JPS6145175A - 仕切弁 - Google Patents
仕切弁Info
- Publication number
- JPS6145175A JPS6145175A JP16610784A JP16610784A JPS6145175A JP S6145175 A JPS6145175 A JP S6145175A JP 16610784 A JP16610784 A JP 16610784A JP 16610784 A JP16610784 A JP 16610784A JP S6145175 A JPS6145175 A JP S6145175A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve body
- valve
- vacuum processing
- processing chamber
- connecting pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K5/00—Plug valves; Taps or cocks comprising only cut-off apparatus having at least one of the sealing faces shaped as a more or less complete surface of a solid of revolution, the opening and closing movement being predominantly rotary
- F16K5/04—Plug valves; Taps or cocks comprising only cut-off apparatus having at least one of the sealing faces shaped as a more or less complete surface of a solid of revolution, the opening and closing movement being predominantly rotary with plugs having cylindrical surfaces; Packings therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Taps Or Cocks (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕 。
本発明は仕切弁に係り、特に複数の真空処理室間の気密
を確保するための仕切弁に関する。
を確保するための仕切弁に関する。
第５図は従来の真空処理装置を示したもので、入口側ロ
ードロック室１と出口側ロードロツタ室２との間に複数
の真空処理室３．３・・・が設けられており、各ロード
ロック室１，２と真空処理室３との間にはゲート弁４が
、各真空処理室３の間には仕切弁５がそれぞれ介設され
て各室を仕切っている。
ードロック室１と出口側ロードロツタ室２との間に複数
の真空処理室３．３・・・が設けられており、各ロード
ロック室１，２と真空処理室３との間にはゲート弁４が
、各真空処理室３の間には仕切弁５がそれぞれ介設され
て各室を仕切っている。
このような真空処理装置においては、被処理物を入口側
ロードロック室１に挿入して大気圧から真空排気した後
、ゲート弁４を開いて被処理物を真空処理室３に順次送
り、各真空処理室３においてスパッタリング、エツチン
グあるいは熱処理等種々の真空処理が行なわれる。
ロードロック室１に挿入して大気圧から真空排気した後
、ゲート弁４を開いて被処理物を真空処理室３に順次送
り、各真空処理室３においてスパッタリング、エツチン
グあるいは熱処理等種々の真空処理が行なわれる。
そして、真空処理が終了した被処理物は、ゲート弁４を
通って出口側ロードロック室２に送られ、ゲート弁４を
閉じて出口側ロードロック室２を大気圧に戻した後取出
される。
通って出口側ロードロック室２に送られ、ゲート弁４を
閉じて出口側ロードロック室２を大気圧に戻した後取出
される。
第６図はこのような真空処理装置に適用されるゲート弁
４を示したもので、ケーシング６の対向する側面には、
被処理物を通すための開ロア、７が設けられ、ケーシン
グ６の内部には、上記各聞ロア、７を開閉する２つの弁
体８．８が配置されており、各弁体８，８の間にリンク
機構９およびスプリング１０が介設されている。この弁
体８はケーシング６の外部に設けられたエアシリンダ１
１のシャフト１２により上下動自在とされており、弁体
８が上昇したときに弁体８，８がスプリング９の力に抗
して離れ、開ロア、７を閉塞するようになされている。
４を示したもので、ケーシング６の対向する側面には、
被処理物を通すための開ロア、７が設けられ、ケーシン
グ６の内部には、上記各聞ロア、７を開閉する２つの弁
体８．８が配置されており、各弁体８，８の間にリンク
機構９およびスプリング１０が介設されている。この弁
体８はケーシング６の外部に設けられたエアシリンダ１
１のシャフト１２により上下動自在とされており、弁体
８が上昇したときに弁体８，８がスプリング９の力に抗
して離れ、開ロア、７を閉塞するようになされている。
従来は、このようなゲート弁４が仕切弁５としても用い
られており、ゲート弁４は大気と真空との気密を保つ必
要上、強度あるいは気密性が重要となり、構造が複雑か
つ大型化、してしまうため、真空間の気密を保つ仕切弁
の構造の簡素化、小型化が望まれていた。
られており、ゲート弁４は大気と真空との気密を保つ必
要上、強度あるいは気密性が重要となり、構造が複雑か
つ大型化、してしまうため、真空間の気密を保つ仕切弁
の構造の簡素化、小型化が望まれていた。
本発明は上記した点に鑑みてなされたもので、構造が簡
単でありかつ小型化を図ることができ、しかも、気密性
の高い仕切弁を提供することを目的とするものである。
単でありかつ小型化を図ることができ、しかも、気密性
の高い仕切弁を提供することを目的とするものである。
上記目的を達成するため本発明に係る仕切弁は、複数の
真空処理室を仕切る仕切弁において、直径方向に貫通し
て被処理物を通す弁孔が設けられた円柱状の弁体と、こ
の弁体の直径方向対向位置の周面に密接して上記弁体を
回転自在に支持する弁座とを有し、上記弁体の回転駆動
により弁の開閉を行なうようにし、さらに、上記弁体の
中心軸上を罠通して外部と連通する連通管を設けたこと
をその特徴とするものである。
真空処理室を仕切る仕切弁において、直径方向に貫通し
て被処理物を通す弁孔が設けられた円柱状の弁体と、こ
の弁体の直径方向対向位置の周面に密接して上記弁体を
回転自在に支持する弁座とを有し、上記弁体の回転駆動
により弁の開閉を行なうようにし、さらに、上記弁体の
中心軸上を罠通して外部と連通する連通管を設けたこと
をその特徴とするものである。
（発明の実施例〕
ネ下、本発明の実施例を第１図乃至第４図を参照して説
明する。
明する。
本実施例においては、各真空処理室３，３の間に円柱状
の弁体１３が、真空処理室３を貫通して設けられており
、この弁体１３には直径方向に貫通して被処理物を通す
長方形状の弁孔１４が設けらるとともに、中心軸上を貫
通して上記弁孔１４と外部とを連通する連通管１５．１
５が設けられている。この弁体１３の直径方向対向位置
の外周面には、弁体１３を回転自在に支持する弁座が密
接しており、本実施例においては、各真空処理室３を仕
切る仕切壁１６が弁座として機能している。
の弁体１３が、真空処理室３を貫通して設けられており
、この弁体１３には直径方向に貫通して被処理物を通す
長方形状の弁孔１４が設けらるとともに、中心軸上を貫
通して上記弁孔１４と外部とを連通する連通管１５．１
５が設けられている。この弁体１３の直径方向対向位置
の外周面には、弁体１３を回転自在に支持する弁座が密
接しており、本実施例においては、各真空処理室３を仕
切る仕切壁１６が弁座として機能している。
本実施例の場合、真空処理室３の内部で被処理物の真空
処理を行なうときは、第１図および第３図に示すように
、弁体１３の弁孔１４が仕切壁１６により閉塞されるよ
うに弁体１３を回転する。
処理を行なうときは、第１図および第３図に示すように
、弁体１３の弁孔１４が仕切壁１６により閉塞されるよ
うに弁体１３を回転する。
このとき、連通管１５から図示しない真空排気装置によ
り弁孔１４の内部を真空排気する。したがって、各真空
処理室３．３から弁体１３と仕切壁１６との間を通って
弁孔１４の内部に侵入する不活性ガス等が排気されてし
まい、各真空処理室３゜３間を行き交うことを防止する
ことができる。また、連通管１５から図示しないガス導
入装置により、各真空処理室３．３に漏れても影響のな
い例えばＡｒガス等を導入しておくようにしても、内部
ガスの侵入を防止することができる。
り弁孔１４の内部を真空排気する。したがって、各真空
処理室３．３から弁体１３と仕切壁１６との間を通って
弁孔１４の内部に侵入する不活性ガス等が排気されてし
まい、各真空処理室３゜３間を行き交うことを防止する
ことができる。また、連通管１５から図示しないガス導
入装置により、各真空処理室３．３に漏れても影響のな
い例えばＡｒガス等を導入しておくようにしても、内部
ガスの侵入を防止することができる。
なお、この連通管１５．１５は両方利用しても一方のみ
利用してもよく、一方のみ利用する場合は、使方の連通
管１５は閉塞しておくようにすればよい。
利用してもよく、一方のみ利用する場合は、使方の連通
管１５は閉塞しておくようにすればよい。
そして、１つの真空処理行程が終了したら、弁体１３を
第２図および第４図に示すように９０゜回転させて、弁
孔１４を各真空処理室３．３に連通させるようになされ
、図示しない搬送装置により被処理物を弁孔１４から別
の真空処理室に送るようになされる。
第２図および第４図に示すように９０゜回転させて、弁
孔１４を各真空処理室３．３に連通させるようになされ
、図示しない搬送装置により被処理物を弁孔１４から別
の真空処理室に送るようになされる。
このような弁体１３の回転動作は１．エアシリンダの往
復動によりリンクを介して行なってもよいし、モータ等
の回転駆動源により行なってもよい。
復動によりリンクを介して行なってもよいし、モータ等
の回転駆動源により行なってもよい。
したがって、本実施例においては、簡単な構造で小型化
を図り気密性を高めることが可能となる。
を図り気密性を高めることが可能となる。
以上述べたように本発明に係る仕切弁は、直径方向に貫
通する弁孔を有する円柱状の弁体と、この弁体の周面に
密接して上記弁体を回転自在に支持する弁座とを有し、
上記弁体の回転により弁の開閉を行い、上記弁体に連通
管を設けて構成したので、連通管から真空排気あるいは
ガス導入を行なうことにより真空処理間の気密を簡単な
構造で保持することができる。また、溝造が簡単なので
装置の小型を図ることができ、経済性も高く、かつ、信
頼性も向上する等の効果を奏する。
通する弁孔を有する円柱状の弁体と、この弁体の周面に
密接して上記弁体を回転自在に支持する弁座とを有し、
上記弁体の回転により弁の開閉を行い、上記弁体に連通
管を設けて構成したので、連通管から真空排気あるいは
ガス導入を行なうことにより真空処理間の気密を簡単な
構造で保持することができる。また、溝造が簡単なので
装置の小型を図ることができ、経済性も高く、かつ、信
頼性も向上する等の効果を奏する。
第１図乃至第４図はそれぞれ本発明の一実施例を示した
もので、第１図および第３図は弁の閉状態を示すそれぞ
れ平面断面図および正面断面図、第２図および第４図は
弁の開状態を示すそれぞれ平面断面図および正面断面図
、第５図は従来の真空処理装置を示す概略構成図、第６
図は従来のゲート弁を示す縦断面図である。 １．２・・・ロードロック室、３・・・真空処理室、４
・・・ゲート弁、５・・・仕切弁、６・・・ケーシング
、７・・・開口、８，１３・・・弁体、９・・・スプリ
ング、“ １０・・・リンク機構、１１・・・エアシリ
ンダ、１２・・・シャフト、１４・・・弁孔、１５・・
・連通管、１６・・・仕切壁。 第１ 目 ｉ！５２園 第３ 目 第４図
もので、第１図および第３図は弁の閉状態を示すそれぞ
れ平面断面図および正面断面図、第２図および第４図は
弁の開状態を示すそれぞれ平面断面図および正面断面図
、第５図は従来の真空処理装置を示す概略構成図、第６
図は従来のゲート弁を示す縦断面図である。 １．２・・・ロードロック室、３・・・真空処理室、４
・・・ゲート弁、５・・・仕切弁、６・・・ケーシング
、７・・・開口、８，１３・・・弁体、９・・・スプリ
ング、“ １０・・・リンク機構、１１・・・エアシリ
ンダ、１２・・・シャフト、１４・・・弁孔、１５・・
・連通管、１６・・・仕切壁。 第１ 目 ｉ！５２園 第３ 目 第４図
Claims (1)
- 複数の真空処理室を仕切る仕切弁において、直径方向に
貫通して被処理物を通す弁孔が設けられた円柱状の弁体
と、この弁体の直径方向対向位置の周面に密接して上記
弁体を回転自在に支持する弁座とを有し、上記弁体の回
転駆動により弁の開閉を行なうようにするとともに上記
弁体の中心軸上を貫通して外部と連通する連通管を設け
たことを特徴とする仕切弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16610784A JPS6145175A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 仕切弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16610784A JPS6145175A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 仕切弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6145175A true JPS6145175A (ja) | 1986-03-05 |
| JPH0256544B2 JPH0256544B2 (ja) | 1990-11-30 |
Family
ID=15825145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16610784A Granted JPS6145175A (ja) | 1984-08-08 | 1984-08-08 | 仕切弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6145175A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54110831U (ja) * | 1978-01-25 | 1979-08-04 |
-
1984
- 1984-08-08 JP JP16610784A patent/JPS6145175A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54110831U (ja) * | 1978-01-25 | 1979-08-04 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0256544B2 (ja) | 1990-11-30 |
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