JPH0256544B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0256544B2 JPH0256544B2 JP59166107A JP16610784A JPH0256544B2 JP H0256544 B2 JPH0256544 B2 JP H0256544B2 JP 59166107 A JP59166107 A JP 59166107A JP 16610784 A JP16610784 A JP 16610784A JP H0256544 B2 JPH0256544 B2 JP H0256544B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- vacuum processing
- valve body
- hole
- gate valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K5/00—Plug valves; Taps or cocks comprising only cut-off apparatus having at least one of the sealing faces shaped as a more or less complete surface of a solid of revolution, the opening and closing movement being predominantly rotary
- F16K5/04—Plug valves; Taps or cocks comprising only cut-off apparatus having at least one of the sealing faces shaped as a more or less complete surface of a solid of revolution, the opening and closing movement being predominantly rotary with plugs having cylindrical surfaces; Packings therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Taps Or Cocks (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は仕切弁に係り、特に複数の真空処理室
間の気密を確保するための仕切弁に関する。
間の気密を確保するための仕切弁に関する。
第５図は従来の真空処理装置を示したもので、
入口側ロードロツク室１と出口側ロードロツク室
２との間に複数の真空処理室３，３…が設けられ
ており、各ロードロツク室１，２と真空処理室３
との間にはゲート弁４が、各真空処理室３の間に
は仕切弁５がそれぞれ介設されて各室を仕切つて
いる。
入口側ロードロツク室１と出口側ロードロツク室
２との間に複数の真空処理室３，３…が設けられ
ており、各ロードロツク室１，２と真空処理室３
との間にはゲート弁４が、各真空処理室３の間に
は仕切弁５がそれぞれ介設されて各室を仕切つて
いる。
このような真空処理装置においては、被処理物
を入口側ロードロツク室１に挿入して大気圧から
真空排気した後、ゲート弁４を開いて被処理物を
真空処理室３に順次送り、各真空処理室３におい
てスパツタリング、エツチングあるいは熱処理等
種々の真空処理が行なわれる。
を入口側ロードロツク室１に挿入して大気圧から
真空排気した後、ゲート弁４を開いて被処理物を
真空処理室３に順次送り、各真空処理室３におい
てスパツタリング、エツチングあるいは熱処理等
種々の真空処理が行なわれる。
そして、真空処理が終了した被処理物は、ゲー
ト弁４を通つて出口側ロードロツク室２に送ら
れ、ゲート弁４を閉じて出口側ロードロツク室２
を大気圧に戻した後取出される。
ト弁４を通つて出口側ロードロツク室２に送ら
れ、ゲート弁４を閉じて出口側ロードロツク室２
を大気圧に戻した後取出される。
第６図はこのような真空処理装置に適用される
ゲート弁４を示したもので、ケーシング６の対向
する側面には、被処理物を通すための開口７，７
が設けられ、ケーシング６の内部には、上記各開
口７，７を開閉する２つの弁体８，８が配置され
ており、各弁体８，８の間にリンク機構９および
スプリング１０が介設されている。この弁体８は
ケーシング６の外部に設けられたエアシリンダ１
１のシヤフト１２により上下動自在とされてお
り、弁体８が上昇したときに弁体８，８がスプリ
ング９の力に抗して離れ、開口７，７を閉塞する
ようになされている。
ゲート弁４を示したもので、ケーシング６の対向
する側面には、被処理物を通すための開口７，７
が設けられ、ケーシング６の内部には、上記各開
口７，７を開閉する２つの弁体８，８が配置され
ており、各弁体８，８の間にリンク機構９および
スプリング１０が介設されている。この弁体８は
ケーシング６の外部に設けられたエアシリンダ１
１のシヤフト１２により上下動自在とされてお
り、弁体８が上昇したときに弁体８，８がスプリ
ング９の力に抗して離れ、開口７，７を閉塞する
ようになされている。
従来は、このようなゲート弁４が仕切弁５とし
ても用いられており、ゲート弁４は大気と真空と
の気密を保つ必要上、強度あるいは気密性が重要
となり、構造が複雑かつ大型化してしまうため、
真空間の気密を保つ仕切弁の構造の簡素化、小型
化が望まれていた。
ても用いられており、ゲート弁４は大気と真空と
の気密を保つ必要上、強度あるいは気密性が重要
となり、構造が複雑かつ大型化してしまうため、
真空間の気密を保つ仕切弁の構造の簡素化、小型
化が望まれていた。
本発明は上記した点に鑑みてなされたもので、
構造が簡単でありかつ小型化を図ることができ、
しかも、隣接する前記真空処理室間のガスの流通
を遮断し、かつ、万一弁座等に損傷がある場合に
おいても前記ガスの流通を遮断できる仕切弁を提
供することを目的とするものである。
構造が簡単でありかつ小型化を図ることができ、
しかも、隣接する前記真空処理室間のガスの流通
を遮断し、かつ、万一弁座等に損傷がある場合に
おいても前記ガスの流通を遮断できる仕切弁を提
供することを目的とするものである。
上記目的を達成するため本発明に係る仕切弁
は、複数の真空処理室を仕切る仕切弁において、
仕切壁と仕切壁に形成された真直な円孔の一部に
よつて構成された弁座と、この弁座内に組込まれ
た直径方向に貫通し、かつ軸方向の開口長さが前
記真空処理室のほぼ上下方向の高さの全域にわた
る弁孔が設けられた円柱状の弁体とを有し、さら
に前記弁体の中心には軸線方向に沿つて上下に貫
通して外部と連通する連通孔が設けられたことを
その特徴とするものである。
は、複数の真空処理室を仕切る仕切弁において、
仕切壁と仕切壁に形成された真直な円孔の一部に
よつて構成された弁座と、この弁座内に組込まれ
た直径方向に貫通し、かつ軸方向の開口長さが前
記真空処理室のほぼ上下方向の高さの全域にわた
る弁孔が設けられた円柱状の弁体とを有し、さら
に前記弁体の中心には軸線方向に沿つて上下に貫
通して外部と連通する連通孔が設けられたことを
その特徴とするものである。
以下、本発明の実施例を第１図乃至第４図を参
照して説明する。
照して説明する。
本実施例においては、各真空処理室３，３の間
に円柱状の弁体１３が、真空処理室３を貫通して
設けられており、この弁体１３には直径方向に貫
通して被処理物を通す長方形状の弁孔１４が設け
らるとともに、円心軸上を貫通して上記弁孔１４
と外部とを連通する連通口１５，１５が設けられ
ている。この弁体１３の直径方向対向位置の外周
面には、弁体１３に回転自在に密接する弁座をそ
の一部として備えている仕切壁１６が設けられて
いる。
に円柱状の弁体１３が、真空処理室３を貫通して
設けられており、この弁体１３には直径方向に貫
通して被処理物を通す長方形状の弁孔１４が設け
らるとともに、円心軸上を貫通して上記弁孔１４
と外部とを連通する連通口１５，１５が設けられ
ている。この弁体１３の直径方向対向位置の外周
面には、弁体１３に回転自在に密接する弁座をそ
の一部として備えている仕切壁１６が設けられて
いる。
本実施例の場合、真空処理室３の内部で被処理
物の真空処理を行なうときは、第１図および第３
図に示すように、弁体１３の弁孔１４が仕切壁１
６により閉塞されるように弁体１３を回転する。
このとき、連通孔１５から図示しない真空排気装
置により弁孔１４の内部を真空排気する。したが
つて、各真空処理室３，３から弁体１３と仕切壁
１６との間を通つて弁孔１４の内部に侵入する不
活性ガス等が排気されてしまい、各真空処理室
３，３間を行き交うことを防止することができ
る。また、連通孔１５から図示しないガス導入装
置により、各真空処理室３，３に漏れても影響の
ない例えばArガス等を導入しておくようにして
も、内部ガスの侵入を防止することができる。
物の真空処理を行なうときは、第１図および第３
図に示すように、弁体１３の弁孔１４が仕切壁１
６により閉塞されるように弁体１３を回転する。
このとき、連通孔１５から図示しない真空排気装
置により弁孔１４の内部を真空排気する。したが
つて、各真空処理室３，３から弁体１３と仕切壁
１６との間を通つて弁孔１４の内部に侵入する不
活性ガス等が排気されてしまい、各真空処理室
３，３間を行き交うことを防止することができ
る。また、連通孔１５から図示しないガス導入装
置により、各真空処理室３，３に漏れても影響の
ない例えばArガス等を導入しておくようにして
も、内部ガスの侵入を防止することができる。
そして、１つの真空処理行程が終了したら、弁
体１３を第２図および第４図に示すように90゜回
転させて、弁孔１４を各真空処理室３，３に連通
させるようになされ、図示しない搬送装置により
被処理物を弁孔１４から別の真空処理室に送るよ
うになされる。
体１３を第２図および第４図に示すように90゜回
転させて、弁孔１４を各真空処理室３，３に連通
させるようになされ、図示しない搬送装置により
被処理物を弁孔１４から別の真空処理室に送るよ
うになされる。
このような弁体１３の回転動作は、エアシリン
ダの往復動によりリンクを介して行なつてもよい
し、モータ等の回転駆動源により行なつてもよ
い。
ダの往復動によりリンクを介して行なつてもよい
し、モータ等の回転駆動源により行なつてもよ
い。
したがつて、本実施例においては、簡単な構造
で小型化を図り気密性を高めることが可能とな
る。
で小型化を図り気密性を高めることが可能とな
る。
以上述べたように本発明に係る仕切弁は、直径
方向に貫通する弁孔を有する円柱状の弁体と、こ
の弁体の周面に密接して上記弁体を回転自在に支
持する弁座とを有し、上記弁体の回転により弁の
開閉を行い、上記弁体に連通孔を設けて構成した
ので、連通孔から真空排気あるいはガス導入を行
なうことにより各真空処理室間の気密性を保持
し、万一仕切弁のシール部に損傷がある時も、真
空処理室間のガスの流通を遮断することができ
る。この場合において、弁孔に処理に影響しない
ガスを置換加圧することにより、処理に影響せ
ず、各処理室の遮断を維持できる。また、本願発
明の弁孔は前記弁体の軸線方向の開口長さをほぼ
管路の上下方向一杯に設けることができるので、
仕切弁自体を大きくすることなく弁孔を大きく設
けることが可能となり、被処理物の通過を容易に
することができる。また、構造が簡単なので装置
の小型を図ることができ、経済性も高く、かつ、
信頼性も向上する等の効果を奏する。
方向に貫通する弁孔を有する円柱状の弁体と、こ
の弁体の周面に密接して上記弁体を回転自在に支
持する弁座とを有し、上記弁体の回転により弁の
開閉を行い、上記弁体に連通孔を設けて構成した
ので、連通孔から真空排気あるいはガス導入を行
なうことにより各真空処理室間の気密性を保持
し、万一仕切弁のシール部に損傷がある時も、真
空処理室間のガスの流通を遮断することができ
る。この場合において、弁孔に処理に影響しない
ガスを置換加圧することにより、処理に影響せ
ず、各処理室の遮断を維持できる。また、本願発
明の弁孔は前記弁体の軸線方向の開口長さをほぼ
管路の上下方向一杯に設けることができるので、
仕切弁自体を大きくすることなく弁孔を大きく設
けることが可能となり、被処理物の通過を容易に
することができる。また、構造が簡単なので装置
の小型を図ることができ、経済性も高く、かつ、
信頼性も向上する等の効果を奏する。
第１図乃至第４図はそれぞれ本発明の一実施例
を示したもので、第１図および第３図は弁の閉状
態を示すそれぞれ平面断面図および正面断面図、
第２図および第４図は弁の開状態を示すそれぞれ
平面断面図および正面断面図、第５図は従来の真
空処理装置を示す概略構成図、第６図は従来のゲ
ート弁を示す縦断面図である。 １，２……ロードロツク室、３……真空処理
室、４……ゲート弁、５……仕切弁、６……ケー
シング、７……開口、８，１３……弁体、９……
スプリング、１０……リンク機構、１１……エア
シリンダ、１２……シヤフト、１４……弁孔、１
５……連通孔、１６……仕切壁。
を示したもので、第１図および第３図は弁の閉状
態を示すそれぞれ平面断面図および正面断面図、
第２図および第４図は弁の開状態を示すそれぞれ
平面断面図および正面断面図、第５図は従来の真
空処理装置を示す概略構成図、第６図は従来のゲ
ート弁を示す縦断面図である。 １，２……ロードロツク室、３……真空処理
室、４……ゲート弁、５……仕切弁、６……ケー
シング、７……開口、８，１３……弁体、９……
スプリング、１０……リンク機構、１１……エア
シリンダ、１２……シヤフト、１４……弁孔、１
５……連通孔、１６……仕切壁。
Claims (1)
- １ 隣接する二つの真空処理室を仕切る仕切壁
と、この仕切壁に形成され真直な円孔の一部によ
つて構成された弁座と、この弁座内に組込まれ直
径方向に貫通し、かつ、軸方向の開口長さが上記
真空処理室のほぼ上下の高さの全域にわたる弁孔
が設けられた円柱状の弁体とを有し、さらに前記
弁体の中心には軸線方向に沿つて上下に貫通して
外部と連通する連通孔が設けられたことを特徴と
する仕切弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16610784A JPS6145175A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 仕切弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16610784A JPS6145175A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 仕切弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6145175A JPS6145175A (ja) | 1986-03-05 |
| JPH0256544B2 true JPH0256544B2 (ja) | 1990-11-30 |
Family
ID=15825145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16610784A Granted JPS6145175A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 仕切弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6145175A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS571184Y2 (ja) * | 1978-01-25 | 1982-01-08 |
-
1984
- 1984-08-08 JP JP16610784A patent/JPS6145175A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6145175A (ja) | 1986-03-05 |
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