ、全てあ
るいは所定の吹出ノズルから被処理物に冷却ガ
スを吹き付け、加熱室半径方向内方へ向かつた
後に加熱室前後方向へ向かう冷却ガスの流れを
利用し、被処理物を冷却していた。
〈発明が解決しようとする問題点〉
一番目のタイプの炉では、冷却ガスの上方から
下方へ、あるいは下方から上方への一方向だけの
流れを利用しており、被処理物が細長い棒状とし
ている場合には、上下方向に吊り下げるように
し、また、被処理物が薄い板状としている場合に
は、上下方向に立てるようにすれば、均一な焼入
れを行なうことができる。
下方へ、あるいは下方から上方への一方向だけの
流れを利用しており、被処理物が細長い棒状とし
ている場合には、上下方向に吊り下げるように
し、また、被処理物が薄い板状としている場合に
は、上下方向に立てるようにすれば、均一な焼入
れを行なうことができる。
しかし、被処理物を略球形状、略立方体、略直
方体等の厚肉大物被処理物とする場合には、冷却
ガスの上流側と下流側とに分かれる被処理物の上
部と下部との冷却速度が著しく異なり、被処理物
に大きな焼入れ歪が生じ易くなり、1番目のタイ
プの炉で熱処理するには不向きであつた。
方体等の厚肉大物被処理物とする場合には、冷却
ガスの上流側と下流側とに分かれる被処理物の上
部と下部との冷却速度が著しく異なり、被処理物
に大きな焼入れ歪が生じ易くなり、1番目のタイ
プの炉で熱処理するには不向きであつた。
なお、この欠点は、二段、三段目の段積みで熱
処理する場合にも同様であり、上段側と下段側と
の一方の冷却ガス下流側の被処理物の冷却速度が
遅くなり、その下流則の被処理物の焼入れが不充
分となつて、この1番目のタイプの炉で熱処理す
るのには下向きであつた。
処理する場合にも同様であり、上段側と下段側と
の一方の冷却ガス下流側の被処理物の冷却速度が
遅くなり、その下流則の被処理物の焼入れが不充
分となつて、この1番目のタイプの炉で熱処理す
るのには下向きであつた。
また、2番目のタイプの炉では、加熱室内周壁
の吹出ノズルを経て加熱室周壁から半径方向内方
に向かつて被処理物に当たつた後、加熱室の前後
に向かう冷却ガスの流れを利用しており、被処理
物が略球状、略立方体、略直方体等の厚肉大物被
処理物としている場合には、良好に焼入れを行な
うことができる。
の吹出ノズルを経て加熱室周壁から半径方向内方
に向かつて被処理物に当たつた後、加熱室の前後
に向かう冷却ガスの流れを利用しており、被処理
物が略球状、略立方体、略直方体等の厚肉大物被
処理物としている場合には、良好に焼入れを行な
うことができる。
しかし、このタイプの炉では、既述のように、
吹出ノズルから加熱室半径方向内方へ吹出した冷
却ガスが必ず最終的に加熱室前後方向に2手に分
かれて流れることから、被処理物に対して加熱室
前後方向の冷却ガスの流れが重なることが避けら
れない。そのため、細長い棒状の被処理物を熱処
理する場合には、炉内にいかなる態様でセツトし
ても、被処理物に弓状の焼入れ歪が生じ、2番目
のタイプの炉で熱処理するには不向きであつた。
吹出ノズルから加熱室半径方向内方へ吹出した冷
却ガスが必ず最終的に加熱室前後方向に2手に分
かれて流れることから、被処理物に対して加熱室
前後方向の冷却ガスの流れが重なることが避けら
れない。そのため、細長い棒状の被処理物を熱処
理する場合には、炉内にいかなる態様でセツトし
ても、被処理物に弓状の焼入れ歪が生じ、2番目
のタイプの炉で熱処理するには不向きであつた。
特に、近年に至つては、ターボフアンの利用や
加圧ガス冷却の発達により、より速いガス冷却速
度が得られるようになり、冷却速度が増々速くな
つているため、上述の焼入れ歪の問題が生じ易く
なつている。
加圧ガス冷却の発達により、より速いガス冷却速
度が得られるようになり、冷却速度が増々速くな
つているため、上述の焼入れ歪の問題が生じ易く
なつている。
この発明は、上述の問題を解決できるもので、
被処理物の形状・大きさ等が変わつても、冷却ガ
スの流れを適宜変更することができ、被処理物を
均一な速度で冷却することができて、焼入れ歪の
発生を極力抑えて熱処理することができる真空熱
処理炉を提供することを目的する。
被処理物の形状・大きさ等が変わつても、冷却ガ
スの流れを適宜変更することができ、被処理物を
均一な速度で冷却することができて、焼入れ歪の
発生を極力抑えて熱処理することができる真空熱
処理炉を提供することを目的する。
〈問題点を解決するための手段〉
この発明に係る真空熱処理炉は、真空容器に減
圧装置と冷却ガス供給装置とが接続され、真空容
器内には、加熱室と、加熱室周囲の所定位置に配
置されて、供給される冷却ガスを真空容器内で循
環させる循環装置とが配設されている真空熱処理
炉であつて、 加熱室が略直方体形状とし、 循環装置の冷却ガス吐出側には、それぞれ独立
して開閉可能なダンパを備えるとともに、それぞ
れ先端に吹出ノズルを備える4つのダクトが接続
され、 各吹出ノズルが、それぞれ加熱室における上
壁、底壁及び左右の両側壁に対して、間隙を有し
かつ対向して配置され、 加熱室における吹出ノズルに対向する上壁、底
壁及ぴ左右の両側壁の部位と、前壁及び後壁の部
位とには、それぞれ独立して開閉可能な冷却用扉
が設けられていることを特徴とする。
圧装置と冷却ガス供給装置とが接続され、真空容
器内には、加熱室と、加熱室周囲の所定位置に配
置されて、供給される冷却ガスを真空容器内で循
環させる循環装置とが配設されている真空熱処理
炉であつて、 加熱室が略直方体形状とし、 循環装置の冷却ガス吐出側には、それぞれ独立
して開閉可能なダンパを備えるとともに、それぞ
れ先端に吹出ノズルを備える4つのダクトが接続
され、 各吹出ノズルが、それぞれ加熱室における上
壁、底壁及び左右の両側壁に対して、間隙を有し
かつ対向して配置され、 加熱室における吹出ノズルに対向する上壁、底
壁及ぴ左右の両側壁の部位と、前壁及び後壁の部
位とには、それぞれ独立して開閉可能な冷却用扉
が設けられていることを特徴とする。
〈発明の作用・効果〉
この発明に係る真空熱処理炉では、被処理物の
真空加熱処理後、冷却ガス供給装置からの冷却ガ
スを真空容器内に供給して、加熱室の上壁、底壁
及び左右の両側壁の任意の冷却用扉を開放すると
ともに、加熱室の前後壁の冷却用扉も任意に開放
する。と同時に循環装置を作動させて、所定のダ
ンパを開放させれば、冷却ガスがダクトを介して
所定の吹出ノズルから吹き出され、所定の加熱室
の壁部から加熱室内にその冷却ガスが流入され
る。その後流入された冷却ガスは、被処理物を冷
却した後、冷却ガスの流入なく開放されている加
熱室の壁部から加熱室外へ流出され、循環装置に
吸気されて再び循環する。
真空加熱処理後、冷却ガス供給装置からの冷却ガ
スを真空容器内に供給して、加熱室の上壁、底壁
及び左右の両側壁の任意の冷却用扉を開放すると
ともに、加熱室の前後壁の冷却用扉も任意に開放
する。と同時に循環装置を作動させて、所定のダ
ンパを開放させれば、冷却ガスがダクトを介して
所定の吹出ノズルから吹き出され、所定の加熱室
の壁部から加熱室内にその冷却ガスが流入され
る。その後流入された冷却ガスは、被処理物を冷
却した後、冷却ガスの流入なく開放されている加
熱室の壁部から加熱室外へ流出され、循環装置に
吸気されて再び循環する。
すなわち、この発明に係る真空熱処理炉では、
加熱室における上壁・底壁及び左右の側壁のそれ
ぞれの冷却用扉を任意に開閉し、かつ、ダンパを
操作してそれらの壁部に対向する吹出ノズルから
任意に冷却ガスを吹き出させれば、加熱室内の上
方・下方・左方・右方の任意の方向から冷却ガス
を流入させることができる。そして、加熱室の他
の冷却用扉を開放しておけば、流入した冷却ガス
を流入方向以外の加熱室の前方・後方・上方・下
方・左方・及び右方の任意の方向に流出させるこ
とができる。
加熱室における上壁・底壁及び左右の側壁のそれ
ぞれの冷却用扉を任意に開閉し、かつ、ダンパを
操作してそれらの壁部に対向する吹出ノズルから
任意に冷却ガスを吹き出させれば、加熱室内の上
方・下方・左方・右方の任意の方向から冷却ガス
を流入させることができる。そして、加熱室の他
の冷却用扉を開放しておけば、流入した冷却ガス
を流入方向以外の加熱室の前方・後方・上方・下
方・左方・及び右方の任意の方向に流出させるこ
とができる。
したがつて、この発明に係る真空熱処理炉で
は、冷却ガスの流れを適宜変更することができる
ため、被処理物の形状・大きさ等が変わることと
なつても、被処理物に対応した冷却ガスの流れで
冷却でき、被処理物を均一な速度で冷却できて、
焼入れ歪の発生を極力抑えることができる。
は、冷却ガスの流れを適宜変更することができる
ため、被処理物の形状・大きさ等が変わることと
なつても、被処理物に対応した冷却ガスの流れで
冷却でき、被処理物を均一な速度で冷却できて、
焼入れ歪の発生を極力抑えることができる。
〈実施例〉
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
明する。
実施例の真空熱処理炉Fは、第1〜3図に示す
ように、真空容器1に公知の減圧装置2と窒素ガ
ス等の冷却ガス供給装置3とが接続され、真空容
器1内に加熱室4が配設されている。真空容器1
の前部は内部に被処理物Mを装入する装入扉1A
としている。
ように、真空容器1に公知の減圧装置2と窒素ガ
ス等の冷却ガス供給装置3とが接続され、真空容
器1内に加熱室4が配設されている。真空容器1
の前部は内部に被処理物Mを装入する装入扉1A
としている。
加熱室4は、略直方体形状とし、図示しない公
知の発熱体を具備し、公知の断熱材で囲つて構成
されている。加熱室4は、上壁4A、底壁4B、
左側壁4C、右側壁4D、前壁4E、及び後壁4
Fに、それぞれ被処理物Mを冷却する際選択して
開放される冷却用扉8A,8B,8C,8D,8
E,8Fを備えている。各冷却用扉8A〜8F
は、真空容器1外に配置される図示しないエアシ
リンダ等を利用した開閉装置により、それぞれ独
立して開閉可能としている。なお、前壁4Eの冷
却用扉8Eは、被処理物M装入用の機能を兼ねる
こととなる。また、4aは、被処理物Mの架台で
ある。
知の発熱体を具備し、公知の断熱材で囲つて構成
されている。加熱室4は、上壁4A、底壁4B、
左側壁4C、右側壁4D、前壁4E、及び後壁4
Fに、それぞれ被処理物Mを冷却する際選択して
開放される冷却用扉8A,8B,8C,8D,8
E,8Fを備えている。各冷却用扉8A〜8F
は、真空容器1外に配置される図示しないエアシ
リンダ等を利用した開閉装置により、それぞれ独
立して開閉可能としている。なお、前壁4Eの冷
却用扉8Eは、被処理物M装入用の機能を兼ねる
こととなる。また、4aは、被処理物Mの架台で
ある。
加熱室4後方には、冷却ガス供給装置3によつ
て供給される冷却ガスを真空容器1内で循環させ
るフアンやブロア等を備えた循環装置5が配設さ
れている。この循環装置5の吸気側は、第1図に
示すように、加熱室4後方の一箇所としている
が、吐出側は、第3図に示すように、それぞれダ
クト6A,6B,6C及び6Dに接続されて4つ
に分岐されている。なお、この循環装置5は、循
環する冷却ガスを冷却する図示しない公知の冷却
手段も具備している。
て供給される冷却ガスを真空容器1内で循環させ
るフアンやブロア等を備えた循環装置5が配設さ
れている。この循環装置5の吸気側は、第1図に
示すように、加熱室4後方の一箇所としている
が、吐出側は、第3図に示すように、それぞれダ
クト6A,6B,6C及び6Dに接続されて4つ
に分岐されている。なお、この循環装置5は、循
環する冷却ガスを冷却する図示しない公知の冷却
手段も具備している。
各ダクト6A,6B,6C及び6Dは、第3図
に示すように、元部側にダンパ7A,7B,7C
及び7Dを備えている。各ダクト7A〜7Dは、
真空容器1外に配置される図示しないエアエシリ
ンダ等を利用した開閉装置により、それぞれ独立
して開閉可能としている。
に示すように、元部側にダンパ7A,7B,7C
及び7Dを備えている。各ダクト7A〜7Dは、
真空容器1外に配置される図示しないエアエシリ
ンダ等を利用した開閉装置により、それぞれ独立
して開閉可能としている。
また、各ダクト6A〜6Dの先端側は、第1,
2図に示すように、加熱室4の上壁4A、底壁4
B、及び左右側壁4C,4Dにおける冷却用扉8
A〜8Dの開放部位まで延びている。そして、そ
れぞれの先端部位には、各壁部4A〜4Dに対し
て間隙を有しかつ対向して配置され、複数の吐出
孔を備える吹出ノズル9A,9B,9C及び9D
が配置されている。
2図に示すように、加熱室4の上壁4A、底壁4
B、及び左右側壁4C,4Dにおける冷却用扉8
A〜8Dの開放部位まで延びている。そして、そ
れぞれの先端部位には、各壁部4A〜4Dに対し
て間隙を有しかつ対向して配置され、複数の吐出
孔を備える吹出ノズル9A,9B,9C及び9D
が配置されている。
つぎに、この実施例の炉Fの使用態様について
説明する。
説明する。
まず、薄い板状の被処理物M1を熱処理する場
合について述べる。ちなみに、被処理物M1が薄
い板状とする場合には、処理量を考慮すると、複
数の被処理物M1を立てて上下方向で冷却ガスを
流すことが好ましい。
合について述べる。ちなみに、被処理物M1が薄
い板状とする場合には、処理量を考慮すると、複
数の被処理物M1を立てて上下方向で冷却ガスを
流すことが好ましい。
まず、装入扉1Aと加熱室前壁4Eの冷却用扉
8Eとを開放して加熱室4内に複数の被処理物M
1を立てて装入し、装入扉1Aと冷却用扉8Eと
を閉鎖する。
8Eとを開放して加熱室4内に複数の被処理物M
1を立てて装入し、装入扉1Aと冷却用扉8Eと
を閉鎖する。
そして、減圧装置2を作動させて、真空容器1
内を真空状態とし、被処理物M1を加熱する。
内を真空状態とし、被処理物M1を加熱する。
被処理物M1を所定温度で所定時間維持したな
らば、冷却ガス供給装置3を作動させ、真空容器
1内を冷却ガスの加圧状態とする。と同時に、加
熱室上・底壁4A,4Bの冷却用扉8A,8B
と、上壁4Aに通じるダクト6Aのダンパ7Aと
を開放し、循環装置5を作動させる。
らば、冷却ガス供給装置3を作動させ、真空容器
1内を冷却ガスの加圧状態とする。と同時に、加
熱室上・底壁4A,4Bの冷却用扉8A,8B
と、上壁4Aに通じるダクト6Aのダンパ7Aと
を開放し、循環装置5を作動させる。
すると、冷却ガスは、吹出ノズル9Aを経て加
熱室上壁4Aから流入して底壁4Bから流出し、
その後、循環装置4内へ吸入され、ダクト6Aを
経て再び吹出ノズル9Aから加熱室4へ上方から
流入して循環することとなる(第1〜4図参照)。
熱室上壁4Aから流入して底壁4Bから流出し、
その後、循環装置4内へ吸入され、ダクト6Aを
経て再び吹出ノズル9Aから加熱室4へ上方から
流入して循環することとなる(第1〜4図参照)。
その後、ダンパ7Aを閉じ、底壁4Bに通ずる
ダクト6Bのダンパ7Bを開放する。
ダクト6Bのダンパ7Bを開放する。
すると、冷却ガスは、吹出ノズル9Bを経て加
熱室底壁から流入して上壁4Aから流出し、その
後、循環装置5を経て循環することとなる(第5
図参照)。
熱室底壁から流入して上壁4Aから流出し、その
後、循環装置5を経て循環することとなる(第5
図参照)。
そして、これらの加熱室4内を上方から下方へ
又は下方から上方へ流れる冷却ガスにより、薄い
板状の被処理物M1が各部を均一な冷却速度で冷
却され、焼入れ歪の発生を低減されて焼入れされ
ることとなる。
又は下方から上方へ流れる冷却ガスにより、薄い
板状の被処理物M1が各部を均一な冷却速度で冷
却され、焼入れ歪の発生を低減されて焼入れされ
ることとなる。
その後、焼入れ処理がなされたならば、循環装
置5を停止させ、装入扉1A及び加熱室前壁4E
の冷却用扉8Eを開放し、被処理物M1を取出せ
ばよい。
置5を停止させ、装入扉1A及び加熱室前壁4E
の冷却用扉8Eを開放し、被処理物M1を取出せ
ばよい。
つぎに、二・三段等の段積みで被処理物M2を
熱処理する場合を説明すると、冷却時、加熱室左
右側壁4C,4Dの冷却用扉8C,8Dを共に開
放し、さらに、左側壁4Cに通じるダクト6Cの
ダンパ7Cと、右側壁4Dに通じるダンパ6Dの
ダンパ7Dとを順次交互に開放し、循環装置5を
作動させればよい。
熱処理する場合を説明すると、冷却時、加熱室左
右側壁4C,4Dの冷却用扉8C,8Dを共に開
放し、さらに、左側壁4Cに通じるダクト6Cの
ダンパ7Cと、右側壁4Dに通じるダンパ6Dの
ダンパ7Dとを順次交互に開放し、循環装置5を
作動させればよい。
すると、冷却ガスは、第6,7図に示すよう
に、吹出ノズル9Cを経て左側壁4Cから加熱室
4へ流入して右側壁4Dから流出して循環した
り、吹出ノズル9Dを経て右側壁4Dから加熱室
4へ流入して左側壁4Cから流出して循環する。
に、吹出ノズル9Cを経て左側壁4Cから加熱室
4へ流入して右側壁4Dから流出して循環した
り、吹出ノズル9Dを経て右側壁4Dから加熱室
4へ流入して左側壁4Cから流出して循環する。
そのため、段積みの被処理物M2の各々を均一
に冷却することができ、焼入れ歪の発生を押えて
被処理物M2の焼入れが行なえる。
に冷却することができ、焼入れ歪の発生を押えて
被処理物M2の焼入れが行なえる。
さらに、球状板の厚肉大物の被処理物M3を熱
処理する場合には、冷却時、加熱室4の各壁4A
〜4Fと、各ダクト6A〜6Dの各ダンパ7Aへ
7Dとを全て開放して循環装置5を作動させれば
よい。
処理する場合には、冷却時、加熱室4の各壁4A
〜4Fと、各ダクト6A〜6Dの各ダンパ7Aへ
7Dとを全て開放して循環装置5を作動させれば
よい。
すると、冷却ガスは、第10,11図に示すよ
うに、各吹出ノズル9A〜9Dを経て加熱室4全
周の上壁4A・底壁4B・及び左右側壁4C,4
Dから流入し、前後壁4E,4Fから流出して循
環する。
うに、各吹出ノズル9A〜9Dを経て加熱室4全
周の上壁4A・底壁4B・及び左右側壁4C,4
Dから流入し、前後壁4E,4Fから流出して循
環する。
そのため、従来の技術の欄で述べた2番目のタ
イプの炉と同様となつて、厚肉大物被処理物M3
を均一に冷却することができ、焼入れ歪の発生を
抑えて被処理物M3の焼入れが行える。
イプの炉と同様となつて、厚肉大物被処理物M3
を均一に冷却することができ、焼入れ歪の発生を
抑えて被処理物M3の焼入れが行える。
さらに、所望に応じて、加熱室前後壁4E,4
Fを除いた各壁4A〜4Dを開放した状態で、
上・底壁4A,4Bに通じるダクト6A,6Bの
ダクト7A,7Bを開放させたり、左右側壁4
C,4Dを通じるダクト6C,6Dのダンパ7
C,7Dを開放させ、循環装置5を作動させても
よい。
Fを除いた各壁4A〜4Dを開放した状態で、
上・底壁4A,4Bに通じるダクト6A,6Bの
ダクト7A,7Bを開放させたり、左右側壁4
C,4Dを通じるダクト6C,6Dのダンパ7
C,7Dを開放させ、循環装置5を作動させても
よい。
このような態様とすると、冷却ガスは、第8,
9図に示すように、加熱室4内へ上下方向から流
入して左右方向へ流出したり、あるいは、加熱室
4内へ左右方向から流入して上下方向へ流出する
こととなる。
9図に示すように、加熱室4内へ上下方向から流
入して左右方向へ流出したり、あるいは、加熱室
4内へ左右方向から流入して上下方向へ流出する
こととなる。
したがつて、実施例の真空熱処理炉Fでは、冷
却用扉8A〜8Fやダンパ7A〜7Dを操作し、
冷却時における加熱室4内の冷却ガスの流れを上
下方向・左右方向・前後方向等を組合わせた第4
〜10図に示す7つの基本形の他、さらに種々の
流れを選択することができる。
却用扉8A〜8Fやダンパ7A〜7Dを操作し、
冷却時における加熱室4内の冷却ガスの流れを上
下方向・左右方向・前後方向等を組合わせた第4
〜10図に示す7つの基本形の他、さらに種々の
流れを選択することができる。
そのため、被処理物の形状・大きさ等が変わる
こととなつても、冷却ガスの流れを適宜変更する
ことができるため、被処理物に対応した冷却ガス
の流れで冷却でき、既述の発明の作用・効果の欄
で述べたと同様な効果を奏する。
こととなつても、冷却ガスの流れを適宜変更する
ことができるため、被処理物に対応した冷却ガス
の流れで冷却でき、既述の発明の作用・効果の欄
で述べたと同様な効果を奏する。
なお、実施例の炉Fにおいて、各冷却用扉8A
〜8Fやダンパ7A〜7Dの動作をコントローラ
等で調整できるようにし、例えば、第4〜10図
に示す7つの基本形を時間を含めて自動的に構成
できるようにして、同一あるいは異種の被処理物
Mを種々のパターンによる自動操作で真空熱処理
することもできる。
〜8Fやダンパ7A〜7Dの動作をコントローラ
等で調整できるようにし、例えば、第4〜10図
に示す7つの基本形を時間を含めて自動的に構成
できるようにして、同一あるいは異種の被処理物
Mを種々のパターンによる自動操作で真空熱処理
することもできる。
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図、第
2図は同実施例における第1図の−部位を示
す断面図、第3図は同実施例における第1図の
−部位を示す断面図、第4図・第5図・第6
図・第7図・第8図・第9図・第10図はそれぞ
れ冷却時の冷却ガスの流れを種々変更させた際の
概略断面図、第11図は同実施例における第10
図の−部位を示す概略断面図である。 1……真空容器、2……減圧装置、3……冷却
ガス供給装置、4……加熱室、4A……上壁、4
B……底壁、4C……左側壁、4D……右側壁、
4E……前壁、4F……後壁、5……循環装置、
6A,6B,6C,6D……ダクト、7A,7
B,7C,7D……ダンパ、8A,8B,8C,
8D,8E,8F……冷却用扉、9A,9B,9
C,9D……吹出ノズル、F……真空熱処理炉、
M,M1,M2,M3……被処理物。
2図は同実施例における第1図の−部位を示
す断面図、第3図は同実施例における第1図の
−部位を示す断面図、第4図・第5図・第6
図・第7図・第8図・第9図・第10図はそれぞ
れ冷却時の冷却ガスの流れを種々変更させた際の
概略断面図、第11図は同実施例における第10
図の−部位を示す概略断面図である。 1……真空容器、2……減圧装置、3……冷却
ガス供給装置、4……加熱室、4A……上壁、4
B……底壁、4C……左側壁、4D……右側壁、
4E……前壁、4F……後壁、5……循環装置、
6A,6B,6C,6D……ダクト、7A,7
B,7C,7D……ダンパ、8A,8B,8C,
8D,8E,8F……冷却用扉、9A,9B,9
C,9D……吹出ノズル、F……真空熱処理炉、
M,M1,M2,M3……被処理物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 真空容器に減圧装置と冷却ガス供給装置とが
接続され、前記真空容器内には、加熱室と、該加
熱室周囲の所定位置に配置されて、供給される冷
却ガスを前記真空容器内で循環させる循環装置と
が配設されている真空熱処理炉であつて、 前記加熱室が略直方体形状とし、 前記循環装置の冷却ガス吐出側には、それぞれ
独立して開閉可能なダンパを備えるとともに、そ
れぞれ先端に吹出ノズルを備える4つのダクトが
接続され、 前記各吹出ノズルが、それぞれ前記加熱室にお
ける上壁、底壁及び左右の両側壁に対して、間隙
を有しかつ対向して配置され、 前記加熱室における前記吹出ノズルに対向する
上壁、底壁及び左右の両側壁の部位と、前壁及び
後壁の部位とには、それぞれ独立して開閉可能な
冷却用扉が設けられている、 ことを特徴とする真空熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33576787A JPH01176023A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 真空熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33576787A JPH01176023A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 真空熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01176023A JPH01176023A (ja) | 1989-07-12 |
| JPH0255486B2 true JPH0255486B2 (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=18292230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33576787A Granted JPH01176023A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 真空熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01176023A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0640049A (ja) * | 1992-03-02 | 1994-02-15 | Seikosha Co Ltd | 印字ワイヤのロウ付け構造およびそのロウ付け方法 |
| EP1643199B1 (en) * | 2003-06-27 | 2010-05-05 | IHI Corporation | Gas cooling type vacuum heat treating furnace and cooling gas direction switching device |
| US7771193B2 (en) | 2004-03-18 | 2010-08-10 | Ihi Corporation | Double-chamber type heat-treating furnace |
| JP6903205B2 (ja) * | 2020-09-09 | 2021-07-14 | 中外炉工業株式会社 | バッチ式熱処理炉 |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP33576787A patent/JPH01176023A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01176023A (ja) | 1989-07-12 |
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