JPH0262498B2 - - Google Patents
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- JPH0262498B2 JPH0262498B2 JP61050170A JP5017086A JPH0262498B2 JP H0262498 B2 JPH0262498 B2 JP H0262498B2 JP 61050170 A JP61050170 A JP 61050170A JP 5017086 A JP5017086 A JP 5017086A JP H0262498 B2 JPH0262498 B2 JP H0262498B2
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- acid
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明は、結晶質アナターゼ型酸化チタンゾル
及びその製造方法に関する。 酸化チタンは、願料、ペースト改良剤、湿度セ
ンサー、赤外線反射多層膜、触媒、圧電体(チタ
ン酸塩)の原料、二酸化チタン被覆雲母等の多方
面の分野に於て使用されている工業材料である。 (従来の技術) これらの用途に用いられる酸化チタン原料粉末
は、通常イルメナイトに硫酸を加え、その硫酸塩
の加水分解により先ずメタチタン酸を得る。そし
てこれらをろ過、乾燥、焼成する方法(硫酸
法))、硫酸の代わりに塩酸を用いる塩酸法、或い
は無水塩化チタンを気相で熱分解させる方法等に
より生産されている。 しかし、これらの方法により得られた酸化チタ
ン粉末は、一般に粒子径が粗く、また不揃いであ
り、特に均一超微細性を要求される分野への適用
については問題があつた。 一方、無水塩化チタンを気相で熱分解させ製造
する方法が知られているが、この方法は微細な均
一粒子が得られる反面、粒子の分散性が悪く、水
等の溶媒に分散させると、経時と共に沈降分離す
ることで問題がある。 また、特開昭59−223231号記載の内容によれ
ば、硫酸法による酸化チタン製造の際、焼成によ
りルチル型の転位を促進するため、核物質として
添加されるものと基本的に同一であるものをチタ
ニアゾルと云つている。 しかし、このものはその製造方法に明らかなよ
うに、微粒子酸化チタンの製造中間体として得ら
れるチタニアゾルとして、多量の酸を含むことか
ら、本発明の結晶質酸化チタンゾルとは異なるも
のである。 従つて、赤外線反射多層膜、触媒、圧電体用原
料、二酸化チタン被覆雲母等に適用する場合に
は、これらの二酸化チタン粉末では、純度、粒
度、分散性に於て充分でなく、問題が残されてい
るのが現状である。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明者らはこれらの実情に鑑み、純度、粒
度、分散性等の諸特性に於て優れる結晶質の酸化
チタンゾルを得べく、鋭意研究を重ねた結果、新
規な結晶質アナターゼ型酸化チタンゾルを見出
し、本発明を完成したものである。 (問題点を解決するための手段) 即ち本発明は、結晶質アナターゼ型酸化チタン
ゾル及びその製造方法に関し、本第一の発明は、
粒子径500Å以下の結晶質アナターゼ型酸化チタ
ンゾルであり、また、本第二の発明は、水溶溶性
チタン化合物とアンモニウム化合物とを反応させ
ゲルを生成させた後、これを100℃以上で水熱処
理し、酸を添加することからなる粒子径500Å以
下の結晶質アナターゼ型酸化チタンゾルの製造方
法に関する。 (作用) 先ず、本第一の発明である粒子径500Å以下の
結晶質アナターゼ型酸化チタンゾルについて詳細
に説明する。 従来、酸化チタンゾルを製造する方法として、
無機チタン塩水溶液を原料とし、これに含まれる
酸根を何等かの方法により除去するか、或いは酸
チタンを水に加え、加水分解を行うことにより得
る方法が提案されている。また別に、チタンアル
コキシドを各種の手段で加水分解し、ゾルを得る
方法も提案されている。 しかし、これらの方法により得られるゾルは何
れもその結晶形が無定形か或いはチタンの水酸化
物であり、アナターゼ型の結晶質酸化チタンゾル
ではない。 これに対し、本発明の結晶質酸化チタンゾルは
アナターゼ型の結晶形をもち、且つこれが500Å
以下という極めて細なコロイド粒子をを水溶液状
態で供与し、安定なゾル溶液を形成するものであ
る。 非結晶からなる従来のゾルは、化繊、合繊等の
艶消しや、製紙のコーデイングに用いた場合に
は、基材の耐熱性が低いため、非晶質ゾルを結晶
化させることができなかつた。しかし本発明の結
晶質酸化チタンゾルは、このような基材に結晶質
のものを乾燥程度の低温処理でコーデイングでき
ることより、耐薬品性、耐水性が非晶質のものに
比べ著しく向上し、広範な条件下での使用が可能
となるものである。 このようなゾルは従来全く知られていなかつた
ものであり、酸化チタン系複合材料の適用分野に
於て、新たな用途を生み出すものである。 その特徴を挙げれば次の通りである。 第一に、本発明の結晶質アナターゼ型ゾルは、
無定形ゾルに比べて高濃度なゾルで得ることがで
き、酸化チタン−シリカの多層赤外線反射膜を作
成するような場合、一回のコーデイングで所望の
膜厚や反射性能を得ることができる。 第二に、本発明の結晶質アナターゼ型酸化チタ
ンゾルは、ゾルの安定性に優れているので、従来
の二酸化チタン粉末ではコーデイング等の作業の
際に、均一な膜形成が困難であつたのに比べ、本
発明では長期間の保存後もゾルが均一に分散し、
均一なコーデイング膜が得られる。しかも500Å
以下という超微細粒子であるから、二酸化チタン
被覆雲母に適用した場合には、粒子が分子分散状
に均一に分散し、優れた真珠光沢性を与える。 更に、無定形ゾルに比べて高濃度での被覆が可
能であるため、硬牢なものが得られる。 これらのことは、酸化チタン系セラミツクのコ
ーデイング膜の製造に於て非常に有益である。 尚、コロイド粒子径の測定は、電子顕微鏡観察
により行つたが、本発明のゾルは、実質上全ての
コロイド粒子が500Å以下の粒子径であつた。 次に、本第二の発明でる結晶質のアナターゼ型
酸化チタンゾルの製造方法について詳述する。 本第二の発明は、水溶溶性チタン化合物とアン
モニウム化合物とを反応させゲルを生成させた
後、これを100℃以上で水熱処理し、酸を添加す
ることからなる粒子径500Å以下の結晶質アナタ
ーゼ型酸化チタンゾルの製造方法に関する。 本発明に用いる水溶性チタン化合物としては、
四塩化チタン、硝酸チタン、硫酸チタン等を例示
でき、またアンモニウム化合物としては、重炭酸
アンモニウム、炭酸アンモニウム、アンモニア水
等を例示することができるが、これらに限定され
るものではない。 また上記以外の原料として、重炭酸アルカリ金
属塩や炭酸アルカリ金属塩等の使用は、製品ゾル
中にアルカリ金属塩が残留することにより好まし
くない。 本発明では、先ず前記の水溶性チタン化合物と
アンモニウム化合物とを反応させ、ゲルを生成さ
せる。 このゲルの製造条件に関して云えば、両者の反
応の際の温度は、大略10〜90℃で行う。 また添加割合については、アンモニウム化合物
のアンモニウムAと水溶性チタン化合物に由来す
る酸根Bの当量比A/Bが0.9〜1.3の範囲となる
ように行う。しかしこの範囲を逸脱しても、後述
する生成ゲルを洗浄する工程で、上限を越えた場
合、希薄な酸溶液で洗浄し、また下限以下では希
薄なアルカリ性溶液で洗浄することにより、所望
のゾルを得ることができ、特段に限定するもので
はないが、経済的理由から上記範囲が望ましい。
また、添加順序に関しても特段限定はされず、水
溶液チタン化合物またはアンモニウム化合物のい
ずれか一方を先に、あるいは両者を同時に添加す
る方法により行うことができる。 このようにして製造したゲルは、次いでろ過、
洗浄を行い、不純物を除去する。 この残存不純物は、酸化チタンゾルの製造上、
また用途上、少ないほうが好ましい。 ろ過、洗浄手段に関しては特に限定されず、通
常用いられているフイルタープレスや遠心ろ過の
ような注水ろ過、リパルプー遠心分離法等の任意
の手段を用いることができる。 ろ過、洗浄後のゲルは、次いで水熱処理に供さ
れる。 水熱処理条件に関しては、温度は100℃以上で
行うが、一般に処理温度が高く、また処理時間が
長くなるほど、結晶形の発達が良好であり、粒径
の大きなコロイド粒子が得られる。 また、100℃を下回る温度での処理は、長時間
行つてもコロイド粒子が結晶化せず、たとえ一部
が結晶化してもその結晶化は著しく低く、無定形
の性質が残り、本発明の目的を達成することがで
きない。 蓋し、本発明の結晶質酸化チタンゾルの各用途
に応じて処理条件を選択し、所望する粒子径のゾ
ルを得ることができ、その制御が水熱処理条件の
選択によつて可能である点が本発明の大きな特徴
である。 続いて、本発明の水熱処理条件に酸の添加を行
う。添加する酸の種類としては、塩酸、硝酸、酢
酸、蟻酸、乳酸、グリコール酸等を例示できる。 また酸の添加量は、TiO21モルに対して0.01〜
0.60モルの範囲で行う。 この場合、添加量がこの範囲を逸脱すると、本
発明の分散性に優れたゾルを得ることができな
い。 更に、本発明では水熱処理後に酸を添加するこ
とが殊に重要であり、水熱処理前の酸の添加では
本発明のゾルを得ることができない。 (実施例) 以下に本発明の実施例を掲げ、更に説明を行う
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
また%は特にことわらない限り、全て重量%を示
す。 実施例 1 四塩化チタン水溶液(TiO22%)2000gとアン
モニア水(NH32%)2042g(NH3/cl当量比
1.2)を撹はん下で添加し、ゲルを生成した。 これをろ過水洗し、TiO210%のゲルを得た。
このゲル400gをオートクレーブに入れ、250℃で
2時間の水熱処理を行つた後、酢酸/TiO2モル
比0.3となるように酢酸9gを添加し、本発明の
ゾルを得た。このゾルを濃縮するとTiO223%で
流動限界であつた。 またこのゾルをTiO21.0%に希釈し、静置した
ところ、1カ月後の分散安定率は99%であつた。 更に、電子顕微鏡観察によるコロイド粒子径は
170Åであり、X線回折の結果はアナターゼ型結
晶質であつた。 尚、分散安定率は1カ月後にゾル液の上層部か
らサンプリングした液のTiO2濃度を測定し、次
式により算出した。 分散安定率(%)=1カ月後のTiO2濃度/初期のTiO2濃
度×100 実施例 2〜4 四塩化チタン水溶液(TiO23%)10000gと重
炭酸アンモニウム水溶液(NH32%)13404g
(NH3/c1当量比1.05)を、水5000gを予め添加
した反応槽に撹はんを行いながら同時に添加し
た。 生成したゲルを水洗、ろ過し、TiO218%のゲ
ル1630gを得た。このゲルを水で希釈し、TiO23
%としたゲル400gをオートクレーブに入れ、第
1表に示したような処理条件で処理を行つた。 処理後、61%の硝酸1.55g(硝酸/TiO2モル
比0.1)を添加し、本発明のゾルを得た。 これらのX線回折結果を第1表に示し、また実
施例2のX線回折図を第1図に示した。 更に、X線回折の結果からScherrerの式 t=(Å)0.9λ/βcosθ 但し、 t;粒子径(Å) λ;λ=1.542Å(CuKα) β;半価巾(ラジアン) cosθ;2θ=25.3゜とした。 により粒子径を算出した。 粒子径は、電子顕微鏡観察結果からの粒子径と
Scherrerの式からの粒子径がほぼ一致していた。 また比較例として、上記のゲルを同量三ツ口フ
ラスコに入れ、マントルヒータで第1表記載の条
件で処理した。結果を第1表に示した。
及びその製造方法に関する。 酸化チタンは、願料、ペースト改良剤、湿度セ
ンサー、赤外線反射多層膜、触媒、圧電体(チタ
ン酸塩)の原料、二酸化チタン被覆雲母等の多方
面の分野に於て使用されている工業材料である。 (従来の技術) これらの用途に用いられる酸化チタン原料粉末
は、通常イルメナイトに硫酸を加え、その硫酸塩
の加水分解により先ずメタチタン酸を得る。そし
てこれらをろ過、乾燥、焼成する方法(硫酸
法))、硫酸の代わりに塩酸を用いる塩酸法、或い
は無水塩化チタンを気相で熱分解させる方法等に
より生産されている。 しかし、これらの方法により得られた酸化チタ
ン粉末は、一般に粒子径が粗く、また不揃いであ
り、特に均一超微細性を要求される分野への適用
については問題があつた。 一方、無水塩化チタンを気相で熱分解させ製造
する方法が知られているが、この方法は微細な均
一粒子が得られる反面、粒子の分散性が悪く、水
等の溶媒に分散させると、経時と共に沈降分離す
ることで問題がある。 また、特開昭59−223231号記載の内容によれ
ば、硫酸法による酸化チタン製造の際、焼成によ
りルチル型の転位を促進するため、核物質として
添加されるものと基本的に同一であるものをチタ
ニアゾルと云つている。 しかし、このものはその製造方法に明らかなよ
うに、微粒子酸化チタンの製造中間体として得ら
れるチタニアゾルとして、多量の酸を含むことか
ら、本発明の結晶質酸化チタンゾルとは異なるも
のである。 従つて、赤外線反射多層膜、触媒、圧電体用原
料、二酸化チタン被覆雲母等に適用する場合に
は、これらの二酸化チタン粉末では、純度、粒
度、分散性に於て充分でなく、問題が残されてい
るのが現状である。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明者らはこれらの実情に鑑み、純度、粒
度、分散性等の諸特性に於て優れる結晶質の酸化
チタンゾルを得べく、鋭意研究を重ねた結果、新
規な結晶質アナターゼ型酸化チタンゾルを見出
し、本発明を完成したものである。 (問題点を解決するための手段) 即ち本発明は、結晶質アナターゼ型酸化チタン
ゾル及びその製造方法に関し、本第一の発明は、
粒子径500Å以下の結晶質アナターゼ型酸化チタ
ンゾルであり、また、本第二の発明は、水溶溶性
チタン化合物とアンモニウム化合物とを反応させ
ゲルを生成させた後、これを100℃以上で水熱処
理し、酸を添加することからなる粒子径500Å以
下の結晶質アナターゼ型酸化チタンゾルの製造方
法に関する。 (作用) 先ず、本第一の発明である粒子径500Å以下の
結晶質アナターゼ型酸化チタンゾルについて詳細
に説明する。 従来、酸化チタンゾルを製造する方法として、
無機チタン塩水溶液を原料とし、これに含まれる
酸根を何等かの方法により除去するか、或いは酸
チタンを水に加え、加水分解を行うことにより得
る方法が提案されている。また別に、チタンアル
コキシドを各種の手段で加水分解し、ゾルを得る
方法も提案されている。 しかし、これらの方法により得られるゾルは何
れもその結晶形が無定形か或いはチタンの水酸化
物であり、アナターゼ型の結晶質酸化チタンゾル
ではない。 これに対し、本発明の結晶質酸化チタンゾルは
アナターゼ型の結晶形をもち、且つこれが500Å
以下という極めて細なコロイド粒子をを水溶液状
態で供与し、安定なゾル溶液を形成するものであ
る。 非結晶からなる従来のゾルは、化繊、合繊等の
艶消しや、製紙のコーデイングに用いた場合に
は、基材の耐熱性が低いため、非晶質ゾルを結晶
化させることができなかつた。しかし本発明の結
晶質酸化チタンゾルは、このような基材に結晶質
のものを乾燥程度の低温処理でコーデイングでき
ることより、耐薬品性、耐水性が非晶質のものに
比べ著しく向上し、広範な条件下での使用が可能
となるものである。 このようなゾルは従来全く知られていなかつた
ものであり、酸化チタン系複合材料の適用分野に
於て、新たな用途を生み出すものである。 その特徴を挙げれば次の通りである。 第一に、本発明の結晶質アナターゼ型ゾルは、
無定形ゾルに比べて高濃度なゾルで得ることがで
き、酸化チタン−シリカの多層赤外線反射膜を作
成するような場合、一回のコーデイングで所望の
膜厚や反射性能を得ることができる。 第二に、本発明の結晶質アナターゼ型酸化チタ
ンゾルは、ゾルの安定性に優れているので、従来
の二酸化チタン粉末ではコーデイング等の作業の
際に、均一な膜形成が困難であつたのに比べ、本
発明では長期間の保存後もゾルが均一に分散し、
均一なコーデイング膜が得られる。しかも500Å
以下という超微細粒子であるから、二酸化チタン
被覆雲母に適用した場合には、粒子が分子分散状
に均一に分散し、優れた真珠光沢性を与える。 更に、無定形ゾルに比べて高濃度での被覆が可
能であるため、硬牢なものが得られる。 これらのことは、酸化チタン系セラミツクのコ
ーデイング膜の製造に於て非常に有益である。 尚、コロイド粒子径の測定は、電子顕微鏡観察
により行つたが、本発明のゾルは、実質上全ての
コロイド粒子が500Å以下の粒子径であつた。 次に、本第二の発明でる結晶質のアナターゼ型
酸化チタンゾルの製造方法について詳述する。 本第二の発明は、水溶溶性チタン化合物とアン
モニウム化合物とを反応させゲルを生成させた
後、これを100℃以上で水熱処理し、酸を添加す
ることからなる粒子径500Å以下の結晶質アナタ
ーゼ型酸化チタンゾルの製造方法に関する。 本発明に用いる水溶性チタン化合物としては、
四塩化チタン、硝酸チタン、硫酸チタン等を例示
でき、またアンモニウム化合物としては、重炭酸
アンモニウム、炭酸アンモニウム、アンモニア水
等を例示することができるが、これらに限定され
るものではない。 また上記以外の原料として、重炭酸アルカリ金
属塩や炭酸アルカリ金属塩等の使用は、製品ゾル
中にアルカリ金属塩が残留することにより好まし
くない。 本発明では、先ず前記の水溶性チタン化合物と
アンモニウム化合物とを反応させ、ゲルを生成さ
せる。 このゲルの製造条件に関して云えば、両者の反
応の際の温度は、大略10〜90℃で行う。 また添加割合については、アンモニウム化合物
のアンモニウムAと水溶性チタン化合物に由来す
る酸根Bの当量比A/Bが0.9〜1.3の範囲となる
ように行う。しかしこの範囲を逸脱しても、後述
する生成ゲルを洗浄する工程で、上限を越えた場
合、希薄な酸溶液で洗浄し、また下限以下では希
薄なアルカリ性溶液で洗浄することにより、所望
のゾルを得ることができ、特段に限定するもので
はないが、経済的理由から上記範囲が望ましい。
また、添加順序に関しても特段限定はされず、水
溶液チタン化合物またはアンモニウム化合物のい
ずれか一方を先に、あるいは両者を同時に添加す
る方法により行うことができる。 このようにして製造したゲルは、次いでろ過、
洗浄を行い、不純物を除去する。 この残存不純物は、酸化チタンゾルの製造上、
また用途上、少ないほうが好ましい。 ろ過、洗浄手段に関しては特に限定されず、通
常用いられているフイルタープレスや遠心ろ過の
ような注水ろ過、リパルプー遠心分離法等の任意
の手段を用いることができる。 ろ過、洗浄後のゲルは、次いで水熱処理に供さ
れる。 水熱処理条件に関しては、温度は100℃以上で
行うが、一般に処理温度が高く、また処理時間が
長くなるほど、結晶形の発達が良好であり、粒径
の大きなコロイド粒子が得られる。 また、100℃を下回る温度での処理は、長時間
行つてもコロイド粒子が結晶化せず、たとえ一部
が結晶化してもその結晶化は著しく低く、無定形
の性質が残り、本発明の目的を達成することがで
きない。 蓋し、本発明の結晶質酸化チタンゾルの各用途
に応じて処理条件を選択し、所望する粒子径のゾ
ルを得ることができ、その制御が水熱処理条件の
選択によつて可能である点が本発明の大きな特徴
である。 続いて、本発明の水熱処理条件に酸の添加を行
う。添加する酸の種類としては、塩酸、硝酸、酢
酸、蟻酸、乳酸、グリコール酸等を例示できる。 また酸の添加量は、TiO21モルに対して0.01〜
0.60モルの範囲で行う。 この場合、添加量がこの範囲を逸脱すると、本
発明の分散性に優れたゾルを得ることができな
い。 更に、本発明では水熱処理後に酸を添加するこ
とが殊に重要であり、水熱処理前の酸の添加では
本発明のゾルを得ることができない。 (実施例) 以下に本発明の実施例を掲げ、更に説明を行う
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
また%は特にことわらない限り、全て重量%を示
す。 実施例 1 四塩化チタン水溶液(TiO22%)2000gとアン
モニア水(NH32%)2042g(NH3/cl当量比
1.2)を撹はん下で添加し、ゲルを生成した。 これをろ過水洗し、TiO210%のゲルを得た。
このゲル400gをオートクレーブに入れ、250℃で
2時間の水熱処理を行つた後、酢酸/TiO2モル
比0.3となるように酢酸9gを添加し、本発明の
ゾルを得た。このゾルを濃縮するとTiO223%で
流動限界であつた。 またこのゾルをTiO21.0%に希釈し、静置した
ところ、1カ月後の分散安定率は99%であつた。 更に、電子顕微鏡観察によるコロイド粒子径は
170Åであり、X線回折の結果はアナターゼ型結
晶質であつた。 尚、分散安定率は1カ月後にゾル液の上層部か
らサンプリングした液のTiO2濃度を測定し、次
式により算出した。 分散安定率(%)=1カ月後のTiO2濃度/初期のTiO2濃
度×100 実施例 2〜4 四塩化チタン水溶液(TiO23%)10000gと重
炭酸アンモニウム水溶液(NH32%)13404g
(NH3/c1当量比1.05)を、水5000gを予め添加
した反応槽に撹はんを行いながら同時に添加し
た。 生成したゲルを水洗、ろ過し、TiO218%のゲ
ル1630gを得た。このゲルを水で希釈し、TiO23
%としたゲル400gをオートクレーブに入れ、第
1表に示したような処理条件で処理を行つた。 処理後、61%の硝酸1.55g(硝酸/TiO2モル
比0.1)を添加し、本発明のゾルを得た。 これらのX線回折結果を第1表に示し、また実
施例2のX線回折図を第1図に示した。 更に、X線回折の結果からScherrerの式 t=(Å)0.9λ/βcosθ 但し、 t;粒子径(Å) λ;λ=1.542Å(CuKα) β;半価巾(ラジアン) cosθ;2θ=25.3゜とした。 により粒子径を算出した。 粒子径は、電子顕微鏡観察結果からの粒子径と
Scherrerの式からの粒子径がほぼ一致していた。 また比較例として、上記のゲルを同量三ツ口フ
ラスコに入れ、マントルヒータで第1表記載の条
件で処理した。結果を第1表に示した。
【表】
実施例 5
炭酸アンモニウム水溶液(NH31%)10000g
に硝酸チタン水溶液(TiO21%)11520g
(NH3/NO3当量比1.02)を、撹はんを行いなが
ら添加した。得られたゲルを充分に水洗し、硝酸
がウエツトケーキ中に残留していないことを確認
後、これを水で希釈し、TiO28%のスラリー400
gとして200℃で4時間の水熱処理に供した。 次いで、HNO3/TiO2モル比0.05となるように
61%の硝酸2.0gを添加し、本発明のゾルを得た。 この本発明のゾルは、X線回折の結果アナター
ゼ型結晶形を有し、粒子径は180Åであり、また
分散安定率は98%であつた。 また比較のために、水熱処理を行う前に、前記
と同様の硝酸を加えた後水熱処理を行つたが、本
発明のゾルを得ることができなかつた。
に硝酸チタン水溶液(TiO21%)11520g
(NH3/NO3当量比1.02)を、撹はんを行いなが
ら添加した。得られたゲルを充分に水洗し、硝酸
がウエツトケーキ中に残留していないことを確認
後、これを水で希釈し、TiO28%のスラリー400
gとして200℃で4時間の水熱処理に供した。 次いで、HNO3/TiO2モル比0.05となるように
61%の硝酸2.0gを添加し、本発明のゾルを得た。 この本発明のゾルは、X線回折の結果アナター
ゼ型結晶形を有し、粒子径は180Åであり、また
分散安定率は98%であつた。 また比較のために、水熱処理を行う前に、前記
と同様の硝酸を加えた後水熱処理を行つたが、本
発明のゾルを得ることができなかつた。
第1図は、実施例2で得た本発明結晶質アナタ
ーゼ型酸化チタンゾルの60℃乾燥物のX線回折図
である。
ーゼ型酸化チタンゾルの60℃乾燥物のX線回折図
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 粒子径500Å以下の結晶質アナターゼ型酸化
チタンゾル。 2 水溶性チタン化合物とアンモニウム化合物と
を反応させゲルを生成させた後、これを100℃以
上で水熱処理し、酸を添加することからなる粒子
径500Å以下の結晶質アナターゼ型酸化チタンゾ
ルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5017086A JPS62207718A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 結晶質酸化チタンゾルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5017086A JPS62207718A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | 結晶質酸化チタンゾルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62207718A JPS62207718A (ja) | 1987-09-12 |
| JPH0262498B2 true JPH0262498B2 (ja) | 1990-12-25 |
Family
ID=12851727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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