JPH0214872Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0214872Y2 JPH0214872Y2 JP17590882U JP17590882U JPH0214872Y2 JP H0214872 Y2 JPH0214872 Y2 JP H0214872Y2 JP 17590882 U JP17590882 U JP 17590882U JP 17590882 U JP17590882 U JP 17590882U JP H0214872 Y2 JPH0214872 Y2 JP H0214872Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- welding
- differential pressure
- pressure chamber
- vacuum seal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 38
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は、電子ビーム溶接装置に関し、とり
わけ、被溶接物を自動的に溶接する電子ビーム溶
接装置に関するものである。
わけ、被溶接物を自動的に溶接する電子ビーム溶
接装置に関するものである。
従来、この種の装置として第1図、第2図に示
すものがあつた。第1図において、電子ビーム発
生装置1により被溶接物の溶接を行なう溶接室3
を備え、被溶接物2を搬送するインデクステーブ
ル4に被溶接物2を保持する収容室5a〜5dが
設けられている。インデクステーブル4は差圧室
6に収容されて真空に保たれる。差圧室6の最低
圧部にある溶接室3には第1の駆動装置7が固定
され被溶接物2を動作させる。差圧室6の最高圧
部には被溶接物2を出し入れするための被溶接物
搬入出口8が取付けられ、この被溶接物搬入出口
8には収容室5aに被溶接物2を被溶接物搬入出
口8に搬入した後、収容室5aを大気と遮断する
外部真空シール弁9が設けられている。差圧室6
等は架台10に固定されている。
すものがあつた。第1図において、電子ビーム発
生装置1により被溶接物の溶接を行なう溶接室3
を備え、被溶接物2を搬送するインデクステーブ
ル4に被溶接物2を保持する収容室5a〜5dが
設けられている。インデクステーブル4は差圧室
6に収容されて真空に保たれる。差圧室6の最低
圧部にある溶接室3には第1の駆動装置7が固定
され被溶接物2を動作させる。差圧室6の最高圧
部には被溶接物2を出し入れするための被溶接物
搬入出口8が取付けられ、この被溶接物搬入出口
8には収容室5aに被溶接物2を被溶接物搬入出
口8に搬入した後、収容室5aを大気と遮断する
外部真空シール弁9が設けられている。差圧室6
等は架台10に固定されている。
次に、第2図において、差圧室6を真空に保つ
ために差圧室6に排気装置11が接続されてお
り、インデクステーブル4を回転してインデクス
させるための第2の駆動装置12が配設されてい
る。
ために差圧室6に排気装置11が接続されてお
り、インデクステーブル4を回転してインデクス
させるための第2の駆動装置12が配設されてい
る。
従来の電子ビーム溶接装置は上記のように構成
され、被溶接物2は、外部真空シール弁9を開け
て収容室5aに装入される。すると外部真空シー
ル弁9を閉じ、第2の駆動装置12によつてイン
デクステーブル4が次のインデクス位置まで回転
される。この動作が何回かくり返されて、被溶接
物2が溶接位置まで来ると第1の駆動装置7によ
つて被溶接物2が溶接室3内に装入され、電子ビ
ーム発生装置1よりの電子ビームで溶接が行なわ
れる。溶接された被溶接物2は、再び第1の駆動
装置7によりインデクステーブル4の収容室5c
に搬送され、収容室5cに入れられる。次に、第
2の駆動装置12によつてインデクステーブル4
が次のインデクス位置に回転する。以後この動作
が繰り返され、最初に溶接された被溶接物2が、
被溶接物搬入出口8までくると、外部真空シール
弁9を開き、溶接された被溶接物2を取り出す。
以後、これら一連の動作を繰り返すようになつて
いる。
され、被溶接物2は、外部真空シール弁9を開け
て収容室5aに装入される。すると外部真空シー
ル弁9を閉じ、第2の駆動装置12によつてイン
デクステーブル4が次のインデクス位置まで回転
される。この動作が何回かくり返されて、被溶接
物2が溶接位置まで来ると第1の駆動装置7によ
つて被溶接物2が溶接室3内に装入され、電子ビ
ーム発生装置1よりの電子ビームで溶接が行なわ
れる。溶接された被溶接物2は、再び第1の駆動
装置7によりインデクステーブル4の収容室5c
に搬送され、収容室5cに入れられる。次に、第
2の駆動装置12によつてインデクステーブル4
が次のインデクス位置に回転する。以後この動作
が繰り返され、最初に溶接された被溶接物2が、
被溶接物搬入出口8までくると、外部真空シール
弁9を開き、溶接された被溶接物2を取り出す。
以後、これら一連の動作を繰り返すようになつて
いる。
しかし、従来の電子ビーム溶接装置は、以上の
ような構成,動作をするようになつているため、
被溶接物2を出し入れするために、真空シール弁
9を開くと、差圧室6およびインデクステーブル
4は被溶接物搬入出口8を通じて大気圧
(760Torr)と接する。そのために溶接室3を常
に溶接に必要な低圧力に保つには、排気装置11
は大容量のものを必要としたり、インデクステー
ブル4と差圧室6との間のすき間を非常に狭くす
る必要から高精度の加工をしたり、インデクステ
ーブル4の直径を大きくして溶接物搬入出口8と
溶接室3との距離を大きくとる必要がある等の欠
点があつた。
ような構成,動作をするようになつているため、
被溶接物2を出し入れするために、真空シール弁
9を開くと、差圧室6およびインデクステーブル
4は被溶接物搬入出口8を通じて大気圧
(760Torr)と接する。そのために溶接室3を常
に溶接に必要な低圧力に保つには、排気装置11
は大容量のものを必要としたり、インデクステー
ブル4と差圧室6との間のすき間を非常に狭くす
る必要から高精度の加工をしたり、インデクステ
ーブル4の直径を大きくして溶接物搬入出口8と
溶接室3との距離を大きくとる必要がある等の欠
点があつた。
この考案は、以上のような従来装置の欠点を解
消しようとするもので、差圧室の被溶接物搬入出
口、差圧室の最高圧部とインデクステーブル、差
圧室の最低圧部とインデクステーブルとの間にそ
れぞれ内部真空弁シールを配設することにより、
安価に溶接に必要な高真空を得、安定した品質の
溶接ができる電子ビーム溶接装置を提供すること
を目的とするものである。
消しようとするもので、差圧室の被溶接物搬入出
口、差圧室の最高圧部とインデクステーブル、差
圧室の最低圧部とインデクステーブルとの間にそ
れぞれ内部真空弁シールを配設することにより、
安価に溶接に必要な高真空を得、安定した品質の
溶接ができる電子ビーム溶接装置を提供すること
を目的とするものである。
以下、この考案の一実施例を第3図,第4図お
よび第5図について説明する。第3図において、
差圧室6の被溶接物搬入出口8側に第1の内部真
空シール弁13a,13b、差圧室6の溶接室3
との通路部分に内部真空シール弁14a,14b
を設ける。その他、第1図,第2図におけると同
一符号は同一部分である。第4図は第1の内部真
空シール弁13aを示し、第1の内部真空シール
弁13aは開いた状態を示す。第5図は第1図の
内部真空シール弁13aを閉じた状態を示す。第
4図,第5図において、差圧室6の壁に断面L字
状の環状溝6aが形成されており、この環状溝6
aに断面L字状の環状の弁体17が収納されて、
内部真空シール弁13aを構成している。15は
内部真空シール弁13aを開くときに圧縮空気を
通す弁開用空圧管路であり、16は内部真空シー
ル弁13aを閉じるときに圧縮空気を通す弁閉用
空圧管路で、それぞれの内端は互いに対向して環
状溝6a内に開口している。
よび第5図について説明する。第3図において、
差圧室6の被溶接物搬入出口8側に第1の内部真
空シール弁13a,13b、差圧室6の溶接室3
との通路部分に内部真空シール弁14a,14b
を設ける。その他、第1図,第2図におけると同
一符号は同一部分である。第4図は第1の内部真
空シール弁13aを示し、第1の内部真空シール
弁13aは開いた状態を示す。第5図は第1図の
内部真空シール弁13aを閉じた状態を示す。第
4図,第5図において、差圧室6の壁に断面L字
状の環状溝6aが形成されており、この環状溝6
aに断面L字状の環状の弁体17が収納されて、
内部真空シール弁13aを構成している。15は
内部真空シール弁13aを開くときに圧縮空気を
通す弁開用空圧管路であり、16は内部真空シー
ル弁13aを閉じるときに圧縮空気を通す弁閉用
空圧管路で、それぞれの内端は互いに対向して環
状溝6a内に開口している。
上記のように構成された電子ビーム溶接装置に
おいては、被溶接物2をインデクステーブル4内
の収容室5aに入れる場合には、先ず弁閉用空圧
管路16に圧縮空気を送り込んで弁体17を右方
へ押圧して弁体17の右端をインデクステーブル
4に圧接し、内部真空シール弁13aを閉じる。
次に外部真空シール弁9を開く、このとき大気は
収容室5aに入り込み、収容室5aは大気圧とな
るが、内部真空シール弁13aを閉じているため
に、差圧室6内の圧力は低下せず、従つて、溶接
室3の圧力も上昇しない。被溶接物2を収容室5
aに入れたあと、外部真空シール弁9を閉じる。
そして弁開用空圧管路15に圧縮空気を送り込
み、弁体17を左方へ動かして内部真空シール弁
13aを開く。そして上記従来装置の説明で記し
たと同じく、次のインデクス位置までインデクス
する。インデクスを完了すると、内部真空シール
弁13aは再び閉じ、上記と同様の動作で被溶接
物2を被溶接物搬出入口8より、収容室5aに入
れる。この動作を順次に繰り返す。内部真空シー
ル弁13bについても同様である。また、かよう
な動作をする場合、通常、インデクス時間に比べ
被溶接物2の搬出入時間は2倍から数倍の時間を
要するため、インデクス時に内部真空シール弁1
3aを開いて、収容室5aの大気室の空気が差圧
室6に入る量は従来の比べ非常に減少する。
おいては、被溶接物2をインデクステーブル4内
の収容室5aに入れる場合には、先ず弁閉用空圧
管路16に圧縮空気を送り込んで弁体17を右方
へ押圧して弁体17の右端をインデクステーブル
4に圧接し、内部真空シール弁13aを閉じる。
次に外部真空シール弁9を開く、このとき大気は
収容室5aに入り込み、収容室5aは大気圧とな
るが、内部真空シール弁13aを閉じているため
に、差圧室6内の圧力は低下せず、従つて、溶接
室3の圧力も上昇しない。被溶接物2を収容室5
aに入れたあと、外部真空シール弁9を閉じる。
そして弁開用空圧管路15に圧縮空気を送り込
み、弁体17を左方へ動かして内部真空シール弁
13aを開く。そして上記従来装置の説明で記し
たと同じく、次のインデクス位置までインデクス
する。インデクスを完了すると、内部真空シール
弁13aは再び閉じ、上記と同様の動作で被溶接
物2を被溶接物搬出入口8より、収容室5aに入
れる。この動作を順次に繰り返す。内部真空シー
ル弁13bについても同様である。また、かよう
な動作をする場合、通常、インデクス時間に比べ
被溶接物2の搬出入時間は2倍から数倍の時間を
要するため、インデクス時に内部真空シール弁1
3aを開いて、収容室5aの大気室の空気が差圧
室6に入る量は従来の比べ非常に減少する。
一方、被溶接物2が溶接室3の位置にインデク
スされると、第2の内部真空シール弁14a,1
4bを上記と同様に閉じ、この部分の収容室5c
と溶接室3は差圧室6の他の部分とは遮断される
ため、高圧力の空気が入り込むことがなく、従来
装置に比べ、溶接室3の圧力はより容易に安定し
て、溶接に必要な低圧力に保つことができ、安定
した高品質の溶接ができる。また、従来装置と同
様の圧力を得るためには、従来に比べ、より容量
の小さい真空排気装置11でも可能となる。
スされると、第2の内部真空シール弁14a,1
4bを上記と同様に閉じ、この部分の収容室5c
と溶接室3は差圧室6の他の部分とは遮断される
ため、高圧力の空気が入り込むことがなく、従来
装置に比べ、溶接室3の圧力はより容易に安定し
て、溶接に必要な低圧力に保つことができ、安定
した高品質の溶接ができる。また、従来装置と同
様の圧力を得るためには、従来に比べ、より容量
の小さい真空排気装置11でも可能となる。
上記の説明では、この考案を電子ビーム溶接装
置に適用する場合について述べたが、電子ビーム
発生装置1を除いたこの考案の構成は、その他の
電子ビーム加工装置や、その他の真空中で加工を
行なう加工機,処理機等に利用できることはいう
までもない。
置に適用する場合について述べたが、電子ビーム
発生装置1を除いたこの考案の構成は、その他の
電子ビーム加工装置や、その他の真空中で加工を
行なう加工機,処理機等に利用できることはいう
までもない。
この考案は、以上説明したとおり、被溶接物を
インデクステーブル内の収容室に入れる際、差圧
室内に大気の流入することを防止し、かつ、溶接
室内と差圧室内とをインデクス時以外真空シール
することにより、溶接室内への高圧部よりの気体
の流入を非常に短時間におさえることができ、溶
接室を溶接に必要な真空度に保つことが容易とな
る。また、このことは、差圧室を構成するための
真空排気装置をより安価になしうる。さらに、逆
の見地からは、インデクステーブルと差圧室の構
成が容易になり、これらをより安価に提供できる
等、多くの効果がある。
インデクステーブル内の収容室に入れる際、差圧
室内に大気の流入することを防止し、かつ、溶接
室内と差圧室内とをインデクス時以外真空シール
することにより、溶接室内への高圧部よりの気体
の流入を非常に短時間におさえることができ、溶
接室を溶接に必要な真空度に保つことが容易とな
る。また、このことは、差圧室を構成するための
真空排気装置をより安価になしうる。さらに、逆
の見地からは、インデクステーブルと差圧室の構
成が容易になり、これらをより安価に提供できる
等、多くの効果がある。
第1図は従来の装置の正面図、第2図は同じく
側面図、第3図はこの考案の一実施例の側面図、
第4図,第5図は同じく一部詳細断面図で第4図
は内部真空シール弁を開いた状態、第5図は内部
真空シール弁を閉じた状態を示す。 1……電子ビーム発生装置、2……被溶接物、
3……溶接室、4……インデクステーブル、5
a,5b,5c,5d……収容室、6……差圧
室、6a……環状溝、7……第1の駆動装置、8
……被溶接物搬入出口、9……外部真空シール
弁、10……架台、11……排気装置、12……
第2の駆動装置、13a,13b……第1の内部
真空シール弁、14a,14b……第2の内部真
空シール弁、15……弁開用空圧管路、16……
弁閉用空圧管路、17……弁体。なお、各図中、
同一符号は同一または相当部分を示す。
側面図、第3図はこの考案の一実施例の側面図、
第4図,第5図は同じく一部詳細断面図で第4図
は内部真空シール弁を開いた状態、第5図は内部
真空シール弁を閉じた状態を示す。 1……電子ビーム発生装置、2……被溶接物、
3……溶接室、4……インデクステーブル、5
a,5b,5c,5d……収容室、6……差圧
室、6a……環状溝、7……第1の駆動装置、8
……被溶接物搬入出口、9……外部真空シール
弁、10……架台、11……排気装置、12……
第2の駆動装置、13a,13b……第1の内部
真空シール弁、14a,14b……第2の内部真
空シール弁、15……弁開用空圧管路、16……
弁閉用空圧管路、17……弁体。なお、各図中、
同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 被溶接物を保持する複数の収容室を有するイ
ンデクステーブルと、このインデクステーブル
を収納し真空に保たれる差圧室と、この差圧室
の最低圧部に配設された溶接室と、この溶接室
に取付けられた電子ビーム発生装置と、前記差
圧室の最高圧部に配設され外部真空シール弁を
有する被溶接物搬入出口と、前記差圧室を真空
に保つ排気装置を備えた電子ビーム溶接装置に
おいて、前記差圧室の前記最低圧部と前記イン
デクステーブルとの間および前記差圧室の前記
最高圧部と前記インデクステーブルとの間にそ
れぞれ配設された内部真空シール弁を備えてな
ることを特徴とする電子ビーム溶接装置。 (2) 内部真空シール弁が、差圧室壁内に配設され
圧縮空気で作動される断面L字状の環状の弁体
でなる実用新案登録請求の範囲第1項記載の電
子ビーム溶接装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17590882U JPS5981585U (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 電子ビ−ム溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17590882U JPS5981585U (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 電子ビ−ム溶接装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5981585U JPS5981585U (ja) | 1984-06-01 |
| JPH0214872Y2 true JPH0214872Y2 (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=30382580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17590882U Granted JPS5981585U (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 電子ビ−ム溶接装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5981585U (ja) |
-
1982
- 1982-11-18 JP JP17590882U patent/JPS5981585U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5981585U (ja) | 1984-06-01 |
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